Untersuchungen zur Lichtkraft=Atomlithographie

Diplomarbeit von Dirk Krogmann

vorgelegt am 15. Februar 1996

Konstanz,

fr Physik, Lehrstuhl Prof. Dr. J. Mlynek

1. Gutachter: Prof. Dr. J. Mlynek 2. Gutachter: Prof. Dr. G. Schatz

II

LichtkraftAtomlithographie hoher

die Strukturierung eines geeigneten Substrats mit im Nanometerbereich. Dabei wird ein neutraler Atomstrahl in

einem definierten Wechselwirkungspotential, dem sog. optischen Potential, in den oder Knoten einer LaserStehwelle periodisch und synchron fokussiert. Durch die kleine ato mare de
(AdB

1012m) verschiebt sich das Beugungslimit (bei Brenn zwar zu wenigen

weiten kleiner 100 jtm) im Vergleich zu optischen

jedoch wird in der Praxis der minimale Fokusdurchmesser durch andere Faktoren wie Ab errationen und Divergenz des Atomstrahls auf einige Nanometer begrenzt. Das Erreichen minimaler von ca. 10 nm stellt eine Herausforderung

dar. Einen Schritt in diese Richtung beschreibt die vorliegende Arbeit. Sie sich mit der Herstellung von Linienstrukturen im Nanometerbereich mit Hilfe der Lichtkraft Atomlithographie. Nach einer Einfhrung in die Problemstellung und den Stand der For schung werden die fr die Erzeugung von Nanostrukturen entscheidenden folgenden Punkte behandelt: Bereitstellung von Laserstrahlung gengend hoher Leistung fr eine Kollimation und die Erzeugung eines tiefen optischen Potentials zur Fokussierung eines neutralen ChromAtomstrahls. o Effektive Kollimation eines neutralen ChromAtomstrahls durch eindimensionale transversale Laserkhlung. o Deposition von neutralen ChromAtomen auf ein Substrat durch Fokussierung in ei nem optischen Potential. Das Lasersystem hinreichender einem AtomlithographieExperiment gengend Lichtleistung mit und liefern. Fr die Laserkhlung kann ei

ne Leistung von 250 mW bei um 425 nm bereitgestellt werden. Durch eine EinmodenLichtfaser maximal 30 mW in den optischen Aufbau zur Erzeugung einer LaserStehwelle am Depositionsort der ChromAtome eingespeist werden. Bei Stabilisierung auf einen atomaren mit einer kann das Lasersystem fr mehrere Stunden bei stabiler In von 1 MHz betrieben werden. in seiner transversalen Impulsbreite

Ein im Experiment erzeugter effusiver Atomstrahl iv

stark werden, denn das einer atomoptischen Linse wird unter anderem durch die Divergenz des Atomstrahls begrenzt. Dazu wurde an mehreren

vi des 52Chrom ein eindimensionales transversales Laserkhlexperi ment durchgefhrt. Die Divergenz des Atomstrahls konnte durch transversale Laserkhlung bei allen auf

vii

0,1

mrad begrenzt werden. Der Atomstrahl ist damit stark kol im

limiert. Durch den konnte eine maximale relative Atomstrahl um etwa den Faktor 30 in Ausbreitungsrichtung erreicht werden. Stehwelle liefert dann Linienstrukturen sehr hoher wenn die

Inhaltsverzeichnis

Die Fokussierung von ChromAtomen auf ein Substrat unter Einwirkung einer Laser in der Stehwelle hoch ist und der Atomstrahl stark kollimiert ist. Diese Anforderungen wer den durch das Lasersystem und die transversale Laserkhlung erfllt. Die minimal erreich bare Linienbreite ist durch Faktoren wie Beugungsbegrenzung und Aberrationen begrenzt. Zur Fokussierung der Atome in Linien wurde eine DepositionsGrundplatte aufgebaut, auf der die optischen Elemente zur Erzeugung einer LaserStehwelle aufgebracht sind. Das Licht wird ber eine EinmodenLichtfa.ser auf die in das Hochvakuum der Atomstrahlapparatur eingebrachte Grundplatte eingekoppelt. Ein SiliziumSubstrat wurde im Hochvakuum belichtet. Die ChromAtome wurden zu Li nienstrukturen einer minimalen mittleren Breite (volle Breite bei halbem Maximum) von 71,6 nm im Abstand der Stehwellenperiode fokussiert. Die Hohe der Linien betrug dabei maximal (ohne Untergrund) 6 nm. 2.3 2 1 Einleitung 1.1 1.2 Stand der Forschung Einordnung des Lithographieprojektes 1 2 4 7 9 10 13 15 19 22 24 37 38 38 47
.

Ubersicht

Das Lasersystem 2.1 2.2 Der ArgonlonenPumplaser Der TitanSaphirLaser 2.2.1 Stabilisierung der La.serfrequenz auf einen atomaren Ubergang Die Resonatoren zur Frequenzverdopplung 2.3.1 2.3.2 2.4 Der BLIIRAEffekt Die Einkopplung in die Resonatoren

Die LichtfaserEinkopplung

LichtkraftAtomlithographie 3.1 Theoretische Grundlagen 3.1.1 3.1.2 3.2 zur Kollimation eines Atomstrahls: Laserkhlung Fokussierung eines neutralen Atomstrahls

Experimentelle Realisierung 3.2.1 3.2.2 3.2.3 Die Atomstrahlapparatur Die erreichte Kollimation des ChromAtomstrahls Das Depositionsexperiment

65 65 67 78 87 89

Zusammenfassung und Ausblick

A Das vibrationsisolierende System

viii B Eigenschaften von Chrom Literaturverzeichnis

INHALTSVERZEICHNIS 93 97

Kapitel 1

Einleitung
Die Atomoptik sich mit der Entwicklung optischer Elemente fr Atomstrahlen

mit der Absicht, die Trajektorien einzelner neutraler Atome zu beeinflussen. So ist es in den letzten Jahren gelungen, Spiegel, Strahlteiler und Linsen fr neutrale Atome unter Ausnutzung resonanter AtomLichtWechselwirkung zu verwirklichen [ADA94, PFA94]. Mit Hilfe quasiresonanter Lichtfelder lassen sich also neutrale Atomstrahlen reflektieren, aufspalten und fokussieren. Grundlage dafr sind schmalbandige, monochromati sche und durchstimmbare Laserlichtquellen, die die Manipulation der Schwerpunktsbewe gung der durch Wechselwirkung ihrer inneren Struktur mit intensivem Laserlicht

Die Fokussierung von neutralen Atomen durch atomoptische Linsen Spektrum unterschiedlicher Untersuchung der Topologie von

ein breites

Dabei handelt es sich z.B. um die

mit niederenergetischen neutralen Atomen,

ist die Dipolkraft [CTA89, Inten

aber auch um das gezielte periodische Aufbringen von Strukturen auf ein Substrat. Die fr diese physikalische Wechselwirkung verantwortliche CTA92]. Dabei induziert, im klassischen Bild, das oszillierende elektrische Feld des Lasers in einem Atom ein oszillierendes elektrisches Dipolmoment. Existiert ein des Laserfeldes, so das Atom aufgrund seines induzierten elektrischen gerichtet, schwingt

Dipolmoments eine Kraft. Oszilliert das elektrische Dipolmoment in Phase mit dem elektri schen Feld des Lasers, ist diese Dipolkraft auf Gebiete hoher es Phase, so zeigt die Kraft zu niedrigen Phase. zur Fokussie von Ist die Laserfrequenz wL kleiner

als die atomare Resonanzfrequenz wo, so schwingt der Dipol in Phase, ist wr. > w0, so ist der Dipol

Im Jahre 1978 zeigten erstmals J. E. Bjorkholm et al. [BJO78], rotverstimmtes (wi. <wo) Laserfeld konnten die Atome auf eine

rung einzelner Atome ausreichen. Durch ein zu einem NatriumAtomstrahl kopropagierendes 28 pm auf der Laserstrahlachse fokussiert werden [BJO8O]. Die hoher liegt. war durch spon

tane Emissionen begrenzt, weil der atomare Fokusfieck bei roter Verstimmung in der Region

Einleitung

1.1 Stand der Forschung Photolithographie ist die auf minimal etwa 100 nm

3 durch das Beugungslimit der verwendeten Lichtwel [MOR92J.

T. Sleator et al. [5LE92] gelang es 1992, metastabile He*~Atome in einem Stehwellenbauch einer transversal zum Atomstrahl erzeugten LaserStehwelle lichen wegen der Periode mit einer jedoch von 4 pm zu fokussieren. Die Wechselwirkungszeit war hier krzer als Brennweite von 28 cm beugungsbegrenzt. bei Opti auch im

die Lebensdauer des angeregten Zustands. In diesem Experiment war die

Zu den deponierenden Verfahren die LichtkraftAtomlithographie. Hier liegt das Beu gungslimit (bei Brennweiten < 100 pm) im und spielt deshalb eine tergeordnete Rolle. Auch mit geringen Teilchenenergien kann wegen der Atomen eine gung einer im Nanometerbereich erzielt werden. Es tritt keine parallel ab und Anzahl von Strukturen in einem Schritt. Das Strukturnachbarschaft auf. Der Masse von der ist in Abb. 1.1

Es wurde experimentell nachgewiesen und theoretisch belegt [PRE92, T1M92J, rnierung der die bisher Faktoren eine laterale

so die direkte Erzeu

SubMikrometerbereich erreichbar ist. Wird die Stehwellenperiode auf eine halbe optische reduziert, so ist prinzipiell eine laterale von wenigen Nanometern erreichbar. Eine solche transversale Stehwelle stellt eine ganze Kette von atomoptischen Linsen dar, hinter denen ein Atomstrahl periodisch fokussiert wird. Bringt man an diesem Fokus ein Substrat an, so dort neutrale Atome periodisch und synchron aufgebracht werden. Dieses Verfahren wird in Anlehnung an schon bestehende Lithographietechniken zur Strukturierung von Substraten LichtkraftAtomlithographie genannt.

rA~omsWald~

4
a~i

1.1

Stand der Forschung

des late

Das Forschungsfeld der Nanotechnologie hat in der Lithographie die

ralen Strukturen

von 1100 nm zum Ziel. Die Realisierung lateraler nanometrischer sich durch ablative, photolithographische und deponierende Verfahren er wird eine homogene durch Ablation strukturiert. Im dritten Fall Deponieren des Strukturmaterials

reichen. In den beiden ersten

oder photosensitive Belichtung mit nachfolgenden wird eine laterale Struktur durch direktes, erzeugt. Zu den ablativen und photolithographischen Verfahren Elektronenstrahllithographie sowie Information ber die Struktur enthalten, und zip beruht jeweils auf der Belichtung einer sensitiven

~1P~Y1rYVv~.

z.B. die optische Photo und durch sog. Masken, die die der belichteten oder

Abbildung 1.1: Prozefiprinzip der LichtkraftAtomlithographie. Eine geeignete Quelle erzeugt einen thermischen Atomstrahl. Dieser Abbildung abgestimmt ist. Direkt hinter diesem ist die zu strukturierende dann ei ange

und Ionenstrahllithographie. Das Prin nen Bereich der Strahlkonditionierung, der auf den dann folgenden Teil der atomoptischen ordnet. Im Falle der LichtkraftAtomlithographie ist das atomoptische Element ein stehen des Lichtfeld. Im Bereich der Strahlkonditionierung findet eine Kollimation des divergenten Atomstrahls oder eine reich des Substrats kann dann eine beschrieben werden. Im Jahre 1992 gelang es G. Timp et al. [T1M92], durch ein senkrecht zu einem neutralen NatriumAtomstrahl ausgerichtetes stehendes Laserfeld die Atome auf einem Quarzsubstrat des elektronischen Zustandes der Atome statt. Im Be von bis zu einigen Quadratmillimetern parallel

unbelichteten Region zur Erzeugung der Struktur. Wegen der leichten Ablenkbarkeit von Elektronen und lonenstrahlen kann, bei hinreichender Fokussierung, mit diesen auch di rekt ohne Masken belichtet werden. Wegen der kleinen de von ca. 1 nm. Nachteile sind jedoch u.a. die der hohen Energien, Limitierung der aufwand durch die serielle Belichtungstechnik. Die der erreichen aufgrund scheint an der Elektronenstrahl und Ionenstrahllithographie bei hohen Teilchenenergien eine sehr hohe durch Raumladungseffekte und hoher Zeit

Bereitstellung geeigneter Optiken zu scheitern. Trotz intensiver Erforschung der optischen

Einleitung

1.2 Einordnung des Lithographieprojektes

in Linien zu fokussieren. Diese wurden indirekt ber optische Beugungseffekte nachge wiesen. Die betrug 2940,3 nm. Das Laserfeld wirkte als Kette zy Parameter erzeugte lindrischer Atomlinsen. L~rch Optimierung 45 nm [NAT95}. J. J. McClelland et al. Chrom auf einer

Strahlkonditionierung durch transversale Laserkhl~ing und behandelt das atomop tische Element in Form einer LaserStehwelle. Schwerpunkt ist dabei die Diskussion der fr eine minimale relevanten Parameter. Die Atomstrahlapparatur zur Rea lisierung der Lithographie wird beschrieben. Die experimentell erreichte Kollimation des Atomstrahls und die Experimente sowie die Ergebnisse zur Fokussierung von Chrom in Linienstrukturen werden dargelegt. Mit einer Zusammenfassung und einem Ausblick ber das Lithographieprojekt in Konstanz das Kapitel 4 diese Arbeit.

di9se Arbeitgruppe krzlich Linienstrukturen hohen Kontrasts mit einer Linienbreite von

[MCC931

stellten 1993 nach demselben Prinzip Linienstrukturen aus

mit einer

von 212 nm und einer Linienbreite

von 65 nm her. Diese wurden direkt unter einem RasterKraftmikroskop nachgewiesen, denn im Gegensatz zu Natrium ist eine Chromstruktur selbst an Luft stabil. Chrom haftet sehr gut auf McClelland et al. und zeigt eine sehr geringe der Atome auf der inzwischen im weltweiten Internet eine Linienstruktur mit

Linienbreiten von 46 nm. Diese Gruppe erweiterte die Deposition auch auf zwei Dimensionen. Es wurden gleichzeitig etwa 108 Strukturpunkte pro mm2 einer Breite von 8010 nm erzeugt [GUP95I. Die Herstellung einer Linienstruktur mit Aluminium als einem weiteren Element gelang 1995. Sie weist eine 70 nm [MCG9S]. von nur 155 nm auf und hat eine Linienbreite von etwa

.1 r1

~1

1
Strukturen nahe der theoretischen grenze von 10 nm

1.2

Einordnung des Lithographieprojektes

Die Atomlithographiegruppe in Konstanz widmet sich wie J. J. McClelland et al. seit Anfang 1994 der Erzeugung von Chromstrukturen. Wegen der Kraftmikroskop mit einer identifiziert werden. Es soll an die von McClelland erreichten Ergebnisse angeknpft werden, jedoch mit der Absicht, sich unter Optimierung der fr hohe numerische Simulationen belegte minimale laterale anzutasten. Abb. 1.2 zeigt die dazu relevanten Parameter an die durch von etwa 10 nm her Vorgehensweise. Die vorliegende Arbeit geringen auf kann deponiertes Chrom dann mit einem am Lehrstuhl vorhandenen Raster von etwa 1 nm unter Normalbedingungen an Luft

Linienstrukturen mit Breiten von 46nm

Optimierung der Laser parameter: hohe stabile Laserintensi IL und hohe positive Verstimmung 6. Wechselwirkungszeit Meiner als Lebensdauer t. achromatische Atomlinse. Optimierung der Atom strahlparameter: hohe Kollimation und kurze Depositionszeit. Depositionsbereich: Vibrationsisolierung und Vermeidung ther mischer Ausdehnung.

_____________

beschreibt die Aufgaben, die zum Erreichen dieser Zielsetzung bearbeitet werden mssen. In Kapitel 2 wird das Lasersystem einer Kette atomoptischer Linsen beschrieben. Kapitel 3 die fr eine eindimensionale LichtkraftAtomlithographie welches die zur Laserkhlung und zur Erzeugung Lichtleistung liefert. Die Einkopplung des Lichtes

fr das atomoptische Element in eine Lichtfaser zur Entkopplung vom Gesamtsystem wird

Abbildung 1.2: Angestrebte Zielsetzung der Atornlithographiegruppe fr die eindimensionale

Fokussierung von OhromAtomen.

Das Lasersystem

2.1 Der ArgonlonenPumplaser

L8 wird geeignet in den Resonator R2 eingekoppelt. Der akustooptische Modulator (AOM) ist so justiert, ben wird. die Frequenz des Lichts in die erste O~dnung um +80 MHz verscho L9, Li0 und Lii wird das frequenzverdoppelte Licht, welches nun gegen

das blaue Licht aus Resonator Ri um +160 MHz verschoben ist, geeignet parallel in den LichtfaserEinkoppler3 (LFE) eingestrahlt. Das und der polarisierende
Strahlteilerwrfel PST3 vor dem LFE eine Regulierung der in die Lichtfaser einzukoppelnden Leistung. Eine EinmodenLichtfaser4 fhrt das Licht ber einen Polarisa tionssteller (PS), mit dem die Polarisation des aus der Faser austretenden Lichts eingestellt werden kann, in den Depositionsbereich der Atomstrahlapparatur, wo es zur Fokussierung

L1 L9 PST3 LFE AOM LF L6 L3 1 L1 EOM X/2 PST1 X/2 1,50m

Abbildung 2.1: Das Lasersystem fr die LichtkraftAtomlithographie. Die einzelnen Elemen

der Atome verwendet wird.

R2

L5 R1

In den folgenden Abschnitten wird auf die wichtigen Komponenten des Lasersystems eingegangen.

2.1

Der ArgonJonenPumplaser
der ArgonIonen

Um hohe blaue Lichtleistungen fr die Lithographie zu erhalten, Betrieb bei guter Justierung des leistung von etwa 30 W. Um

Laser5 auf maximalem Entladungsstrom von 60 A laufen. Dies entspricht im MultiLinien hochreflektiven Planspiegels einer Ausgangs transversale Moden

L2

[KNE91]) zu unterdrcken,

wird die Aperturblende am Auskoppeispiegel verkleinert. Dies erlaubt die Einstellung der TEM00qGrundmoden6. Die zwei intensivsten Linien des emittierten liegen bei 488 nm und 514,5 nm (im Sichtbaren blaugrn). Als Pumpmodus fr den Ti:SaphirLaser dient der MultiLinienBetrieb, der maximale Aus gangsleistungen (s.o.). Durch die Verkleinerung der Apertur kann ein TEMoo Betrieb nach einer Warmlaufzeit von etwa zwei Stunden bei 29 W stabil im Dauerstrich auf rechterhalten werden. Die Spezifikation des Lasers von Seiten des Herstellers nennt fr diesen Betrieb lediglich 25 W. Die Fenster der Leistung ist durch strikte Reinhaltung der Brewster und ihrer Staubschilde zu erreichen, die gegebenenfalls im

te sind im Text beschrieben.

Der zweite Strahizweig passiert einen weiteren polarisierenden StrahlteilerWrfel PST2, ber den mit dem davor plazierten riiert werden kann. Das die Leistung in diesem Zweig va nach dem PST2 dient wieder der Optimie L6, L7 und

Ultraschallbad in Methanol gereinigt werden mssen.

3Sog. Launchmaster der Firma FiberLine Ltd. 4,,single mode fiber der Firma 3M. 5Modell Innova 200. 6q ist eine ganze Zahl und beschreibt das diskrete Spektrum longitudinaler

rung der Polarisation im zweiten FrequenzverdopplungsResonator R2.

Resonatormoden.

10

Das Lasersystem

2.2 Der TitanSaphirLaser Schallwellen anregen. Es ist eine

11 der kurzzeitigen Frequenzfiuktua

2.2

Der TitanSaphirLaser
von 851858 nm eine stabile Ausgangs

tionen von der laminaren Luftstromgeschwindigkeit direkt an einem SpektrumAnalysator Der Ti:SaphirRinglaser7 soll bei Verfahren [DUA9O]) im EinmodenBetrieb. zu beobachten. Zur Minimierung dieses Effekts existiert offensichtlich sogar eine optimale Luftstromgeschwindigkeit. Aus diesem Grund wird der Laser durch das zuvor genannte Cavity Side LockVerfahren frequenzstabilisiert. Damit (genauere sich i.a. eine gute erreichen. Der Ein satz der verschiedenen Komponenten des Lasersystems wird im folgenden an Abb. 2.2 kurz auf. Die Frequenz einer dieser Komponenten befinden sich in der Anleitung des Rin glasers [C0H92] oder auch in [END95] und [J0H87].). leistung von etwa 4 W liefern. Eine aktive Frequenzkontrolle (sog. Cavity Side Lock laut Hersteller eine Linienbreite von 0,5 MHz (RMS8) einer longitudinalen Lasermode

treten durch akustische Vibrationen von Spiegeln und der Luft sowie durch Temperaturdrift und Luftdruckschwankungen Die fr diese Effekte wird im folgenden Grundmode TEM009 eines Ringresonators ist gegeben durch:
=

(2.1) (n: Brechungsindex).

q: ganze Zahl, nL: optische D.h. fr die

des Modenabstandes zweier longitudinaler Grundmoden Au

= vq+1

I/q =

(2.2)

gilt:

Av(L,n)
Also ist:

8v Dv ~jAL + Av(L,n) v

fAL AnN L.~z + )

(2.3)

AL + n

(2.4)

Fr eine gute L, also die optische von 0,5 MHz gilt:

ist es also essentiell, den Brechungindex n und die Resona konstant zu halten. Bei der o.g. Linienbreite FPI

Av(L,n)
1J

1,4 * 10

(2.5)
Abbildung 2.2: Das TitanSaphirLasersystem. Die Bezeichnungen erfolgen in Anlehnung an die CoherentAnleitung. Mit P bezeichnete Komponenten sind Spiegel fr den Pumpstrahl, mit M bezeichnete sind Spiegel des Resonatorrings. Weitere Komponenten sind im Text

Aus dieser relativen Frequenzkonstanz ergeben sich fr den Ringresonator mit L = 1,6 m von AL 2 nm (An 0). Die gleiche Fluktuation wird an Luft durch eine von An
=

1,4*109 bei AL

0 verursacht. Dies Innerhalb des Ti:SaphirRingresonators bewirkt die optische Diode (OD), die aus einem FaradayRotator und einem bereich des Lasermediums soweit ein,
9Auch LyotFilter genannt.

sich in den genannten In diesem Zusammenhang ist z.B. auch denkbar, Luftverwirbelungen zwischen den Schrzen der FlowBox, die den Resona tor durch einen gefilterten Luftstrom vor Staubpartikeln schtzt, und dem optischen Tisch
7ModelI 899. 8Die sog. R.MSLinienbreite ist ein fr die Lasers. Sie entspricht der Stan dardabweichung der Frequenzfluktuationen: AVRMS(r) = und ist eine Funktion der r. Dabei ist ((Av(t))2), = . v(r))2dt mit ~5 als die ber der gemittelte Frequenz.

besteht,

sich nur eine laufende Welle

im Resonator ausbildet. Drei frequenzselektive optische Elemente engen den nur eine longitudinale Mode anschwingt. Diese drei Elemente sind der DoppelbrechungsFilter9 (DF), das dnne und das dicke Etalon

12

Das Lasersystem

2.2 Der TitanSaphirLaser

13

(bezeichnet mit 1CA10). Das DoppeibrechungsFilter engt die Frequenzbandbreite auf ca. 2 0Hz ein. Das ICA liefert eine Bandbreite von etwa 10 MHz. Nach 180 MHz 01. 2.2 liegt bei diesem Ringresonator der longitudinale Modenabstand bei

des Arbeitspunktes der Stabilisierung. Dem folgt dann die Laserfrequenz. Dasselbe geschieht bei durch Druckschwankungen im Raum zwischen den Spiegeln des FPI. Um diese Schwankungen zu umgehen, wird mit Hilfe einer Komponente der Atom strahlapparatur (siehe Kap. 3.2.1) die Laserfrequenz direkt am ChromAtomstrahl auf eine atomare stabilisiert.

(n ~ 1). Fr eine Durchstimmbarkeit ohne Modensprnge ist eine Kopplung der frequenz selektiven Elemente mit der erforderlich. Zur der optischen dienen zwei Stellelemente. Das erste Stellele ber einen GalvanometerAntrieb verdreht werden, sich der optische Weg im Reso

ment sind nahezu unter dem BrewsterWinkel in den Strahlengang eingebrachte gekoppel te BrewsterPlatten (BP). Sie so der Laserstrahl einen unterschiedlich langen optischen Weg durch die Glasplatten

2.2.1

Stabilisierung der Laserfrequenz auf einen atomaren

zurcklegt. Nach Abb. 2.2 sind diese so eingesetzt,

Fr Experimente wie die Kollimation eines Atomstrahls durch Laserkhlung, fr alle Pro zesse, in denen optisches Pumpen durch Laserstrahlung angewendet wird, mssen Frequenz von ~ 1 MHz ber einige Stunden Stabilisierungsmethode auf einen atomaren tur illustriert. sein. Dies kann durch folgende erreicht werden [J1T84]. In Abb. 2.3

natorring nicht verschiebt. Damit ist es die Frequenz bei stabiler Aus gangsleistung ber einen Bereich von 20 0Hz kontinuierlich durchzustimmen. Das zweite Stellelement besteht aus dem Spiegel M3, der auf eine Piezokeramik (sog. tweeter) ge klebt ist. Durch Anlegen einer Spannung kann ber den Piezoeffekt die werden. Bei kontinuierlichem Durchstimmen ist die Anderung der des Resonators

ist die prinzipielle Verwirklichung dieser Stabilisierungsmethode an der Atomstrahlappara

mit der Verkippung des dnnen und des dicken Etalons gekoppelt.
Zur aktiven Cavity Side LockFrequenzstabilisierung wird nun ein Teil des Laserstrahls, der durch den Auskoppelspiegel M4 den Resonator abgezweigt. Dieser Strahl wird in zwei weitere Teilstrahlen aufgespalten. Ein Anteil wird in einen temperaturstabilisierten Referenzresonator FPI (FabryPerotInterferometer) eingekoppelt. Der andere Strahl dient als Referenz zur Normierung auf die Laserleistung. Zwei Photodioden A und B erzeugen Spannungen S~ und 52, die proportional zur Leistung der Teilstrahlen sind. Zur Gewinnung eines Fehlersignals wird die Differenz S, S2 auf die Ausgangsleistung B des Lasers normiert. Dadurch ist das Fehlersignal von Leistungsschwankungen des Resonators. Der Nulldurchgang des Fehlersignals, der auf der Flanke des scharfen Transmissionssignals des FPI liegt, dient als Arbeitspunkt der Frequenzstabilisierung. Das Fehlersignal wird aufge spalten und ber zwei an die zwei Stellelemente BP und M3 zurckgegeben. Eine Abstimmung der Frequenz geschieht dadurch, der Arbeitspunkt der Stabilisierung. Auf diese Weise Rckfhrung des Fehlersignals gut ausgeglichen werden. Langzeitdriften (Temperatur und Luftdruckschwankungen) sind jedoch unvermeidbar. Die Laserfrequenz kann in wenigen Stunden um mehrere 10 MHz driften. Temperaturschwan kungen am FPI erzeugen durch
Cavity Assembly ,normalizing beam

Ofenfr

Atomstrahl
kL,v~

DV PD1
4

RS PD1PD2
AV

1
4

lOmm

eine BrewsterPlatte durch

PD2 Apertur Laserstrahl 300nim

innerhalb des FPI verdreht wird. Dadurch verschiebt sich der Transmissionspeak und da~nit

Control Box des Ti:Saphir Lasersystems

dieses Referenzresonators Schwankungen

Abbildung 2.3: Frequenzstabilisierung auf einen atomaren Die nahe am Atom strahl plazierten Photodioden PDI und PD2 detektieren das Fluoreszenzlicht der durch den Laserstrahl angeregten Atome. Das Differenzsignal (DV EIS Regel signal) der beiden Photodioden ist t7j0,~ ist die longitudinale und iirans die transversale Atomstrahlgeschwindigkeit.

14

Das Lasersystem

2.3 Die Resonatoren zur Frequenzverdopplung Sollten einmal die optischen Komponenten des Ti:SaphirLasers stark dejustiert sein, eine sog. Grundjustage des Lasers, ber die eine genommen werden.

15

Ein senkrecht zum thermischen Atomstrahl laufender Laserstrahl kL regt aufgrund der Doppierverschiebung kLilAtom = kL(yiljQ~9 + xitrans) eine bestimmte transversale Geschwin digkeitsklasse der Atome an. Je nach Position der auftretenden Fluoreszenz ion den Photodioden detektierte
Avtran3

Kurzanleitung existiert, vor

sich die

Nach Abb. 2.3 gilt fr die Geschwindigkeiten: Smm 300mm (2 6

Das

Laserlicht

des

Ti:SaphirLasers

passiert

nun

den

optischen

Isolator

1,

der

aus einem

einem FaradayRotator und einem Austritts besteht. Dieser Isolator ist auf eine Anderung der nachdem der Eintrittspolarisator auf die

optimierbar, indem der magnetooptisch aktive Kristall innerhalb des Permanentmagneten verschoben wird. Dabei geht man so vor, senkrecht zum optischen Tisch stehende Polarisation des Ti:SaphirLasers und der Aus

und mit v

~v fr die Frequenz:
Avtrans =

+1,7 * in 52Cr (siehe Anhang B) mit A

=

(2.7) 425 nm

trittspolarisator um Rotator fr die

dazu verkippt eingestellt sind, durch Verschieben des Kristalls die die der Polarisationsebene.

Transmission maximiert wird. An dieser Position im Magnetfeld erzeugt dann der Faraday Im Falle des J9
=

Je =

und einer mittleren Atomstrahlgeschwindigkeit

800 ~ sind z.B. die atomaren

Resonanzkurven, die beide Photodioden sehen, um:

~~trans =

2.3

Die Resonatoren zur Frequenzverdopplung

30 MHz

Das Laserlicht wird durch die Linse L1 (f = 500 mm) im EOM fokussiert. Dieses dient der FrequenzMbdulations(FM)Stabilisierung der beiden Resonatoren R1 und R2. Die Grund einen Nulldurchgang fr die lagen dieser Stabilisierung wurden von Bjorklund et al. [BJO8O] in Form einer Phasen modulationsmethode entwickelt, mit der die Nachweisbarkeit schwacher Absorption und Dispersion verbessert werden sollte. Da nach dem optischen Isolator die Polarisation des Lichts um gegen die Senkrechte zum optischen Tisch geneigt ist, wird mit dem Halbwel vor dem EOM die Polarisation wieder senkrecht gestellt, damit der Laserstrahl durch den EOM in der Phase moduliert wird. Durch die genannte FMStabilisierung werden die beiden externen Resonatoren an die Frequenz des Ti:SaphirLasers angebunden. Der elektrooptisch aktive Kristall [YAR89] liegt im EOM zwischen zwei Kondensatorplat ten, an denen die Spannung mit einer Modulationsfrequenz [~Feld Brechungsindex gilt: n(E)
=
Wm

gegeneinander verschoben. Das Differenzsignal hat dann bei richtiger Position der Pho todiodeneinheit und passender Einstellung des Fluoreszenz der Geschwindigkeitsklasse I~5trans 1
=

0. Hier liegt der Arbeitspunkt der Sta

bilisierung. Dieses Signal eignet sich als gegenber Leistungsschwankungen des Lasers oder (z.B. durch Laserkhlung) unempfindliches Fehlersignal fr die Re gelelektronik des Ti:SaphirLasersystems. Eine Verstimmung von der atomaren Resonanz, 8, die wegen ihrer Auswirkung auf reso nante (siehe Kap. 3.1) hier ein entscheidender Parameter ist und deren genaue ist, kann durch Verschiebung der Pho Kontrolle fr die LichtkraftAtomlithographie

varriiert wird. Fr den vom

todiodeneinheit in Z~Richtung erreicht werden. Verschiebt man z.B. die Einheit um Smm, so verschiebt sich der Arbeitspunkt um 30 MHz. Mit diesem Aufbau kann also die Laserfre quenz um +30 MHz um die atomare Resonanzfrequenz durchgestimmt werden. Der hier verwendete Laser (siehe Abb. 2.2) kann bei 29 W Pumpleistung im Bereich von 851858 nm langzeitstabil2 auf 4 W Ausgangsleistung betrieben werden. Diese Leistung ist in etwa erforderlich, um die im Abschnitt beschriebenen Resonatoren mit den fr die Lithographie erwnschten Lichtleistungen betreiben zu
2Ist der Argonlonenlaser nach etwa zwei Stunden warmgelaufen, u.U. der Ti:SaphirLaser alle ein bis zwei Stunden geringfgig ber ?43, M4 und M5 nachjustiert werden. Oftmals reicht ein Korrigieren des Auskoppeispiegels M4. Die dadurch entstehenden Verschiebungen des La.serstrahls werden ber den Spiegel nach L1 durch drei in den Aufbau eingebrachte Aperturblenden wieder ausgeglichen.

no + ~rE

(2.8)

r: elektrooptischer Koeffizient3 Demnach variiert der Brechungsindex mit der Modulationsfrequenz und bewirkt eine pe riodische Phasenmodulation der durchlaufenden Laserwelle, die parallel zur Richtung des
3Eigentlich das elektrische Feld als man aber den Kristallschnitt so, nur der betrachtet werden, r ist dann eine Koeffizient des Tensors wirksam wird. 1.a.

16

Das Lasersystem Brechungsindex polarisiert sein der Frequenz wz, des Lasers und Das Laserfeld be mit steigenden

2.3 Die Resonatoren zur Frequenzverdopplung dieses Spiegels

17

ordentlichen oder steht nun aus einem Vielfachen von

Wm,

ber eine Impedanzanpassung [MAU94] auf die eingestrahlte Leistung

optimiert werden. Fr Pumpleistungen von bis zu 2 W sind fr beide Resonatoren Spie gel der genannten Transi11ission geeignet. Der Auskoppelspiegel Maus ist fr die Oberwelle

von denen bei kleiner Modulationsamplitude nur die ersten zwei rele

vant sind [YAR89]: (wz, Wm) und (ws, + wm). Bei dem hier verwendeten EOM gengt eine Spannungsamplitude von 10 V. Um die Resonatoren an die Frequenz des Lasers anbinden zu In Abb. 2.4 soll R2 der prinzipielle Aufbau der beiden externen Resonatoren Rl und frequenz so toren sein, die zwei o.g. und + 10 werden [MAU94]. die Modulations der Linienbreite der Resona Jede wird beim Auftreffen auf

(~

6 MHz) liegen. Es wird hier eine Modulationsfrequenz von 10 MHz

2co PD2Q K\I/

der drei Frequenzen

aus

unterschiedlich absorbiert (Verringerung der Amplitude) und eine Phasenverschiebung durch Dispersion. Das von Mein reflektierte und von PD1 aufgenom
Mein

mene Schwebungssignal dieser Anteile (ACSignal) wird in einem Mischer wieder mit dem Signal der Frequenz Wm multipliziert. Dadurch entsteht eine DCSpannung, deren Amplitude zu jenem Anteil des Schwebungssignals proportional ist, der sich in Phase mit w,,~ befindet. Die Phasen beider Signale werden ber einen Phasenschieber so eingestellt, ein Dispersi onssignal mit Nulldurchgang nachgewiesen wird [DRE83]. Dieses Signal wird als Fehlersignal an jeweils einen PlRegler (,Lock Box) gegeben, der ber die PiezoStellelemente PZT die Resonatoren an
Wz,

anbindet. und die

PZT M 2c. ein ein 200mm

Abbildung 2.4: Schematischer Aufbau der Resonatoren zur Frequenzverdopplting in KaliumniobatKristallen (K). Die Photodiode PD2 nimmt direkt die Modenstruktur im Resonator auf; die Photodiode PDI liefert das Signal fr die FMStabilisierung. Mein ist der Einkoppel, Maus der Auskoppelspiegel, Wein bezeichnet den Pumpstrahlradius nach der Einkopplung und Wk den Strahlradius im Kristall. Die Resonatoren dienen der Bereitstellung der fr die atomaren gewnschten in Chrom In einem optischen Resonator wird die umlaufende Lichtleistung Konversionseffizienz15 der Frequenzverdopplung steigt gegenber einem Einfachdurchgang durch den Kristall stark an (Gl. 2.9). Das nichtlineare Medium Kaliumniobat liegt von 50 bis 200 in stabiler Struktur vor und kann wegen seiner sehr starken Tempera des Brechungsindex nahezu lckenlos einen von 840

1070 nm ber sog. nichtkritische Phasenanpassung vom Typ 1 ber die Temperaturkontrolle frequenzverdoppeln. So sind fr den Bereich von 851858 nm Temperaturen von etwa 3 bis 21 erforderlich. Die polarisierte Grundwelle koppelt dabei ber einen ein (20 zigen nichtlinearen Koeffizienten, der fr Kaliumniobat

~)

ist,

an die Polarisation des Mediums an. Die so angeregten Mikrooszillatoren strahlen mit 2w senkrecht polarisiert zur Grundwelle ab. Eine gute Phasenanpassung zwischen der Grund und Oberwelle ist fr hohe Konversion entscheidend. Fr den Fall,
zk = iz~ro4 (16)

von 425429 nm durch einfachresonante Frequenzverdopplung

die

der Grundwelle in die Oberwelle in KaliumniobatKristallen. Diese nichtlinearen Medien werden in den diskreten Ringresonatoren jeweils ber zwei Peltierelemente durch PID Regler14 temperaturstabilisiert. Die Anordnung der vier Spiegel entspricht einer sog. bow tieKonfiguration. Alle Spiegel
14p~oportiona1_Integral_Differential_RegIer

im Kristall

ist als die

1, gilt bei Phasenanpassung mit

Mein sind hochreflektierend fr die Grundwelle. Mein

5Der maximale Konversionsfaktor ist definiert als: (Enj)mar

hat hier fr beide Resonatoren eine Transmission fr Infrarot von 8

%.

~~ftp

bei Einfachdurchgang mit Pkono als

Die Transmission

Leistung der frequenzverdoppelten Welle und P~j,, als eingestrahlte Pumpleistung in der Grundwelle. 6w~: Strahlradius des Fokus im Kristall, Brechungsindex n 2,3.

18
=

Das Lasersystem 2k1

2.3 Die Resonatoren zur Frequenzverdopplung Lv dopplung mit e =

19

(17)

nach [YAR89] fr eine

E20(

Pumpmode: (2.9)

d2 j2p2 eff 1
2 2 AlWk

Definiert man nun die Effizienz der einfachresonanten Frequenzver so gilt [MAB94]:

P2: Leistung der Oberwelle, d~ff: effektiver nichtlinearer Koeffizient, 1: P1: Leistung der Grundmode,
Ai:

(2:1F1 ~

4E p +

(2.10)

mit E~,: Konversionsfaktor bei Einfachdurchgang. Die Gl. 2.10 zeigt insbesondere eine starke quadratische der Effizienz e von den zu minimieren und Kristalle

der Grundmode,

wk:

Strahlradius des Fokus im Kristall. Verlusten Lv. Fr hohe Effizienz ist es also wesentlich, die inneren Verluste der Resonatoren durch hochwertige Spiegel und entspiegelte mit niedriger linearer Absorption zu verwenden. Die durch lineare Absorption erzeugt in den Kristallen ein transversales der Pumpwelle hat. Temperaturprofil, welches die Form der Wegen der starken Absorption treten aber bei ebenfalls sehr starker des Brechungsindex thermische Linseneffekte auf [POL91], die das Modenprofil Fr die Grundwelle entsteht eine Streulinse, fr die Oberwelle eine Sammellinse. Setzt eine Konversion bei Erfllung der Phasenanpassung beider Moden ein, entsteht auch ein longitudinales Temperaturprofil, denn die Leistung in der Oberwelle und damit die Temperatur mit der Propagation durch den Kristall. Dieser Effekt ist jedoch bei geringen Leistungen der Oberwelle unbedeutend. Wegen der starken es zur des Brechungindex in Kaliumniobat kommt der Phasenanpassung der Wellen im Kristall [OKA71]. Diese der Phasenanpassung durch inhomogene thermische Profile ist nicht zu ver hindern. Durch Nachjustage der Hohlspiegel der Resonatoren zur Kompensation der Auf
(Id)).

Alle optimierbaren Parameter fr KleinmanFaktor meter der Lichtmoden:

hohe Konversionseffizienz werden im sog. Boyd [B0Y68]. Dabei handelt es sich um Para

Bedingungen fr die Phasenanpassung der beteiligten Wellen. o Zu Strahlradius w~ der ber die Resonatorgeometrie mit dem aus dem BoydKleinmanFaktor berechneten theoretischen Strahlradius wk 12 pm fr die hier verwendeten 6 mm langen Kristalle bestimmt wird. Wie in [MA0671 gezeigt wird, kann fr
~k

bei

Pumpmode folgende

gemacht werden. Nach Gl. 2.9

ist eine fr hohe Konversion Wird aber 1 2zk, nimmt die Konversionseffizienz wegen steigendem Strahlradius wk wieder ab. Nach [MA067j tritt bei 1 5,68 zk eine maximale Effizienz auf. Danach ergibt sich fr die verwendeten
wk

Kristalle ein

von 8 pm.

Limitierende Faktoren hoher Konversionseffizienz sind: o Lineare Absorption der Grundwelle im Kristall (typisch 12,5 %/cm o Lineare Absorption der Oberwelle im Kristall (typisch 15 %/cm).

weitung der Grundwelle und Erhaltung der Resonanz effekte kontrolliert werden. Die Konversionseffizienz steigt also wegen

jedoch thermische Linsen bei einer

der Grundwelle an, sinkt jedoch nach Erreichen eines Maximalwertes Bei Erfllung der Resonanzbedingung kommt es in den Resonatoren zu einer der Pumpleistung P1, die von den Verlusten im Resonator und der Transmission des Ein koppelspiegels Mein Zu den linearen Verlusten an den Resonatorspiegeln und den Anteil der Grundwelle, kommen die 2.3.1 Der BLIIRAEffekt thermischer Effekte wieder ab. So ist es ab einer gewissen Pumpleistung nicht mehr wegen der thermischen Verschiebung der Resonatormoden

zeitstabile Frequenzverdopplung zu betreiben.

linearen und nichtlinearen Verluste im Kristall hinzu. Der Kristall absorbiert linear einen wird ein Teil bei Phasenanpassung in die Oberwelle kon vertiert (nichtlineare Absorption). Alle linearen Verluste des Resonators werden im Faktor
7,,i steht fr die Grundwelle, 2 fr die Oberwelle. 5Die Werte wurden von C. Maus im Rahmen seiner Diplomarbeit gemessen.

Es gibt noch einen weiteren konversionslimitierenden Effekt, den sog. BLIIRAEffekt19. Er kann hier als Differenz zwischen passiver linearer InfrarotAbsorption, d.h. an einem
9,,Blue Light Induced Infrared Absorption

Das Lasersystem Temperaturpunkt weit entfernt von der Phasenanpassungsbedingung und der linearen InfrarotAbsorption bei durch Frequenzverdopplung erzeugter Oberwelle definiert werden. Dazu nicht der Leistungsverlust der Grundwelle durch Konversion in die Oberwelle. dieses Effekts liefert ein Ladungtransport

2.3 Die Resonatoren zur Frequenzverdopplung

21

eingetreten. Durch die hohe Rekombinationsrate wird das flache zweite Fallenniveau fr die InfrarotAbsorption aktiviert. Die Notwendigkeit von zwei flachen Fallenniveaus wird durch der blauen Lichtleistung von ~ der Effekt ber den Da das flachste Fallenniveau eine in [MAB94J begrndet. Es wurde ein starkes Wiederaufkommen der lichtinduzierten Absorption ab einer

Einen Ansatz fr das qualitative

5*103~

gemessen, nachdem sich darunter

Modell mit drei Fallenniveaus30. Abb. 2.5 soll das Prinzip kurz

nur noch langsam thermische Ionisationsrate aufweisen soll als das im Valenzband d.h. bei beide flachen Fallenniveaus fr die star

IaaaaaShi~aaas~ LB
Lcco Blau TF JRAbsorption JR

zweite, wird es erst bei hoher Konzentration von hoher blauer Lichtleistung. Dadurch sind dann die InfrarotAbsorption aktiviert.

Die Fallenniveaus werden durch Verunreinigungen im Kristall erzeugt. Das

ken Unterschiede im Verhalten verschiedener reiner und dotierter KaliumniobatKristalle gegenber lichtinduzierter Absorption [BUS94]. Alle dotierten Kristalle zeigen bei hoher Leistung in der Oberwelle einen Der BLIIRAEffekt als reine Kristalle. bei aktiver Frequenz werden, d.h. Beitrag durch lichtinduzierte Absorption

~jFF4
Rekombination
des in Kaliumniobat. Eine Er ist im Text gegeben. VB ist das Valenzband, LB das Leitungsband. FF sind die als La flachen Fallenniveaus, TF ist das tiefe Fallenniveau und L bezeichnet die
Abbildung 2.5: Modell zum

jr

verdopplung zu den inneren Verlusten Lv der Resonatoren Die des BLIIRAEffekts in reinem Kaliumniobat zeigt folgende

er kann gegebenenfalls zur weiteren Herabsetzung der Konversionseffizienz beitragen. ten [BUS94], [MAB94]: Eine Absorption der Grundwelle von etwa 0,013 %/cm pro Milliwatt Leistung fr eine Oberwelle von 425 nm bis zu von etwa 5*1O3~. Diese Grenze beruht jedoch auf Messungen und sollte nicht als allgemeingltig fr Kaliumniobat angesetzt werden. Ab dieser Schwelle tritt ein sehr starkes nichtlineares Ansteigen der lichtindu zierten Absorption auf. Die Verluste erreichen mehrere %/cm. Je kleiner der Strahl radius der Oberwelle im Verdopplungskristall ist, desto Strahlradius wk der Grundwelle. Je im die der Oberwelle, desto kleiner ist die Steigung des o.g. in etwa
wk,

Die dominanten erste Fallenniveau sei

in reinem Kaliumniobat sind durch thermische Ionisation von

[REE9I]. Das flachste entleert. Die thermi

ist die

in der

sche Ionisationsrate des zweiten flachen Fallenniveaus sei jedoch kleiner als die des ersten. Das tiefe Fallenniveau wird nun durch blaues Licht (Oberwelle) durch Photoionisation von entleert, wodurch ihre Konzentration im Valenzband ansteigt. Diese in das flache zweite Fallenniveau rekombinieren. Ist nun die Konzentration der Valenzband so auf. Reicht die Energie der InfrarotPhotonen aus, nicht aber dazu, das tiefe Fallenniveau von
20,,Traps

Oberwelle. Dieser Strahlradius ist dabei um den Faktor ~ kleiner als der

linearen Anstiegs der lichtinduzierten Absorption. Im nichtlinearen Teil, d.h. bei hoher Leistung der Oberwelle oder klein zierten Absorption bei unterschiedlichen des Modells in Abb. 2.5 dadurch werden, zweiten flachen Fallenniveau zeigt, der flachsten Fallenniveau jedoch sich die der lichtindu wieder an. Dies kann anhand die InfrarotAbsorption aus dem ist und eine kleine Absorption fr Mechanismus der Absorption aus dem ersten ist.

die Rekombinationsrate in das flache Fallenniveau die thermi Population von

sche Ionisationsrate bersteigt, baut sich in diesem Niveau eine

in den flachen Fallenniveaus anzuregen, zu entleeren, so ist der BLIIRAEffekt

rFFiii.. ~~

..............

Fr

22 2.3.2 Die Einkopplung in die Resonatoren

=

Das Lasersystem

2.3 Die Resonatoren zur Frequenzverdopplung Vielmehr hat sich herausgestellt, bei einer

23 der Einstellung der Kristallposition

im Strahlengang die Ausgangsleistung weiter optimiert weiden kann. Diese Optima treten Nach Abb. 2.1 wird die Laserstrahlung ber L2 (f (f
=

100

mm), L3 (f

76 mm) und L4
Wein

meistens bei einem Durchgang am Rand des Kristalls auf. Zuletzt wird dann die Leistung durch die Einstellung des nach PST1 auf parallele Polarisation der Grundwelle zur bAchse23 des Kristalls maximiert. Um die mechanische ode PD2 des Resonators zu wurden kurze abgedeckt werden,

300 mm) so in den Resonator R1 eingekoppelt,

Mein

sich in der Mitte zwischen den von 178 pm

=

~beiden planen Spiegeln (siehe Abb. 2.4) ein Fokus mit einem Strahlradius ergibt21. Die Transmission des Einkoppeispiegels mm)

8 %. Die Linse L5 (f

100

parallelisiert den divergenten Ausgangsstrahl der Oberwelle. die Resonatorgeometrie

Mikrometerschrauben der Spiegelhalter verwendet. Die aktive wegen der hohen Pumpleistungen mit geht. damit ein si damit die Photodiode nicht in

der inneren Photodi

[MAU94]) errechnet sich der Strahlradius der Grundwelle

im Kristall zu 0k

50 ~tm. Der Strahlradius wurde hier so

gnifikanter BLIIRAEffekt umgangen werden kann und die Phasenanpassung wegen klei nerem Temperaturgradienten besser ber das Strahlprofil erfllt werden kann22. Mit 2 W steht genug Pumpleistung zur Verfgung, um die sinkende Konversion aufgrund des Strahlradius (siehe 01. 2.9) zu kompensieren. Eine hohe Konversion steht fr die AtomlithographieExperimente im Hintergrund, nur eine hohe Leistung der Oberwelle ist entscheidend. Der so betriebene Resonator liefert bei 2 W Pumpleistung eine Leistung von bisher maximal 250 mW in der Oberwelle bei 425429 nm. Er kann einer periodischen Durchstimmung der Frequenz des Ti:SaphirLasersystems von 1,5 0Hz stabil ohne Leistungsverlust folgen, was einem Durchstimmbereich von 3 0Hz fr die Oberwelle entspricht. Dieses Licht wird im Experiment zur Laserkhlung verwendet. der Justage auf Resonanz der Orundwelle waren keine signifikanten thermischen Effekte bemerkbar, was durch die Wahl eines Resonatorgeometrie nicht darauf korrigiert werden Strahlradius untersttzt wird. Da die erwies sich dieser Resonator als

Der Resonator R2 ist identisch wie R1 aufgebaut. Alle o.g. Aussagen zur Optimierung der Ausgangsleistung der Oberwelle gelten genauso fr ihn. Auch hier wurden lange Mikrome terschrauben der Spiegelhalter durch kurze ersetzt. Die innere Photodiode PD2 wurde hier vor Streulicht geschtzt, indem sie so in Knetmasse eingebettet wurde, wieder durch Licht, welches auf wird, nur noch auf die aktive

treffen kann. Zudem bleibt sie dadurch lange Zeit stabil an ihrer Position. Das hat sich als Vorteil bei der Justage von R2 auf die Resonanz erwiesen, die lange nicht so schnell und einfach wie~bei R1 denn der Strahlradius im Kristall wurde hier deutlich kleiner und die Strahlen treffen aufge um einen Dadurch verkrzt sich die

weitet auf die Spiegel. Der Strahlradius im Kristall wurde hier kleiner optimale Konversion zu Strahlradius w~, zu erhalten.

Vergleich der Ausgangsleistungen mit einem Resonator nahe am theoretischen Wert des fr

L6 (f = 300 mm), L7 (f = 300 mm) und L8 (f = 200 mm) wird in der Mitte zwischen den Planspiegeln ein Strahlradius Wein von 78,5 pm erzeugt. Daraus resultiert ein 0k von 27 pm (24) Die Transmission von Mein wieder 8 %. Der divergente Strahl der Oberwelle wird durch L9 (f Trotz theoretisch ne
=

schnell und einfach einzujustierende Einheit. Bei Dejustage der Spiegelpositionen ist die Ein stellung der Resonanz schnell ber das Signal der inneren Photodiode PD2 erreicht. Es ist darauf zu achten, gel sich die Lichtstrahlen der Grundwelle in der Mitte der Spie an ~ befinden und nur in einer Ebene parallel zum optischen Tisch

150 mm) parallelisiert. Konversion bei kleinerem Strahlradius Wk (01. 2.9) wird hier kei

Ausgangsleistung der Oberwelle als bei R1 erzielt. Bei einer Pumpleistung von

laufen. Zur Optimierung der Ausgangsleistung der Oberwelle wird am besten eine Photodi ode verwendet, mit der das Signal der Oberwelle an einem Temperaturpunkt aufgenommen wird, an dem die Phasenanpassungsbedingung nur gering erfllt ist. Dann wird lich durch Justage des Auskoppelspiegels Maus dieses Signal maximiert. Die Einstellung der Temperatur zur Phasenanpassung liefert dann eine optimierte Ausgangsleistung. Der Pumpstrahl dabei nicht notwendig symmetrisch mittig durch den Kristall laufen.
von

2 W treten durch Verbreiterung der Resonanz im Signal der Photodiode PD2 bemerkbare thermische Effekte auf. Durch Anpassung der Resonatorgeometrie wurden hier bei 2 W Pum pleistung bisher maximal 150 mW in der Oberwelle gemessen. Auch dieser Resonator folgt einer periodischen Verstimmung von 3 0Hz fr die Oberwelle stabil ohne Leistungsverlust. Durch die Linse L6 wird ein Fokus von 118 pm im akustooptischen Modulator (AOM)
23Der Pumpstrahl
W

entlang der aAchse laufen, die erzeugte Oberwelle ist parallel zur cAchse von

21Die Berechnung der Optiken erfolgte unter der Annahme von Strahlung. 22Obwohl der in R1 maximal erreichten Leistung der Oberwelle von 250 mW eine 6*1O3~& entspricht

polarisiert. 24Der in R2 maximal erreichten Leistung der Oberwelle von 150 mW entspricht eine
~

io*1n3 Lt IV

Das Lasersystem
erzeugt. Der Kristall im AOM besteht auf der einen Seite aus einem aufgebrachten Pie zotranslator und auf der anderen Seite aus einer Absorberschicht fr Schallwellen. Eine durch den Piezotranslator e. ...eugte Schallwelle den Brechungsindex n des Materials periodisch: /Sn(z,t)
=

2.4 Die LichtfaserEinkopplung

25

der Manteldurchmesser standardisierter EinmodenFasern wie bei Multimoden~Fasern bei 125 pm liegt. Eine etwa 12 pm dicke Lackierung aus Epoxy schtzt Kern und Mantel vor Feuchtigkeit und eine weitere Acrylatbeschichtung27 zum allgemeinen Schutz den Durchmesser dieser Faser auf insgesamt 190 pm. Die numerische Apertur25 0,12. Das Brechungsindexprofil ist ein Stufenindex sog. WForm, d.h. der Brechungs index des Kerns ~ springt bei radialem kleineren Wert nMantej und weiter auf den in den Mantel direkt auf den dort etwas Wert bei von etwa 60
=

durch den Kristall und

dabei

zSnsin(w3t

k3z)

(2.11)

mit z: Ausbreitungsrichtung der Schallwelle, und: k, = = c Diese Welle wird dann in der Endschicht des Kristalls absorbiert. Die durchlaufende Licht welle wird an dieser Schallwelle reflektiert, wenn die BraggBedingung

das Acrylat. Die Faser erleidet eine das Absorptionsgesetz gilt mit ~[dB]
Pein

10 log

9~:

in die Lackierung und entsprechend 0,06

l0_0.006

(2 13)

Mit P~j, als eingekoppelter und

=

Paus

als aus der Faser austretender Lichtleistung ergibt sich

XL

(2.12)

fr eine

von L = 1 m eine Absorptionskonstante von a = 1,4 %/m.

mit 9: Winkel zwischen den Ausbreitungsrichtungen von Licht und Schallwelle, und XL: des Laserlichts erfllt ist. Dabei gelten im Teilchenbild bei Wechselwirkung von Photonen mit Phononen der Energiesatz, der die Frequenzverschiebung der Laserwelle ausdrckt und der Impulssatz, der die Trennung der Beugungsordnungen der Bragg.Bedingung um w, beschreibt. die Laserfrequenz um w3 Der vor dem Resonator R2 eingesetzte AOM ist so justiert,
=

Im Rahmen der Theorie der Ausbreitung elektromagnetischer Wellen in dielektrischen Wel lenleitern mit Stufenindex

[YARS5]) ergibt sich der Kernradius29, bei dem bei gegebenem

Brechzahlprofll nur noch eine Grundmode durch die Faser gefhrt werden kann. Eine Faser und ihr Modenspektrum sind durch zwei Parameter charakterisiert. Dabei handelt es sich um den relativen KernMantel.Brechzahlunterschied
= ~Kern

4lantei ~Kern

24ern

+80 MHz verschoben und der Laserstrahl in die +1. Beugungsordnung abgelenkt wird. dann eine Frequenzverschiebung um +160 MHz. kann gesagt werden, bei der Einkopplung in die Frequenzverdopplungs Strahltaille im Kristall im Bereich von 50 pm in Bezug

und die sog. normierte Frequenz V, die einen charakteristischen Faserwert darstellt:
2irric~ ;/i$<ern

Dieser Strahl wird ber die geeignete Optik in den Resonator eingekoppelt. Die entstehende Oberwelle

7~4rantei = 2wTiKernrKern

(2.15)

rKern:

Kernradius,

XL:

Resonatoren die Wahl einer bleibt noch offen, ob noch Ausgangsleistung fhren

auf die erreichbare Ausgangsleistung besser ist als die Wahl einer kleinen Strahltaille. Es Strahlradien zu einer weiteren der

Der charakteristische Felddurchmesser knpft [MAR77]:

WMFD

und der eigentliche Kerndurchmesser

2rKcrn

der Lichtfaser sind fr die hier verwendete StufenindexFaser durch folgende Formel ver (2.16)
<

rK~n=wMFD(l,3

3,24

5,76\_1

2.4

Die LichtfaserEinkopplung

Die theoretische Analyse zeigt,

in einer StufenindexFaser mit V

Vkrit = 2,41 nur

Das Licht des Resonators R2 soll in eine EinmodenLichtfaser eingekoppelt werden. Die
se Faser hat einen charakteristischen Modendurchmesser WMFD25 von 2,4 pm bei 400 nm und einen Manteldurchmesser26 von 65 ~zm. Es sei hier angemerkt,
25,,mode field diameter 26,,cladding diameter

eine fundamentale Strahlungsmode gefhrt werden kann. Fr die verwendete Einmoden Lichtfaser mit einer vom Hersteller angegebenen
27jacket 28N.A. = V~4ern 29,,core radius
u1~~ng~j,

von Xkrit

355 nm

entspricht dem Sinus des Akzeptanzwinkels.

Das Lasersystern
gilt:
rKern =

2.4 Die LichtfaserEinkopplung

27

mit der Steuereinheit der Linse gekoppelt und aktiv auf ein Optimum stabilisiert werden. Um ein erstes Transmissionssignal zu erhalten, kann die 2ir
*

der Linse periodisch der yPosition anhand einer LED

(N.A.)

1,l3pm von 425 nm:

(2.17)

durchgefahren werden und simultan durch Qualitativ kann der Durchgang einer

und damit bei der fr die Experimente

=

Leistungsanzeige das Photodiodensignal gesucht und daraufhin optimiert werden. Mode durch die EinmodenFaser folgender der (2.18) beschrieben werden. Trifft eine ebene Welle, die keine Beugungsaufweitung erleidet, mit einer sich ber Kern und Mantel erstreckenden Phasenfront auf die Faser, so wird sie wegen der der Phasenfront im Kern relativ zum Mantel fo Welle mit Fokus auf der

2irrj<.,,.,.

(N.A.

2,01 <V~~j~

und mit Gl. 2.16:

WMFD =

2,53

rKern

2,86pm

= LSJMFD42S.

(2.19)

kussiert

(flKern >nMantez).

Trifft nun eine

Fr Werte von V > 2,41

auch Moden

Ordnung durch diese Faser gefhrt

(dort hat sie dann eine ebene Phasenfront) auf die Faser und berlappt die Strahlachse mit der Faserachse, erleidet der Strahl eine Beugungsaufweitung, die aber durch die genann te fokussierende Auswirkung des Brechungindexprofils kompensiert wird. Ist der Fokus am Faseranfang zu klein, so berwiegt der Beugungseffekt, ist er zu eine genaue Kompensation beider Effekte der o.g. charakteristische Felddurchmesser lere Brechungsindex des Kerns berwiegt der fokus sierende Effekt. Es existiert eine optimale mittlere EinkoppelStrahltaille3t, bei der die Welle und mit konstantem Strahlradius und ebe
LIJMFD.

werden, d.h. unterhalb der o.g. Abschneidefrequenz Akrjt wird sie zu einer MultimodenFaser. Typische Werte fr Li fr EinmodenFasern liegen bei 0,31 % [NEU88J. Die Faserkopplung wird mit Hilfe des LichtfaserEinkopplers (LFE), einem elektro mechanischen System, vollzogen. In Abb. 2.6 sind die entscheidenden Komponenten dieses Systems skizziert.
L

nen Phasenfronten als fundamentale Mode durch die Faser gefhrt wird. Dieser Radius ist Die Mode wird auch durch Windungen zu R gefhrt, da an Stellen der Biegung mit Krmmungsradius R zu kleinerem R hin der mitt (gestauchte Seite) und nach
Lichtfaser

erniedrigt wird (gedehnte Seite) und deshalb die Phasenfronten innen langsamer laufen als und der Biegung folgen. Die Symmetrie der gefhrten Phasenfronten bleibt erhalten. Allerdings berlagern sich in der Biegung die Strahlachse und die Faserachse nicht mehr, die Strahlachse wird nach gleicher Strahltaille wie an der zu R verschoben. An der der Faser abgestrahlt. mechanischen hat einen kreisrunden Kern und ist der Faser Mode mit

z
4bmm

verschwindet der fokussierende Effekt und es wird eine divergierende

4/

Bei einer idealen EinmodenFaser, d.h. sie besteht aus einem isotropen Material, ist frei von jedem inneren und keinen elektrischen und magnetischen Feldern ausgesetzt, regt die EinkoppelWelle zwei

Abbildung 2.6: Das elektromechanische System zur Fasereinkopplung (Launchmaster).

Eine

findet sich im Text.

entartete fundamentale Moden orthogonaler Polarisation an. Die Superposition beider Fun damentalmoden ergibt dann i.a. eine elliptisch polarisierte Fundamentalmode. Die Form der Polarisationsellipse sich nicht mit der der idealen Faser. sich Eine reale Faser besitzt jedoch keinen wirklich kreisrunden Kern, ist mechanischem Druck ausgesetzt oder ist verdrillt und gebogen, die Form der Polarisationsellipse ber die der Faser. Form,
3tStrahltaille
=

Das Laserlicht wird durch eine kleine achromatische Linse L (f = 10 mm), die ber elek tromagnetische Ansteuerung ihrer Halterungseinheit um 0,25 mm in x und yRichtung ausgerichtet werden kann, auf die Faser wird mit der EinmodenLichtfaser fokussiert. Die in der Kerbe eines in zRichtung um 2,5 mm verschieb

der Faser. Man spricht dann von einer induzierten Doppelbrechung in und Lage der Polarisationsellipse dabei von den relativen
Strahlradius im Fokus.

baren Tisches fixiert. Ein Transmissionssignal durch die Faser kann ber eine Photodiode
30Die vom Hersteller gelieferten Magnetstifte, die die Faser in die Kerbe des zTisches drcken, erwiesen sich bei der hier verwendeten dnnen Faser als ungeeignet.

28

Das Lasersystem

2.4 Die LichtfaserEinkopplung

29

Amplituden und Phasen der i.a. nicht entarteten orthogonal zueinander polarisierten Fun damentalmoden ab. Genau wie in einem doppeibrechenden Kristall den Polarisationszustand transmittierten Lichts. Die maximal durch eine EinmodenFaser hindurchfhrbare Leistung der Fundamentalmode ist durch Verlustmechanismen begrenzt. Im folgenden werden einige wichtige vorgestellt (innere Verluste). Intrinsische Absorption im Glasmaterial: fr kleiner etwa 500 nm reicht die Energie der Lichtwelle aus, Bindungselektronen im Glasmaterial anzuregen und Energie in Form von abzugeben. Hier liegt die sog. UVAbsorptionskante, die ber 1,6 pm innere Vibrationsschwingungen von SiOr um 425 nm nicht nach [WAL86J einem Exponetialgesetz aAb, cc e~L gehorcht. Genauso werden durch dazu so eine Lichtfaser

stimulierte BrilloinStreuung und stimulierte RamanStreuung an Bedeutung gewin nen [L1N86]. Die Streuprozesse erzeugen Moden im Faserkern gefhrt werden oder der Brechungsindex werden o Verluste durch lokale des Kernradius, Faserbiegung und Fasertorsion, wobei [GL079J. wie die die nicht mehr

Leistung ber Strahlung verlorengeht [NEU88J. Die in Abb. 2.1 dargestellte Optik L9, L10 und Lii wurde zur optimalen Fasereinkopplung bei einer von 425 nm wie folgt ermittelt.

Das aus dem Resonator R2 austretende Licht wurde durch eine Linse parallelisiert und mit
einer kurzbrennweitigen Linse auf ein in einer xyMikrometerJustierhilfe fixiertes Lichtfa serende fokussiert. Am anderen Ende der Faser wurde durch ses Licht wurde durch die Linse L (f wurde die Faser genau wie bei der der Linse L auf die
mit
=

das Licht fr

der xyPosition der

Moleklen angeregt. Dies wird als IRAbsorptionskante bezeichnet und ist fr die in den AtomlithographieExperimenten verwendeten weiter bedeutend. o RayleighStreuung: da alle transparenten Materialien oder in Form von

aufgebauten Justierhilfe ein schwaches durch die Faser transmittiertes Signal erzeugt. Die 10 mm) des LichtfaserEinkopplers geschickt. Dabei Einkopplung auf dem zTisch mit Knetmasse32

(siehe Abb. 2.6) befestigt und mit Hilfe der xySteuereinheit des LFE wurde die Position Durchgang des Lichts durch den LFE optimiert. Wird nun dem zVerschiebetisch auf etwa 10 mm Abstand von L gebracht, so
= =

Dichteschwankungen, die den Brechungindex in der Faser

lokal aufweisen, ist die RayleighStreuung ein fundamentaler Verlustmecha nismus. Er steigt mit abnehmender berproportional stark an. Es gilt:

wird das durchgehende Licht durch die Linse parallelisiert. Der Strahlradius dieses Lichts wurde ausgemessen und auf kreisrunde Form mit w,, achromatische Linse L auftreffen. Der experimentell bestimmte Strahlradius kann fr die achromatische Linse theoretisch berprft werden. Die Fortpflanzung eines optische Elemente Strahls durch Linsen und andere
ZR

1,020,1 mm bestimmt. Also

sollte der in die Faser einzukoppelnde Laserstrahl genau mit diesem Strahlradius auf die cc
~

(2.20)

o Absorption an Verunreinigungen: besonders starke, aber begrenzte Absorptionsspit zen bei verschiedenen verursachen OHIonen, die durch Feuchtigkeit um in die Faser eingedrungen sind. In dem hier verwendeten UVAbsorption.

sich mit Hilfe des komplexen Strahlparameters q(z) := z + izR (Aus

=

425 nm sind sie allerdings unbedeutend gegenber der RayleighStreuung und der

breitung in zRichtung) beschreiben [YAR89]. Fr einen Strahl mit der und Lage der Strahltaille wo bei z 0 gilt:

1 FresnelVerluste: beim Verlust durch Reflexion an der des Lichts in die Faser mit R
= flKern+l

4 %

1 R(z)

Z2()

(2.21)

dasselbe nocheinmal an der Aus R(z): Krmmungsradius der Phasenfronten.

o Verluste durch nichtlineare Effekte in der Faser: in EinmodenFasern wird die Licht leistung durch einen sehr kleinen Querschnitt gefhrt. Bei 100 mW Leistung z. B. treten auf 2,5 pm Durchmesser stungen von einigen 10 mW von 2*106~ auf. Schon bei kleinen Lei nichtlineare Effekte wie Selbstphasenmodulation,

Der optimale charakteristische Modendurchmesser zur Fasereinkopplung bei 425 nm 2,86 pm. Also wird ein Strahlradius von w0
=

1,43 pm angesetzt und die Fortpflanzung des

32Die fr die Faser vorgesehene Kerbe und Fixierung durch Magnetstifte im zTisch ist fr den standar disierten Faserdurchmesser yen 125 pm optimiert.

30 Strahls durch die Linse L mit f

=

Das Lasersystem 10 mm mit Hilfe des ABCDGesetzes [YAR89] formuliert. 1 mm betragen. und:
=~

2.4 Die LichtfaserEinkopplung aber auch durch kleine he Abb. 2.4) unter

31 der Position des ResonatorAuskoppeispiegels Mau, (sie ein Verlust an Leistung in Kauf genommen werden. Strahlen wurde deshalb die Position der ist, auf

Dieser Radius sollte dann wieder

qo

iirwg
= :;~

(rein

qi Luft,

Aqo+B Cqo+D

(2.22)

Wegen der Berechnung der Optik fr

WMFD42S

Linse Lii ber einen Verschiebetisch variabel gehalten, um den Fokus mit Durchmesser an der der von der Position von Lii stark maximale Transmission durch die Faser optimieren zu

Mit der ABCDMatrix fr das System Luft M=3

Linse

(a+b)(J+1) 7
a+1

)
(2.23)

Fr eine optimale Einkopplung in die Faser mit dem LichtfaserEinkoppler LFE sind die exakte Position des LFE im Strahlengang, d.h. die optische Achse des Systems Einkoppel Strahl und Linse L soll dend. genau mit der Faserachse berlappen, sowie eine entschei EinkoppelMode und ein sauberer Schnitt der

mit a: Abstand Faserende ~ Linse, b: Abstand Linse ~ Strahlradius, folgt nun:

darf die Einkoppellinse nur geringe Aberrationen aufweisen. Insbesondere Verluste).

die drei ersten Punkte sind dabei wesentlich fr Verluste verantwortlich, die schon beim

irn4

(i~+(a+b)(~+I) 7) ~L
7~AL

Einkoppelvorgang des Lichts in die Faser auftreten Der

f+l

der optischen Achse mit der Faserachse kann mit einem xyzVerschiebetisch, EinkoppelMode ber R2 unter viel Leistung in

Nach der Aufspaltung in Real und b

=

und den Forderungen

auf dem der LFE befestigt ist, und dem letzten Spiegel vor dem LFE (siehe Abb. 2.1) sehr gut kontrolliert werden. Eine eventuellem Leistungsverlust eingestellt werden. Es hat sich gezeigt,

f und
E

einer schlechten Mode schlechter durch die Faser transmittiert wird als weniger Leistung Realteil 0, da qi rein sein in einer guten Mode. Vorrangiges Ziel bei der Justage von R2 ist also die Erzeugung einer TEM00Mode in der Oberwelle ergibt sich fr den Strahlradius w1:
=

hoher Leistung. Ein weiterer entscheiden der Mit ei

der Punkt ist

~Lf

die einwandfreie

irw0

946 prn.

(2.24)

nem Faserschneider~ sind einwandfreie Schnitte durchfhrbar. Eventuelle Risse und schlechter Schnitte wirken schon als Streuzentren, bevor berhaupt Licht in die Faser ein treten kann. Mit einem Lichtmikroskop kann die berprft werden.

Der experimentell ermittelte

Strahlradius zur Fasereinkopplung stimmt sehr gut mit die

dem theoretischen Wert berein, bedenkt man insbesondere,

Die aus dem LFE austretende Lichtfaser LF wird durch einen Tefionschlauch, in den die Faser eingezogen wurde, vor mechanischen Einwirkungen geschtzt. Wegen des kleinen Ein koppelfokus entstehen bei 100 mW Leistung sich auf der einbrennen von einigen i06~. Um die maximal erreichbare Trans austretende divergierende Aus diesem Grund wird der LFE durch eine PlexiglasBox vor Staubpartikeln geschtzt, die mission durch die Faser herauszufinden, wurden ber den LFE Fasern verschiedener auf ihre Transmission hin untersucht. Der aus der gerichtet. Abb. 2.7 zeigt die
~c1eaver der Firma York.

Brennweite der Linse L mit einem Fehler von einigen Prozent behaftet ist. Mit der Kenntnis dieses EinkoppelStrahlradius wurde nun die geeignete Optik L9, LiD und Lii unter Annahme mm erzeugt. Die Linsen L10 (f Strahlen berechnet. Nach L9 (f
= =

150 mm) wird ein paralle

= =

ler Strahl mit einem durch die ChopperMethode bestimmtem Profil w,, 100 mm) und Lii (f
WMFD42s =

1,940,1

50 mm) wirken als Teleskop und wurde, wird die des Modenprofils durch ther

erzeugen so den erwnschten Strahlradius Oberwelle, die den Resonator R2 mische Effekte

Wie in Kap. 2.3

wegen der

Strahl wurde dazu mit einer Linse parallelisiert und auf den Detektorkopf eines Leistungs

eine GauWsche Grundmode sein. Die Modenform

sehr stark von der Kristallposition bezglich der Pumpwelle und der Temperatur ab. Bei Op timierung der Modenform der Oberwelle durch geringe Positions und

34,,field master

II

r r

32 Die ausgekoppelte Leistung resultiert aus allen Verlusten bei einer von 425 nm. Alle

Das Lasersystem und weiter oben genannten inneren wurden mit derselben Die und einen polarisierenden

2.4 Die LichtfaserEinkopplung

33

Verluste durch ungenaue Einkopplung. Dabei wur4e jedoch beim Faserwechsel die Position des LFE nicht L Es war hier an und die nur der Abstand der von der Linse korrigiert und die xyPosition von L auf maximale Transmission optimiert werden. ~ 30% der Einkoppelleistung durch die Faser zu transmittieren. Ab sich die Werte der Ausgangsleistungen der Fasern ab dieser Leistung Einkoppelleistungen. beginnen abzufiachen. Es ist gut der Verlauf der Transmission bei noch

EinkoppelMode untersucht, die Einstellungen des Resonators R2 blieben EinkoppelLeistung wurde daher ber ein StrahlteilerWrfel PST3 (siehe Abb. 2.1) variiert.

etwa 80 mW Einkoppelleistung

in diesen Fasern nichtlineare Verlustmechanismen an Bedeutung gewinnen. Interessant zu 30 untersuchen

25 20
2
07

Fr erste LichtkraftAtomlithographieExperimente reicht jedoch eine Leistung von etwa 30 mW in der Stehwelle (siehe Abschnitt 3.1.2) aus. Bei maximal mit R2 erreichbaren Aus gangsleistungen von 150 mW ist also eine Transmission von 30 % durch die Faser vollkommen ausreichend.

15 10 5 0 0
0~~ 1

tu 0~

O,5m 2m 4m
20 40
rein

Der Polarisationszustand des aus der Faser austretenden Lichts kontrolliert werden einen genaaen Aufbau.

fr die Experimente

Zur Einstellung einer beliebigen Polarisation dieses Lichts dient

der in Abb. 2.1 durch drei Kreise dargestellte sog. Polarisationssteller PS. Abb. 2.8 zeigt

60

80

100

[mWj

Abbildung 2,7: Messung der Transmission durch EinmodenFasern verschiedener bei einer von 425 nm. Aufgetragen ist jeweils die Ausgangsleistung gegen die eingekoppelte Leistung. Die sind angegeben. Das Licht der von 425 nm soll durch die Faser in die Vakkuumapparatur und

flH

~n~n~n
1~1

dort auf eine kleine vibrationsisolierte Grundplatte (siehe Abschnitt 3.2.3) zur Erzeugung des optischen Potentials durch eine Stehwelle eingekoppelt werden. Die dazu 6 m. Nach Abb. 2.7 ist in einem einer bis 4 m kein signifikanter Unterschied zwischen der Transmission durch verschieden lange Fasern zu erkennen. Bei von 6 m ist dasselbe Verhalten zu erwarten. Die geringen Unterschiede der FaserEintritts und auch Faser ist bei verschiedenen Fasern prak wurde allerding stets unter einem Lichtmikroskop in der Transmission rhren von der her. Eine wirklich gleiche tisch nicht erreichbar. Eine hohe berprft. Bei einer von 425 nm sind die UVAbsorption und die starke

245rnrn
Abbildung 2.8: Der Polarisationsst eBer PS zur Kontrolle des Polarisationszustandes des aus der Faser austretenden Lichts. Die Funktionsweise wird im Text Die Faser wird mit einer zu berechnenden Anzahl von Wicklungen um die drei dargestell ten Scheiben durch den Polarisationssteller gefhrt. Durch Verkippen der Scheiben wirken diese auf das durch die Faser laufende Licht als charakteristische einstellbare Dabei wird sich die spannungsinduzierte Doppelbrechung in der Faser, die schon weiter oben wurde, zu Nutze gemacht. Die gefhrte Fundamentalmode kann fr reale Fasern in zwei nicht entartete, orthogonal zueinander polarisierte Fundamentalmoden

RayleighStreuung in der Faser fr starke Verluste verantwortlich. Dazu addieren sich noch

34

Das Lasersystem

2.4 Die LichtfaserEinkopplung Fr den aufgebauten Polarisationssteller folgt mit Rs und ne

=

35 1,66 cm, rMantel

=

zerlegt werden. Auf langen optischen Wegen durch die Faser wird der Zustand der Polari sationsellipse als Funktion von thermischem oder mechanischem varriiert. Nach [LEF8O] werden nur die beiden transversalen Komponenten der Fundamentalmode in der Faser betrachtet und die Gesetze der klassischen Optik von anisotroper, doppelbrechen der Materie angewendet werden. Demnach liegt die schnelle Achse (im folgenden xAchse) in der Ebene einer Wicklung und die langsame ordentliche Achse (im folgenden yAchse) senkrecht dazu. Fr die der Biegung in den Windungen gilt nun:
=

32,5 j~m

425 nm fr eine

eine 4fache Umwicklung und fr ei

ng eine 2fache Umwicklung. Wie in [LEF8O] gezeigt wird, wird

durch Verkippen der so umwickelten Scheiben um einen Winkel a die Lage der schnellen Ach se, die in der Scheibenebene liegt, relativ zur Polarisationsrichtung in der Faser

Das entspricht genau dem Verdrehen einer

Polarisationsrichtung in einem optischen Strahlengang an Luft.

um a zur

der

der Brechungsindizes aufgrund

Die drei Scheiben des Polarisationsstellers PS wurden so umwickelt,

hintereinander und wieder

} n3 (rManteg\2 ~ Rg }
~T~
Rs
=

n3 (rMantej ~ 2

die Wirkung eines einstellbaren (2.25) (2.26) 1,46,

erreicht ist. Durch Verkippen dieser Komponenten gegeneinander kann jede beliebige Polarisation der aus der Faser austretenden Lichtwelle eingestellt werden. Dieses Licht soll, wie bereits eine Lichtfaser zu verwenden. Sie dient als Modenfilter fr die im Resonator R2 erzeugte Oberwelle, in den LithographieExperimenten zur Erzeugung der

Kg: Radius der Scheiben, n: Brechungsindex von 5i02

Stehwelle als atomoptisches Element eingesetzt werden. Es hat folgende Vorteile, hierfr

p/p: einzig beteiligte Komponenten des photoelastischen Tensors [SAP79]. Mit den tabellierten Werten von p und p ergibt sich:
E

n~.n=0~03(

IrMantel

Rs

ri~n=0,16~ Rs
n~, n~: spannungsinduzierter und damit / 6n:=n~n~=O,13~
\

) )
~

2 2

(2.27) (2.28)

sie eine einfache und Justage des Stehwellenfeldes im optischen Aufbau der DepositionsGrundplatte (siehe Abschnitt 3.2.3), und sie die mechanische Entkopplung des optischen Aufbaus der

DepositionsGrundplatte vom Gesamtsystem (beachte Anhang A). und ordentlicher Brechungsindex.

ns
integriert wird.

(2.29)

Der Effekt der Doppelbrechung durch Biegung ist im Vergleich zu Doppelbrechung in Kri stallen sehr klein, wird aber signifikant, da ber die von z.B. Durch eine Anzahl von Wicklungen um den Radius ~g kann nun eine Phasenveschiebung und ~ zwischen den orthogonalen Fundamentalmoden erzeugt werden: ISnI*2irNRs
=
~

mit:

2,4,...

(2.30)

N: Anzahl der Wicklungen. Also mit Gl. 2.29:

0, 13

XL

Rs

(2.3 1)

36

Das Lasersystem

37

Kapitel 3

LichtkraftAtomlithographie
Die Erzeugung nanometrischer Strukturen ist in der LichtkraftAtomlithographie durch Ma nipulation der Trajektorien neutraler Atome durch lichtinduzierte unterschieden [CTA92, ADA94].
o Die spontane Streukraft beruht auf der Tatsache,

Bei der

Wechselwirkung quasiresonanter Lichtfelder mit freien Atomen werden zwei Arten von Licht

nach der klassischen Maxwell der auf Atome von Licht an ei

Theorie elektromagnetische Strahlung einen Impuls mit sich bertragbar ist. Den experimentellen Nachweis des

nem Atomstrahl aus Natrium erbrachte 1933 0. Frisch [FR133]. Eine Ablenkung wurde dabei durch Absorption und spontane Emission eines einzelnen Photons erzeugt und war mit

3*105

rad dementsprechend klein. Erst mit der Entwicklung des Lasers konn Anzahl von Photonen mit ein

te dank seiner hohen spektralen Leuchtdichte eine und

zelnen Atomen wechselwirken. Durch eine Vielzahl gerichteter resonanter Absorptions isotroper spontaner Emissionsprozesse von Photonen wird ein mitt lerer NettoImpuls auf ein Atom in Absorptionsrichtung bertragen. Fr nichtruhende neutrale Atome wird die spontane Streukraft aufgrund des DopplerEffekts geschwin Bei hohen geht die spontane Streukraft wegen der endlichen Lebensdauer des angeregten Zustands in o Die induzierte Dipolkraft entsteht durch induzierte Dipolwechselwirkung zwischen dem atomaren Dipolmoment und einem des Lichtfeldes. Durch eine Vielzahl von Absorptions und stimulierten Emissionsprozessen bei hoher Licht wirkt diese Kraft auf ein Atom, dessen Dipolmoment in Phase zum Lichtfeld schwingt (rote Verstimmung), in Richtung hoher Abbildung 2.9: Das Bild zeigt die beiden FrequenzverdopplungsResonatoren R1 und 112 und den unter einer PlexiglasBox vor Staubpartikeln geschtzten LichtfaserEinkoppler LEE. Im Hintergrund ist das TitanSaphirLasersystern zu erkennen. atomare Dipolmoment Kraft in Richtung niedriger Die Laserkhlmechanismen zur Kollimation des ChromAtomstrahls und die Fokussierung des Atomstrahls basieren auf diesen Modelle vorgestellt. Dazu werden in diesem Kapitel theoretische Schwingt das Phase zum Lichtfeld (blaue Verstimmung), wirkt die

38

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen ist mehr

39

3.1

Theoretische Grundlagen
der Breite La

Dieser sog. Dunkelzustand existiert aber in einer eindimensionalen Molas also eine Population in dadurch in einem Dunkelzustand

se aus gegeneinanderlaufenden gegensinnig zirkular polarisi~rten Laserwellen nur fr Atome Eine Kollimation eines neutralen Atomstrahls wird durch eine der transversalen Geschwindigkeitsverteilung des Atomstrahls erreicht. Dazu kein im Atomstrahl, vielmehr wird die mit der Geschwindigkeit Null. Zur Khlung nehmen solch einem Dunkelzustand erzeugt werden. Atome mit Ge~chwindigkeiten ungleich Null an Absorptions und Emissionsprozessen teil und ein Atom ihre Geschwindigkeit. So kann es passieren, me

skkhlmechanismen eingesetzt werden. Bei einer Kollimation durch Laserkhlung entsteht auf der Atomstrahlach se sogar um ein Vielfaches Im folgenden werden die Dopplerkhlung, die auf der

gefangen wird und damit Vom Lichtfeld entkoppelt ist. Die Anzahl der gefangenen Ato hier mit der AtomLichtWechselwirkungszeit. Dieses Khlverfahren kennt keine untere Temperaturgrenze.

spontanen Streukraft beruht und die Polarisationsgradientenkhlung, die je nach Lichtfeld konfiguration auf der spontanen Streukraft oder der induzierten Dipolkraft beruht, kurz Umfangreiche theoretische Modelle sind dazu in zahlreicher den [W1N79, DAL89, MET94]. wird in Abschnitt 3.1.2 ausfhrlich auf die die auf der induzierten Dipolkraft basiert. der Fokussierung von zu fin

Dopplerkhlung Einfache Modelle zur der Dopplerkhlung sind in der Literatur zahlreich vertreten

Atomen mit quasiresonanten Lichtfeldern eingegangen. Dabei wird eine atomoptische Linse

(z.B. [LET89]). Es soll hier unter einfachen Annahmen die prinzipielle Wirkungsweise kurz werden. Damit werden zugleich einige fr die LichtkraftAtomlithographie wichtige Parameter eingefhrt. Vorab sollefl fr das Atom folgende Bedingungen gelten:

3.1.1

zur Kollimation eines Atomstrahls: Laserkhlung der starken Divergenz eines effu einer

Effiziente Kollimationstechniken sind zur

siven Atomstrahls (siehe Abschnitt 3.2.1) wesentlich, denn das Der maximale transversale Impulsbertrag, den das optische Potential leisten kann, als die Breite der transversalen Impulsverteilung des Atomstrahls sein. Der Khlmechanismus des Dopplerkhlens wurde 1975 von T. neutrale Atome und auch von D. Wineland et al.

Das Atom wird als System mit zwei

der Energiedifferenz hw0 mit

atomoptischen Linse wird unter anderem durch die Divergenz des Atomstrahls begrenzt.

der atomaren Resonanzfrequenz w0 betrachtet. An der AtomLichtWechselwirkung sind nur zwei atomare Niveaus beteiligt, denn fr nachweisbare mechanische Effek te der spontanen Streukraft sind sehr viele Absorptions und Emissionszyklen ohne Abkopplung des Atoms vom Laserfeld durch optisches Pumpen in andere Niveaus Der energetische Abstand dieser beiden Niveaus soll viel Linienbreite: w0 Die sein: ~ =
2

et al. [HAE75] fr

[W1N75]

fr Fallenionen vorgeschlagen.

sein als ihre

Wenige Jahre darauf wurden erste experimentelle Ergebnisse publiziert [W1N78, BAL79I. Die theoretisch minimal erreichbare Temperatur TD (siehe 01. 3.2) durch Dopplerkhlung galt lange Zeit als nicht unterschreitbare Grenze. Nachdem aber im Jahre 1987 Temperatu ren unterhalb des sog. DoppierLimits gemessen wurden [G0U87, CHU87J, kamen Zweifel an der Richtigkeit dieser unteren Grenze auf. 1989 wurden theoretische Modelle fr das Auftreten sog. SubDopplerTemperaturen vorgeschlagen [DAL89]. Die theoretisch untere Grenze des neuen Khlmechanismus, PolarisationsgradientenKhlung genannt, liegt bei einem elementaren mit der Energie Ertc =
~.

1 =

2irv (siehe Anhang B). des angeregten Zustands

soll viel kleiner als die

fiT.

Im Anhang B ist gezeigt, sehr gut erfllt sind. soll die sein: L
kLVtran.,

diese Bedingungen fr die

in 52Chrom

mit kL als Wellenzahl

klein gegen die

1s des ZweiNiveau Die DopplerVerschiebung

des Lichts und m als Masse des Atoms. Doch selbst diese untere Grenze konnte weiter unterschritten werden [ASP88I. Dabei werden Atome optisch in einen Zustand berlagerter magnetischer GrundzustandUnterniveaus gepumpt, die durch destruktive In terferenz ihrer vom Laserfeld abgekoppelt sind, d.h. keine Absorption

mit >L als

aufgrund transversaler Geschwindigkeit der Atome senkrecht zu ihrer Ausbreitungs richtung soll klein gegen die Linienbreite 1 des angeregten Zustands sein. Dabei ist kL der Wellenvektor der Laserstrahlung.

40

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen Polarisationsgradientenkhlung

41

Entspricht die Anordnung der Laserstrahlen einer eindimensionalen Molasse, d.h. laufen zwei Laserstrahlen z.B. in zRichtung gegeneinander (kL~ und kL~), so findet eine Khlung der Geschwindigkeitsverteilung der Atome in dieser zRichtung unter folgenden Bedingungen statt. Sei die transversale Geschwindigkeitskomponente in positiver zRichtung Bei negativer (Rot) Verstimmung 6
=

Die laserinduzierte Kopplung zwischen Grund und angeregtern Zustand eines ZweiNiveau Systems wird ber einen s durch

Vtran31.

w0 < 0 mit

(UI.

als Laserfrequenz:
= 4

Die Resonanzbedingung zur Absorption ~

6 kLZVtranSX = 0 kann fr 6

(3.3)
mit der sog. RabiFrequenz

~kLxVtransx erfllt werden. Somit ist eine Absorption aus der dem Atom entgegen laufenden Welle kL~ wahrscheinlicher als aus der mitlaufenden Welle und das Atom

i4

i~ft

und der Verstimmung ~

(UI.

ki,v charakte

in dieser Richtung einen kraft. Folglich wird vtran,z o Bei positiver (Blau) Verstimmung 6> 0:

Strahlungsdruck durch die spontane Streu

risiert. Die RabiFrequenz ist ein angeregtem Zustand [ADA94].

fr die

zwischen Grundzustand und

Wird ein atomarer Zustand durch quasiresonante Lichtfelder adiabatisch schiebt sich das Eigenenergiespektrum. Diese lichtinduzierte Energieverschiebung1 Eine Absorption aus der mitlaufenden Welle ist wahrscheinlicher und die transversale Geschwindigkeit wird durch den Strahlungsdruck Unter den o.g. Bedingungen und mit IkLVI 6 gilt fr die Gesamtkraft in einer eindimen sionalen Molasse [LET89J: F
=

so ver

Ui(r)
entspricht der Energieverschiebung der

(3.4)

des gekoppelten Systems aus Atom

und LichtfeM2. UQi ist das optische Potential. Die RabiFrequenz ist dabei:

L hkLjf( 86kLv + 4~)2

cx(IL,S) * v
und

x L

(3.1)

(e~dfg)E(fl

(3.5)

Die Gesamtkraft ist proportional zur wirkt eine der Gltigkeit eines bereich
VD

sich fr IkLvI < ~ linear mit

&max

mit dem Erwartungswert des Dipoloperators (eJd~g) und der elektrischen Feldamplitude

der Geschwindigkeit. Der lineare Reibungskoefiizient cr(IL, 6) ist fr 6 < 0 positiv und be mit maximalem Wert bei 6
=
~.

E(f). Die Energie hOB entspricht einem WechselwirkungsHamiltonoperator des gekoppelten AtomPhotonSystems in Die Energieverschiebung [ADA94]. fr kleine und fr eine Verstimmung

Der Bereich

+~f~ einer linearen

linearen Reibungskoeffizienten definiert den Einfang durch Dopplerkhlung. Der

161

Q~ fr ein ruhendes Atom [CTA77]: (3.6)

Einfangbereich ist von der Da die beschriebene Gesamtkraft nur eine mittlere Kraft ber zahlreiche Absorptions und Emissionszyklen darstellt, erzeugt die statistische Natur der Strahlungsprozesse Fluktua tionen in der Gesamtkraft und verbreitert die Geschwindigkeitsverteilung der Atome. Die niedrigste durch Dopplerkhlung erreichbare Temperatur resultiert also aus einem Gleich gewicht aus durch die spontane Streukraft und Impulsdiffusion
=

Wird das ZweiNiveauSystem auf magnetische

erweitert,

der Dipoloperator bei unterschiedlicher Besetzung von magnetischen Unterniveaus noch vom Polarisationsgrad des Lichtfeldes ab. Der Wert des optischen Potentials ist dann stark von der grades, so Potentials treibt. 1~light shifts 21,dressed states
L,

durch statistische Fluktuationen der Absorptions und Emissionsprozesse. Diese Tempera tur TD ist das sog. DopplerLimit und tritt bei einer Rotverstimmung von 6 Diese Gleichgewichtstemperatur ist von der
~

der Verstimmung 6 und dem Polarisationsgrad des Lichts oder des Polarisations
=

auf.

Befindet sich das Atom in einem Gradienten der es eine Dipolkraft F

VU(ii, die das Atom in lokale Minima des

(3.2)

1
1
1

42

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen

43

Im folgenden wird auf den PolarisationsgradientenKhlmechanismus in zwei verschiedenen LichtfeldKonfigurationen eingegangen. Eine ausfhrliche theoretische Behandlung findet sich z.B. in [DAL89]. Deshalb sollen hier nur knapp wichtige werden. Zuerst wird der Fall zweier gegeneinander laufender orthogonal zueinander linear polari sierter Laserwellen gleicher Amplitude betrachtet, die eine sog. Lin 1 LinKonfiguration bilden. Als Beispiel in Abb. 3.1 dient ein VielNiveauAtom mit Jg
= ~ =

Es bildet sich ein Polarisationsgradient aus, der entlang der zRichtung der Laserwellen alle z
=

4 seine Polarisation
Die

ir, o~, ir, a~,...

Ein ruhendes Atom

durch Population

dargestellt

optisches Pumpen in o.g. Konfiguration eine in zRichtung Energieaufspaltung der

lichtinduzierte

(~ einem optischen Potential) hN mit einer

L

sei schwach,

~R

1 und A 1

(& ist inten

Es werde im Niveau fr die der lichtindu

d.h. eine Population des angeregten Zustands wird eine negative Verstirmnung 8 < 0 beim In Abb. 3.1 sind an den Auch die relative schema die Quadrate der ClebschGordanKoeffizienten eingetragen. Sie sind ein

als Ubergang mj.

zwischen den GesamtDrehimpulsquantenzahlen J mit magnetischen

zierten Energieverschiebung der verschiedenen GrundzustandUnterniveaus entspricht dem relativen Unterschied der Quadrate der ClebschGordanKoeffizienten der In Abb. 3.1 ist z.B. am Ort z mal so in den jeweiligen GleichgewichtsPopulationen.
=
~

die Energieverschiebung des jg~112)Zustandes drei

wie die des g_112)Zustandes:

ht4

3h~L. Dabei entspricht die

der

gefllten Kreise den Besetzungsdichten der

+1/2

g
ir

Bewegt sich nun das Atom in zRichtung, kommt es zu einem sog. SisyphusKhleffekt.

cf

Polarisation

Der optische beanspruche die Zeit r,,. Gilt fr die atomare Geschwindigkeit = so verbleibt das Atom im Mittel in dem Unterniveau, aus dem es aus einer
~,

Population startete (in Abb. 3.1 ist das fr das

1

Beispiel bei z

4)

und

ber die Strecke z

~j entgegen der Dipolkraft einen Potentialwall hinauf (im

1s7
pot. Energie

/
z

Beispiel stellt der schwarz gefllte Kreis das Atom dar), bevor es im in den energietieferen Zustand gepumpt wird (das ist im Beispiel der g~112)Zustand.). Dabei wird nach Abb. 3.1 der Gewinn an potentieller Energie durch die Abstrahlung eines RamanAntistokesPhotons

2tsL) (z~ < 0) dissipiert. Dieser

kann sich beliebig wiederholen, die atomare

L
~

Bewegung wird

Durch die endliche Dauer r~ kann das Atom nicht sofort in einen

lokalen Gleichgewichtszustand gepumpt werden, denn der atomare Unterzustand hinkt diesem an jedem Ort z um r~ hinterher. Dieser Vorgang wird als nichtadiabatisches Folgen bezeichnet. Eine Reibungskraft wird nun analog zu Dopplerkhlung ber F maximal fr vr~
=
~,

cxv angesetzt. Diese ist (3.7)

also: kLv~~=FF.
1~;,

Abbildung 3.1: Veranschaulichung des PolarisationsgradientenKhlmechanismus in einer Lin 1 LinKonfiguration. Das NiveauSchema eines BeispielAtoms J9 = J~ = mit den Quadraten der ClebschGordanKoeffizienten ist eingezeichnet. Die lichtinduzier ten Energieverschiebungen hA~ und h~. beider GrundzustandUnterniveaus sind mit den jeweiligen GleichgewichtsPopulationen eingezeichnet. tist der Polarisationsvektor. Eine Er ist im Text gegeben.

Damit ist der Einfangbereich dieses Khlmechanismus mit v dissipation Es gilt nun: dW r~, liegt dann im Bereich W hA dt
7~~

f festgelegt. Die Energie

av2dt, (3.8)

hN (da wegen 8 <0 auch A <0 ist). Fvdt

hAFdt

44 also mit Cl. 3.7:

cxL~~

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen

~L.

45

Diese
L

v2

= L

(3.9) ist, ist cx Fr

Polarisation stellt auch hier einen Polarisationsgradienten dar. Die aber bleibt in zRichtung konstant. Da also keine lichtindu

zierte Energieverschiebung der GrundzustandUnterniveaus entstehen kann, gibt es keinen auf der Dipolkraft basierenden SisyphusKhleffekt. Allerdings kann sich ein auf der spon tanen Streukraft basierender Khimechanismus entwickeln. (3.10) Als Beispiel wird dazu ein Atom mit Jg zu einem Atom mit J9 = 1 J~ = 2 betrachtet, in dem im Gegensatz

Da 1 genau wie 1k proportional zur

81

1 kann mit Gl. 3.6

gezeigt werden: hki4 = a(6,1) = konst. bei festem &

an einem festen Ort z im ruhenden Atom eine Ausrichtung

Der Reibungskoeffizient cx kann hier viel

werden als bei der Doppierkhlung, denn

der GrundzustandsUnterniveaus durch optisches Pumpen mit linear polarisiertem Licht ist.

trotz kleiner und daraus resultierender kleiner lichtinduzierter Energiever schiebung h1k wird cx wegen der langen Pumpzeit r, Die starke Khlkraft resultiert also aus langen optischen Pumpzeiten, die ein nichtadiabatisches Verhalten im optischen Potential des Polarisationsgradienten Die minimal erreichbare Temperatur ist genau wie bei der Dopplerkhlung durch das Gleich gewicht aus Impulskompression und diffusion festgelegt. Der dings
L

0~
(t\

0
kL

ist hier aller

als bei der Doppierkhlung, denn nach Voraussetzung ist die

z
1

schwach und die Verstimmung 8 d.h. statistische Fluktuationen in der Spontanem mission sind sehr viel Es gilt hier bei 1: ICBT =
~

+1

+2 le>

(3.11) 1

Bei niedriger Laserleistung und hoher Verstimmung kann also das DopplerLimit unter schritten werden. Allerdings existiert eine minimal erforderliche [DAL89]. Die Temperatur kann nicht beliebig klein werden, da eine minimale Geschwindigkeit ja Vor aussetzung fr den PolarisationsgradientenKhlmechanismus ist. Eine untere Grenze fr die erreichbare RMSCeschwindigkeit wird mit
VRMS

+1

Ig>

Abbildung 3.2: Die c~ erKonfiguration zur Polarisationsgradientenkhlung. Das Niveau Schema eines BeispielAtoms J9 = 1 Je = 2 ist mit den Quadraten der ClebschGordan Koeffizienten dargestellt. t ist der Polarisationsvektor. Eine findet sich im Text.
*

h kL 1~1

Die (3.12)

wird wieder als schwach angenommen und die Verstimmung negativ Gleich

angesetzt: !2R 1 und 8 < 0. Dann ergibt sich an jedem Ort z eine Unterniveaus der Quadrate der ClebschGordanKoeffizienten [DAL89}. hA1 = h1k~1 <hA0 Insbesondere haben Mit den Annahmen,
ICLV

ml

gewichtspopulation mit einer lichtinduzierten Energieabsenkung hA in den Grundzustand

angegeben [DAL89]. Es zeigt sich bei Angabe der Verstimmung 8 in Einheiten von 1,

das

~rec = ~

(siehe Anhang B) fr diesen Khlmechanismus eine nicht (3.13)

unterschreitbare Grenze darstellt. Nun wird eine andere Polarisationsstruktur fr die Laserkhlung betrachtet. Zwei gegenein anderlaufende gegensinnig zirkular polarisierte Laserwellen gleicher Amplitude bilden eine sog.

gi)

und g.~.) dieselbe Gleichgewichtspopulation. die lichtinduzierte Energieabsenkung ist als die Linienbreite

crKonfiguration.

Im folgenden soll die utWelle in positiver zRichtung, die er Welle in negativer zRichtung propagieren. Dann ist nach Abb. 3.2 an jedem Ort z die Polarisation linear. Jedoch rotiert sie um die Ausbreitungsrichtung mit einer der

der GrundzustandUnterniveaus und die Atome sich nur langsam bewegen, 1

l1kI

und

bewegte Atom in dem sich drehenden Polarisationsvektor des Feldes eine Orientierung, d.h. die Gleichgewichtspopula

IAI, wird aus der Ausrichtung der Unterniveaus fr das

46
tionen der Jg~) und

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen

47

Ig+i)

sind nicht mehr identisch. In [DAL89] wird gezeigt: 11+1

fl_l

Dieser Khimechanismus, der wie die DopplerKhlung eine Impulskompression durch die

cc

(3.14)

spontane Streukraft wegen 1V

arbeitet jedoch bei einer viel kleineren Geschwindigkeit als ist IL) viel als der die DdpplerKhlung beschreibende

die DopplerKhlung. Der diesen Khlmechanismus charakterisierende Parameter

1 (kleine

fl: Populationen in den Unterniveaus. Wegen der digkeit v in positive zRichtung, so wird: ~ (LX<O). (3.15) in G1. 3.14 spricht man von einer sog. bewegungs

Parameter Zusammenfassend werden tabellarisch folgende Unterschiede der Khlmechanismen heraus gestellt. Tabelle 3.1: des Reibungskoeffizienten a und des Geschwindigkeits Einfangbereichs fr das Dopplerkhlen DK und das Polarisationsgradientenkhlen PK. DK cx(IL, 8) cc PK,LinI Lin cr(8, 1) = konst. v<fr~ocJL PK,c~c a = konst.

induzierten Orientierung im Grundzustand. Bewegt sich ein Atom z.B. mit der Geschwin

Fr ein Atom im Zustand Jg_i) ist nach den ClebschGordanKoeffizienten (siehe Abb. 3.2) die Wahrscheinlichkeit einer Absorption eines or~Photons Durch die wird als die eines c+~Photons.

Reibungskoeffizient a Einfangbereich

Population H_~ in g_i) entsteht nun ein unausgeglichener Strahlungs Fr die effektiv pro Zeiteinheit am Atom gestreuten Photonen gilt: (H+~ 1

druck, das Atom absorbiert in zRichtung laufende cPhotonen und die atomare Bewegung

fl_1)P

kLv~

(3.16)

3.1.2

Fokussierung eines neutralen Atomstrahls

mittlere Streurate im Grundzustand gilt fr die auf das Atom (3.17)

In diesem Abschnitt wird die Fokussierung eines neutralen Atomstrahls durch eine atomoptische Linse untersucht, die auf der induzierten Dipolkraft basiert. Die minimaler tern wie der einer atomoptischen Linse von experimentell
L

Da jedes Photon einen Impulsbetrag JhkLI auf das Atom wirkende Kraft:

Parame

oder der Verstimmung 8 wird diskutiert. der Diver einer atomoptischen

F
D.h. mit
=

hkL(kLv~).

Die in Abschnitt 3.1.1 vorgestellte transversale Laserkhlung zur genz eines neutralen Atomstrahls ist fr ein hohes Linse wesentlich. Minimale Abschnitt zu untersuchende Faktoren begrenzt.

> 0

(3.18)

sind jedoch noch durch zahlreiche andere in diesem

ergibt sich in der Tat eine Reibungskraft. Der lineare Reibungskoeffizient aq ist wie in der Lin 1 LinKonfiguration von der portional zu
L~ L

denn P und 1V sind pro ~ der o~

Schon 1968 wurde die Beeinflussung atomarer Trajektorien durch ein zur Ausbreitungsrich tung der Atome transversales Stehwellenfeld untersucht [LET68]. Atomoptische Linsen sind sowohl auf der Basis der spontanen Streukraft als auch der induzierten Dipolkraft realisier bar. Bei gleicher Dipolkraft: (3.20) Ij. gilt fr das aus Spontankraft und induzierter

Nach Voraussetzung 1
&L~
~

1X~ ist a

crKonfiguration

sehr viel kleiner als diffusion in der cr+ Temperatur in der

~ der Lin 1 LinKonfiguration. Wegen einer kleineren Impuls die hier minimal erreichbare der der Lin 1 LinKonfiguration liegt. dW Fvdt _hk~v2K
Pl

cKonflguration zeigt sich jedoch,

(3.19)

ergeben sich analog minimale Temperaturen im Bereich T

w: Strahlradius,

.\L:

1 1

48

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen

49

In [BAL86J wird eine auf der Spontankraft basierende atomoptische Zylinderlinse vorge stellt. Zwei senkrecht zur Atomstrahlachse gegeneinanderlaufende divergierende Laserstrahlen fokussierten einen NatriumAtomstrahl in einer Raumrichtung. Diese Linse wird in [LET87] auf zwei Dimensionen durch vier in Richtung Atomstrahlachse gegeneinan derlaufende Laserstrahlen erweitert. Damit konnte bei Wahl eines ein divergenter neutraler Atomstrahl dabei wenige mm. Eine auf der Dipolkraft basierende atomoptische Linse wird in der Lichtkraft Atomlithographie benutzt, da hier mit kurzen Wechselwirkungsstrecken zwischen Atomen und Lichtfeldern und somit kleinen Strahldurchmessern gearbeitet werden kann. Atomoptische Elemente, die auf der Dipolkraft basieren, sind mit lichtoptischen Elementen vergleichbar. In der Atomoptik fhrt eine index nfr) E
= = =

Sleator et al. [SLE92] demonstrierten 1992 die Fokussierung eines Strahls metastabiler He Atome durch einen einzelnen transversalen Stehwellenbauch der von der Periode, der durch strei fenden Einfall unter Totalreflexion an einer Glasplatte erzeugt wurde. Die wurde dabei sehr gut deutlich. Aufgrund beugungsbegrenzt. dieser atomoptischen sog. dnnen Zylinderlinse war der minimal erreichte Fo kusdurchmesser von 4 pm

Laserstrahlradius

Apertur

(~ 1 cm) durch die Spontankraft gegen

einanderlaufender Laserstrahlen fokussiert werden. Der erreichte Fokusdurchmesser betrug

Wird die Wechselwirkungsstrecke ber den Strahldurchmesser des Lichtfeldes die Bewegung der Atome im optischen Potential in Wellenvektorrichtung

kL bercksichtigt werden. Theoretisch wird bei einer atomoptischen sog. dicken Linse dann
eine Oszillation der Atome im beschrieben. Dabei verkrzen sich die Bereich des optischen Potentials. Bei Reduktion der Stehwellenperiode auf eine halbe optische wird durch das harmonischen Teil des optischen Potentials im Vergleich zur dnnen Linse auf den

des effektiven Brechungs

~Jl

U(9)/E mit dem optischen Potential U(fl und der Gesamtenergie

der Phasenfront des einfallenden Strahls (k0 ist die para

Ek~~ + U zu einer

Lichtfeld fr die Atome ein Feld periodisch angeordneter Zylinderlinsen erzeugt, durch wel ches bei homogener Ausleuchtung parallele Brennlinien fr die Atome im Abstand der hal ben des Laserlichts geschrieben werden. Der Atomstrahl kann auf ein direkt hinter dem ~Lichtfeld angebrachten Substrat periodisch fokussiert werden. In dieser Konfi guration wird die Herstellung scharfer nanometrischer Linienstrukturen in einem parallelen

des Wellenvektors im feldfreien Raum.). Zur Fokussierung eines Atomstrahls ist ein optisches Potential mit bolischer findet sich in erster senkrecht zur Atomstrahlachse notwendig. Ein solches Potential z.B. in einer stehenden Lichtwelle oder im Zentrum einer sich analog zur Lichtoptik Transversalmode eines Lasers. Die

ber den Brechungsindex und die Linsendicke regulieren. Der Linsendicke entspricht in der Atomoptik die Wechselwirkungsstrecke zwischen Lichtfeld und Atomstrahl. Die Brechungs kann hier wegen n
=

Im Jahre 1992 wurde von Timp et al. [T1M92] mit dieser Anordnung eine periodische Depo sition von NatriumAtomen in Linien auf ein Quarzsubstrat demonstriert. Diese Strukturen sind wegen der hohen von Natrium jedoch nicht stabil. Zeitlich stabile von 34 nm nach 20 und an Luft charakterisierbare Linientrukturen aus Chrom wurden 1993 von McClelland et al. [MCC93] vorgestellt. Bei einer Periode von 213 nm und einer Minuten Belichtungszeit wiesen die Chromlinien eine Breite von 65 nm auf. Im Hinblick auf die experimentelle Erzeugung von Linienstrukturen aus Chrom sollen im folgenden insbesondere eine optimale Lichtfeldkonfiguration und eine optimale Einstellung experimenteller Parameter herausgestellt werden, um einen hoher zu sehr

n(U(i) ber eine

der Laserleistung I~ und

die Verstimmung 8 erreicht werden. Eine erste Fokussierung von neutralen NatriumAtomen gelang Bjorkholm et al. [BJ078]. Dabei war die im pm Bereich durch zahlreiche isotrope spontane Emissions Richtung Impuls bertragen, begrenzt. Eine lange Laser prozesse, die dem Atom in strahl (yww
=

Wechselwirkungsstrecke durch einen zum Atomstrahl kopropagierenden in Richtung hoher wirkt, verhinderten hier also das Erreichen

v,0~9tww > v,0,~9r) sowie eine negative Verstimmung, bei der die Dipolkraft

Eine Fokussierung in einer kopropagierenden TEM~1 Transversalmode bei stark blauver stimmtem Laser wrde den Effekt der spontanen Emissionen vermeiden. Theoretisch sind dann von einigen Nanometern erreichbar [BAL88, GAL91, MCC91]. Zur Li Fr den Ansatz des optischen Potentials werden zwei Gltigkeitsbereiche unterschieden. Dabei handelt es sich zum einen um den Bereich spontaner Emissionen und zum anderen um den Bereich, in dem sich erst nach Ablauf zahlreicher spontaner das Substrat dann aber in einem seriellen gefhrt thographie eignet sich dieses Verfahren, wenn die Erzeugung einzelner Strukturen erwnscht ist. Zu einer Beschriftung werden. Das optische Potential

50

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen Die maximale Dipolkraft ergibt sich nach [CTA92] bei

51

Emissionszyklen ein Gleichgewicht zwischen Atom und Lichtfeld einstellt. Dies wird im folgenden Der untersucht. .s (Gl. 3.3) wird mit t4
= =

mit dem

(3.3) bei

IflRI. Mit Gl. 3.23 wird Verstimmui~g und mit 5~ lf2R~ aus
n~

I~I

r2~f zu:
= 5 k~ji.

h ZRVflR 2~/~+~ (3.21) dann: hIVfZpI 2. Ein optisches Potential bei hohen wirkungszeiten tww mit QR

(3.24)

L92

+4&

mit: ts

Es gelte z~

5 wegen

ICL

1 6, d.h. es wird

ein in ein optisches Potential ein

(3.25)

laufender perfekt kollimierter Atomstrahl ohne transversale Geschwindigkeitskomponenten vorausgesetzt. Es werden konservative Potentiale betrachtet. Eine weitere Voraussetzung ist ein atomares ZweiNiveauSystem. Bei einer Aufspaltung in magnetische Unterniveaus bleibt die Gltigkeit der Potentiale erhalten, sofern optische Pumpprozesse werden Es wird nun angesetzt:

1 oder langen Wechsel

r ist durch U
=

~ln(1 + .s)

(3.26) vom Vorzeichen aus Gl. 3.3 fr fZR

1. Das optische Potential (Gl. 3.4)

gegeben [GOR8OJ. Die Richtung der Dipolkraft zeigt dieselbe

hSF

.sI2

der Verstimmung 5 wie in Gl. 3.22. Mit dem (3.22) liegt die mittlere Dipolkraft

h5~2
hat seinen Gltigkeitsbereich bei kleinen spontanen Emissionsraten. Der bei ~
&V

fl2

(3.27)

~T

ungekoppelte Grundzustand des AtomLichtfeldSystems g, ii) mit n Photonen entwickelt sich je nach Vorzeichen von 5 adiabatisch im Wechselwirkungsgebiet in einen gekoppel ten Zustand des AtomLichtfeldSystems + n; f) oder Wechselwirkungszeit verbleibt in

IQRI

wieder in der

1~ rz; f),

in dem er

der

I(foip)rmaxl
Die

hIVQR[

(3.28)

Das optische Potential ist dann identisch mit dem

Energieeigenwert des betreffenden gekoppelten Zustandes3. Fr 5 > 0 entwickelt sich

g, ii)

Dipolkraft (FD~P)I ist ber zahlreiche spontane Emissionszyklen, die den

I+,n;)

mit dem Eigenwert

=

und fr 5< Din ~n;7t) mit dem Eigenwert U...(fl. zum Wellenknoten

inneren Zustand des Atoms und das Lichtfeld in ein Gleichgewicht bringen, gemittelt. Ausgehend vom Potential in Gl. 3.26 wird die spontaner

Wird z.B. das optische Potential in einem Bauch einer Laserstehwelle betrachtet, wirkt die Dipolkraft FDiP VU(F) fr 5 > 0 in Richtung niedriger zum Wellenbauch hin. hin und fr 5 < 0 in Richtung hoher Die Bedingung
L

Emissionen gemacht, die dann den Gltigkeitsbereich des Potentials in Gl. 3.23 betrifft. Fr kleine
flR

151

und

151

1 wird mit dem

(3.3)

spontaner Emissionen ist durch die Wahl kleiner Laser mit ~R

das optische Potential (3.23)

zu:

1 oder kleiner Wechselwirkungszeiten tww < r kleine

erfllbar.

Es wird sich jedoch noch herausstellen, Verstimmung in Gl. 3.22 zu

fr eine effektive Fo sich das optische Potential (3.23)

kussierung eher ungnstig sind. Spontane Emissionen werden auch durch die Wahl einer

U=~Jl+2s

45

(3.29)

1~1

1 unterdrckt. In diesem Fall

Das entspricht dem Wert der Energieverschiebung ~E in G1. 3.6. Es ist sofort ersichtlich, auch hier fr die Dipolkraft

U(rl
3,,dressed atom Modell.

hS
=

IFDjP_0=I

hIVQR( bei ~

IQRI

gilt.

+2s

Das Potential (3.29) wird

als Ausgangspunkt qualitativer Betrachtungen zur Fokus Laserstehwelle herangezogen.

sierung eines neutralen Atomstrahls in einer

r
52
LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen

53

Das optische Potential in einem GauWschen stehenden Lichtfeld

Da in den durchzufhrenden AtomlithographieExperimenten eine EinmodenLichtfaser als Modenfilter fr die im Resonator R2 (siehe Abb. 2.1) erzeugte blaue Oberwelle dient, wird die Form einer Laserstehwelle mit elliptischem Strahlprofil model liert. Dieses stehende Lichtfeld stellt eine Kette atomoptischer Zylinderlinsen dar, die die periodische und synchrone Fokussierung des ChromAtomstrahls bewirkt. Fr die wellenfeld: entlang der Ausbreitungsrichtung z gelte im Steh

zy z
Abbildung 3.3: Schematische Form einer fr die LichtkraftAtomlithographie optimalen

I(x,y,z)
mit den

IE(x,y,z)J2

4I~

WzoWyo

cos2(kLz)e_2(~~))

wz(z)wy(z)

(3.30)

Radien (z.B. [YAR89J)

w~(z)

1 + ~

(\ zz3: J
/

\2

1 und
Wzo

Stehwelie. w~ und w~ sind die Strahltaillen.

1 +

w~(z)

w~J

Z~

(\ zzy )
/

(3.31) wird 1(0, 0, z) die aus Cl. 3.33 fr wenige StehwellenPerioden mit

z~~9

dem Fokuspunkt (z~, zu), den Strahltaillen

2

und w~,0 und den rrw2

ZR~
=

4Irjcos2(kLz) im Maximum des

Profils betrachtet. Dieser Ansatz

resultiert aus den o.g. Skalierungen. In Abb. 3.4 ist der Verlauf des optischen Potentials (3.32) (3.22) mit der adiabatischen Entwicklung von Jg, n) entlang weniger Perioden der Stehwelle dargestellt.

ZR

~rw~0

und

Fr die

gilt mit PL als Laserleistung:

Fr 5 > 0 ergibt sich der obere dargestellte Verlauf mit Potentialminimum bei Stehwellen mit
10=
________

I(0,0,z)
Fr ein reales

41o

WzoL~)!,o

wz(z)wy(z)

cos (kLz)

2FL

(3.33) 3.3 folgende

knoten, frS < 0 ergibt sich der untere Verlauf mit Potentialminimum in Es ist offensichtlich, eine harmonische des optischen Potentials (3.22) fr 6> 0 als die fr 5 < 0 im Bereich von Steh der optischen Potentiale (3.23) und (3.26) s aus Cl. 3.3 bestimmt ist, vom Vorzeichen der Verstim des optischen Potentials (3.29) zeigt um Potentialminima einen engeren zBereich Da die verschiedener Gltigkeitsbereiche ber den trifft die der Breite der harmonischen mung 5 auch auf diese Potentiale zu. Die

7I~ Wz0 Wy0

AtomlithographieExperiment wird anhand

von

Abb.

gemacht. Die Atomstrahlrichtung ist die yRichtung. Die Periode der Steh welle in zRichtung skaliert ber die nung in zRichtung selbst Strahlradius w,,(z) viel
~

im Bereich
r...

100 um. Die Ausdeh

typisch mehrere Zentimeter (siehe Abschnitt 3.2.3). Der 1 mm, um in einem Belichtungspro in der Substratebene (x, z) auszuleuchten. Die Strahltaille w~ ist

w~0 liegt typisch konstant bei

jedoch keinen Unterschied in der Breite der harmonischen Die Modulationstiefe des optischen Potentials mit Cl. 3.30 jedoch direkt von der Potential (3.29) betrachtet. Die
2

typisch 100 pm. Wie weiter unten gezeigt wird, spielt ihre eine entscheidende Rolle bei der Optimierung der dieser Linsenkette. einige Perioden des Stehwellenfeldes sich w~(z) nur unmerklich, denn die

ber den
1L

(3.21)

zp~ liegt fr

ab. Dazu wird explizit das optische wird mit

2

100 um im Bereich einiger Zentimeter.

IL(x,y,z)
ber einige

4I0cos

( x2 _2~~~+M.~, (kLz)e
~ z

:=

410cos (kLz)g(x,y)

(3.34)

StehwellenPerioden angesetzt (beachte jedoch die Skalierung der

54 Strahlparameter.). Mit der RabiFrequenz V~(x,y,z) ergibt sich das optische Potential zu: U(x,y,z)
= =

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen wesentlich ist. Eine kleine Verstimmung

55

I~I

wirkt sich hier zwar gnstig aus, hat aber gerade der atomoptischen Linsen werden Eine

2F2~cos2(kLz)g(z,y)

(3.35)

bei hoher

negative Einflsse auf die

kette, da spontane Emissionszyklen nicht bei QR r und ~R

dazu folgt noch in diesem Kapitel. Um trotz hoher spontaner Emissionswahrscheinlichkeit /W2 Iocos2(kLz)g(x,y).

181

keine spontanen Emissionen zuzulassen, wird die Wechsel

=

(3.36)

wirkungszeit tww

klein gegenber r

die Wechselwirkungszeit wichtig.

wird damit die Einstellung des Parameters w~,0

optisches Potential

Eigenschaften der atomoptischen Linsenkette Die Eigenschaften des Potentials (3.22) als atomoptische Linsenkette werden in einem Teil chenbild untersucht [MCC91, MCC95]. Erfllen die Atome Bedingung (3.37), so werden ihre Trajektorien durch das optische Potential durch das Wechselwirkungsgebiet. In Abb. 3.5 ist die als einer des Die Atome kanalisieren dann des optischen Potenti

0 tiQ

Stehwelle dargestellt. Sie entspricht nach Abb. 3.4 der Zustands bei positiver Verstimmung 8 > 0. Im folgenden wird die durch das

1+, ii; z)

optische Po(ential erreichbare Fokussierung der Atome diskutiert.

oplisches Potential
Abbildung 3.4: Adiabatische Entwicklung des optischen Potentials bei Q~ 181 und J8J 1 fr den Grundzustand Ig, ii) ber wenige Perioden im Maximum des dienten einer Stehwelle. f2 = (Q~ + 32)1/2. Eine ist im Text gegeben.

Das optische Potential verliert offensichtlich bei kleiner

Modulationstiefe. Die Atome werden aber nur vom Potential ~m(v~) mit

mit flR

181

an z

wenn grob gilt: (3.37)

IUzmaxI

als mittlere quadratische Geschwindigkeit in kVektorrichtung des Stehwellenfel (v~) hF210 (3.38) Abbildung 3.5: Energie des optischen Potentials U(x, y, z) ber wenige Perioden einer GauBschen Stehwelle in zRichtung fr positive Verstimmung 8 > 0. Die fr Atome befinden sich am Ort von Wellenknoten.

des. Also gilt mit (3.36):

rnSls

Cl. 3.38 zeigt zum einen, wie wichtig die Kollimation des Atomstrahls senkrecht zur Steh welle ist und zum anderen, eine hohe 1,. fr eine effektive Fokussierung

r
56 LichtkraftAtomlithographie 3.1 Theoretische Grundlagen Also:
~Pz
=

57

Das optische Potential hat hier mit (3.35) folgenden Ausdruck:

1+0w V~Utww
=

/ U~Qc,y,z)=+~/1+

____

cos2(kLz)g(x,y)

(3.39)

UV

V~Udy

(3.44)

Co

Z.B. ergibt sich fr eine positive Verstimmung .5 > 0 mit (3.40) die Brennweite: In der Umgebung der Potentialminima (kLz 1) Dabei wird die vl + cx2 sich das Potential (3.39) quadratisch (1 + ~a2) fr a 1 verwendet.

Fr eine positive Verstimmung 6> 0 ergibt sich folgender Ausdruck: U+(x, y, z)

rr2 \ .101 9i~X,yj
=

fd=v~
y

______

F2hkZIowy(z)e~ZCY

x2

low~(z)

2l~6

2 2 hJCLZ

+ kaiist.

(3.40)

Die Hauptebene (x, z) der dnnen Linse liegt im Maximum der

=

Welle bei Der Strahlradius

0. Nach Abb. 3.3 bestimmt wr(z) die belichtbare

~

Fr eine negative Verstimmung 6 < 0 wird:

Jfl2f
i

1 mm. Ohne der Allgemeinheit wird deshalb liegt typisch konstant bei exp(2x2/w~(z)) 1 gesetzt. Aus g(x, y) wird dann g(y) = exp(2y2/w~(z)). k ans. 341 Die dnne Linse kann aus zwei Grnden keine minimale Strukturbreite liefern: 1. Nach Voraussetzung ist w~(z) klein, so gungslimit begrenzt. 2. Die Empfindlichkeit der Brennweite von der Geschwindigkeit v~, ist durch die quadra tische sehr so verkrzt durch Wird die Wechselwirkungsstrecke yww des Lichtfelds ber w~(z) sich nach Gl. 3.45 die Brennweite fd. Die weite wird. Also wird die Atome in Wellenvektorrichtung kL~ so klein wird umso kleiner, je kleiner die Brenn sie innerhalb der Wechselwir trotz hoher Io eine Brenn

U_~X,y,Z

2Is62+410F2g(x,y) hk2 2 o g~x,y~ LZ

Bei negativer Verstimmung ist das harmonische Potential flacher als das bei positiver Ver stimmung. Diese Atomlinse hat also eine Akzeptanz fr in einem breiteren zBereich Untergrund auftreffende Atome. Es sind relativ breite Strukturen mit wenig Untergrund zu erwarten. Bei positiver Verstimmung werden hingegen schmale Strukturen mit relativ erwartet. Fr kurze Wechselwirkungszeiten zwischen Atom und Lichtfeld bewirkt das optische Poten tial einen Impulsbertrag auf die Atome, welche nicht zentral die dringen. Dadurch werden die Atome in Linien fokussiert. wird davon ausgegangen, ein perfekt kollimierter, monochromatischer Atomstrahl ein rein harmonisches Poten tial durchquert. Die Atome haben also nur eine einzige Geschwindigkeit v~, in yRichtung senkrecht zur Stehwellenrichtung. Eine ideale dnne Linse

weite entsteht. Wie noch gezeigt wird, ist dadurch die

durch das Beu

kungsstrecke liegt. Das definiert den Gltigkeitsbereich der dicken Linse. Die Bewegung der nun bercksichtigt werden.

Eine ideale dicke Linse Im Gltigkeitsbereich der dnnen Linse liegt die strahlrichtung gilt:
=

f weit

des Wechsel Die Oszillatorperiode T03~ innerhalb eines harmonischen Potentials ist Oszillatoramplitude, d.h. von der vom Eintrittsort der Atome in das Potential. Nach
~~

wirkungsgebiets von Atom und Lichtfeld. Es gilt also f w~. Fr den Impuls in Atom mv~
= =

in

yww tww f:

(3.42)

einer Viertel Oszillatorperiode Tr erreichen alle Atome das Potentialminimum und wer den einer 6(z) Funktion in scharfen Linien mit Abstand bei der Brennweite fD fokussiert. Fr alle Zeiten

Aus einer geometrischen Betrachtung folgt dann fr die

=

py

(3.43)

(2n+ 1)~

mit: n

0,1,2,...

(3.46)

~p2: Impulsbertrag durch das zur Atomstrahlrichtung transversale optische Potential.

findet eine scharfe Fokussierung statt.

58 Mit T0~
=

LichtkraftAtomlithographie 2ir;/mz2/2U ergibt sich fr eine negative Verstimmung 8 < 0 mit (3.41):

3.1 Theoretische Grundlagen Divergenz des Atomstrahls Die serkhlung Stehwelle. Die onszeiten, die sich positiv auf

59

T03:
fD_
= =

______

m7r2(1s82

+ 2F2I~jg(y))

4F2hk~Iog(y)

vy cc

i/ ~
Vo

.XLVy

(3.47)

der Divergenz des Atomstrahls in zRichtung durch transversale La nach Gl. 3.38 berhaupt erst eine Fokussierung der Atome in der auf der Atomstrahlachse eingegangen. die Kollimation kurze Depositi im Depositionsbereich auswirken. Darauf

und fr eine positive Verstimmung 8> 0 mit (3.40):

\J

rnlr2SIs 4F2hk~Iog(y)

lT
Vu

wird noch
XLVV

cc

(3.48)

In Praxis und Simulation [BER94, NAT95, 0UP95] hat sich gezeigt, des Atomstrahls der wichtigste Faktor zur harmonischen Teil des optischen Potentials um Linien. Eine

Offensichtlich gilt: Verstimmung.

fn~.

<fD_.

Die kleinere

ergibt sich also hier fr eine positive

des Lithographieprozesses gegen das Potentialminimum versetzte

ist. Nach [BER94] ergeben transversale Geschwindigkeitskomponenten in zRichtung im der effektiven Linienbreite kann ber die geometrische Optik fr y oo die Linienbreite als Bild zu B wird B = w~(z)9.

Die Bestinmuing der Lage der Hauptebenen ist hier nicht trivial. In [MCC95j wird im Teilchenbild eine Bewegunggleichung fr die Trajektorien der Atome in einer transversalen Stehwelle numerisch Die Lage einer Hauptebene kann dadurch ermittelt werden. Es wird ein Anregungsparameter
ci :=

geschehen. Bei einer Abbildung des mit 9 divergierenden Atomstrahls als Gegenstand G yO ergibt sich ber den f~9. Mit dem Substrat im Maximum des
*

2F2Iow~(z)hkZ
m7rI8IIsv~

(3.49) oder klei von a verkrzt Aberration Aberrationen kommen durch vom Potentialminimum entfernt Terme in der harmonischen harmonisches Potential zu erzeugen. Fr die

definiert. Es zeigt sich,

bei steigendem Anregungsparameter

nere Verstimmung) sich zwar die Brennweite verkrzt, jedoch bewegt sich auch die Haupt ebene in yRichtung aus der dicken Linse heraus. Ein starkes die Brennweite nur noch sehr schwach. Eine die im Maximum des bei y
=

rung des optischen Potentials zustande. Es ist immer ein Ziel, ein ber weite zBereiche Stehwelle ist das nach Gl. 3.41 fr eine negative Verstimmung 8 < 0 besser erfllt als fr positive Verstimmung. Die Apertur D einer dicken Linse der Kette Sie ist jedoch nicht scharf definiert, Atome dringen an jedem Ort z in das Stehwellen
~ ~.

0 liegt, hat experimentelle die Tiefe,

Vorteile. Zum einen hat dort das optische Potential bei maximaler zum anderen entspricht dann die

dem einstellbaren Strahlradius w~(z). Befindet Gl. 3.49 ergibt

sich das zu strukturierende Substrat an dieser Stelle, so ist auch die Wechselwirkungsstrecke

Potential ein. Atome, die in anharmonische Potentialgebiete eintreten, haben unterschiedliche Oszilla tionsperioden T03~. Dadurch entstehen fr Wechselwirkungszeiten tww > TQ~a viele dicht beieinanderliegende verbreiterte Linien [BER94]. Nach Cl. 3.46 verlieren die Linien bei wach~ sendem n an und werden verbreitert. Der beste Fokus entsteht genau bei n 0. Die Wechselwirkungszeit sollte also genau eine Viertel Oszillationsperiode betragen:

yww

w~(z). In [MCC95] wird diese

sich diese

bei a = 5,37 erreicht. mit (3.33) bei einer Laserleistung PL von:

PL
=

5,37

mI8(Isw~0w~ )4v~ 8hF2c~(z)

(3.50)

Abweichungen vom idealen Verhalten Bisher wurde die Fokussierung eines perfekt kollimierten, monochromatischen Atomstrahls betrachtet. Im folgenden wird auf die Mechanismen eingegangen, die eine Verschlechterung der der atomoptischen Linsenkette bewirken. Die Eigenschaften des Atomstrahls,

tww

yww

w~(z)

T03~
4

.1 Aberrationen einen

Da das volle Stehwellenpotential anharmonisch ist, ergeben kungszeit (3.51) nicht

des Lichtfelds und des Depositionsaufbaus bestimmen die minimale Breite der Linienstruk turen und den erreichbaren Kontrast.

Untergrund zur Linienstruktur. Dabei wird die Breite der Linien bei kleiner Wechselwir

60 Diffusive Aberration Spontane Emissionsprozesse Diese Prozesse sind bei kleiner

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen

61

aus der Ebene senkrecht zum Atomstrahl um einen vorgegebenen Winkel erreicht. Die relati der Wechselwirkungszeit fhren zu 1,. und Verstimmung 6~ Im ve tische die lineare wirkt bemerkbar bei einer bereits ist in Abb. 3.6 gegen die normierte relative Geschwindigkeit ( := (v~v~ )/v~ (3.45) einer dnnen Linse, die gestrichelte Kurve zeigt (3.48) einer dicken Linse. Die achromatische Linse longitudinalen Geschwindigkeitsvertei
~

auf die Atome und zu Fluktuationen im Vorzeichen des optischen Potentials. bar. Dasselbe trifft aber auch zu, wenn die Wechselwirkungszeit tww kleiner bleibt als die natrliche Lebensdauer r. Dann ist die diffusive Aberration unempfindlicher gegenber der die ein tiefes optisches Potential liefern soll. Ist die sitiv, zeigt die Dipolkraft in Richtung kleiner also tww < r und 5 Aberration Verstimmung po an den Stehwellenknoten. Gelten

um eine zentrale Geschwindigkeit v~ aufgetragen. Die gepunktete Kurve zeigt die quadra

lung. Sei die relative Breit&der longitudinalen Geschwindigkeitsverteilung 0, 1 ~ ( 0, 1 nahezu

~ 0,2. Die

Brennweite einer achromatischen dicken Linse (durchgezogene Kurve) ist in 1. Ordnung fr die chromatische dicke Linse von etwa 20 % also in einem Bereich von 10 % um v~0 eine

0, so ist ein Untergrund zur Linienstruktur aufgrund diffusiver klein.

sich die Brennweite der achromatischen dicken Linse nur um etwa 3 %.

2.0

Chromatische Aberration Ein effusiver thermischer Atomstrahl hat eine breite MaxwellBoltzmann Geschwindigkeits verteilung tXv31. Daraus resultiert eine Verteilung der Wechselwirkungszeiten Atww. Die Bedingung tww erfllt werden.
= ~7L

1.5
0

kann daher stets nur von einer bestimmten Geschwindigkeitsklasse der Brennweite

/1v~ ergibt sich eine

Dnne Linse Dicke Linse Achromat vunabh.

. .

0) 0)

t~f
bei einem im Maximum des

vy

(3.52)

:Cu 60 0

c 1.0

angebrachten Substrat. Der Beitrag zu einer Ver

II

0)

0.5

breiterung der Linienstruktur ergibt sich aus einer geometrischen Betrachtung:

~vy vy
D: Apertur einer dicken Linse ~

(3.53)

0.0 0.3

_______

0.2

0.1 0.0 0.1 norm. rel. Geschwindigkeit ~

0.2

0.3

Abbildung 3.6:
Die relative Breite der longitudinalen Geschwindigkeitsverteilung eines effusiven Atom strahls ist typisch

~7

1. Eine

der relativen Geschwindigkeitsbreite kann verringert werden, wobei aber der

Aufgetragen ist die relative Eine ist im Text gegeben.

t der verschiedener Linsen typen. gegen die normalisierte relative Geschwindigkeit (.

durch Verwendung von

geringer bleibt als hei effusiven Atomstrahlquellen. Aus diesem Grund sind eine longitudinale Laserkhlung oder der Aufbau einer achromatischen Atomlinse besser geeig net. Das Konzept der in [DRE9Sj vorgeschlagenen achromatischen Linse nutzt die unter schiedlichen DopplerVerschiebungen der atomaren Resonanzfrequenzen verschieden schnel ler Atome aus, um eine der Brennweite (beachte (3.45) und (3.48)) in 1. Ordnung zu korrigieren. Dies wird durch ein Verkippen der AtomlinsenKette Die Wellennatur der Atome mit der de
~dB

Beugungsbegrenzung
liefert einen Beugungsbei

trag zur minimalen Linienbreite der Struktur. Ohne Aberrationen und ohne Divergenz des Atomstrahls ist die minimal erreichbare Strukturbreite beugungsbegrenzt mit einer

62
von:
WBeug~

LichtkraftAtomlithographie

3.1 Theoretische Grundlagen

63

2fXdB
Id

4f A~2
.

(3.54)

Af~,

Durch chromatische Aberrationen z.B. verbreitert sich eine Linie dann schon um den in Cl. 3.53 angegebenen Beitrag. Atomares Element fr die LichtkraftAtomlithographie Das hier fr die Atomlithographie verwendete Element Chrom besteht aus einem Gemisch vier unterschiedlicher Isotope. Die Lichtlinsenkette bei einer
XL

der Kante des Substrats die Mode des Lichtfeldes Abhilfe schafft die Abbildung einer Kante, die das abschneidet [WEB9S]. Durch eine Optik aus zwei Linsen kann das abgeschnittene in den Depositionsbereich abgebildet werden. Die das Substrat treffende Flanke kann dadurch ausgeblendet werden. Kurze Depositionszeiten sind auch hier wieder von Vorteil. mssen fr den optischen Aufbau am Depositionsort Materialien mit kleinen thermischen Ausdehnungskoeffizienten wie Aluminium, Invar oder VAStahl verwendet werden. zur Fokussierung mit einer realen dicken Linse Zur von wird ein 52ChromAtomstrahl mit einer mittleren Geschwindigkeit von = 800 ? als Beispiel betrachtet. Experimentell realistische werden wie folgt angesetzt. w(z) = = 1 mm und w~(z) sei = 100 pm (zR~ 1 cm). Die Laserleistung bei XL = 425 nm (J9 3 * Je = 4) betrage 25 mW. Die 1o ergibt sich dann zu 1,6*1055. Die Verstimmung ist 8 = +160MHz (durch Resonator R2 vorgegeben). Weitere charakteristische finden sich in Anhang B.
Potentialtiefe (3.37) IUmazI = 30 ueV. Das bedeutet, mit
Vrec =

von 425 nm aber nur das zu 84 % natrlich vorkommende 52Crlsotop (beachte Anhang B). 16 % der auftreffenden Atome des effusiven Atomstrahls werden also nicht fokussiert und bilden einen unvermeidbaren Untergrund zur Linienstruktur. Der Vorteil bei Chrom als Lithographieelement liegt bei verschwindender selbst an Luft unter Normalbedingungen de andere Untersuchungen geeignet. es treten keine Struk und langzeitstabil. Sie ist her turverbreiterungen durch Diffusionsprozesse auf. Eine mit Chrom erzeugte Linienstruktur ist vorragend fr eine Charakterisierung unter einem RasterKraftmikroskop und weiterfhren

das optische Potential die

atomaren Trajektorien fr eine transversale Geschwindigkeitsbreite Vibrationsisolierung Mechanische Schwingungen des optischen Aufbaus zur Erzeugung des Stehwellenfeldes fhren zu einer der Potentialminima und damit zu einer Verbreiterung der Linienstruktur. In Anhang A wird ein vibrationsisolierendes System beschrieben, welches die Stehwellenoptik, die auf einer in diesem System angebrachten DepositionsGrundplatte auf gebracht ist, wirksam von mechanischem Rauschen im Laborbetrieb abkoppelt [WEB95J. Die Ortsabweichung der Potentialminima kann damit auf unter 10 nm reduziert werden. Strukturbreiten unter struktur gewisser werden. 10 nm sind wegen der in diesem Kapitel genannten Mechanismen sind, desto besser die experimentellen Parameter eingehalten praktisch nicht erreichbar. Je krzer die Depositionszeiten zur Herstellung einer Linien A&. fokussiert.

~/~j5~ ~ 2O6Vrec

Brennweite faq. (3.48) einer idealen dicken Linse fr 8 = +160 MHz: fD~ = 22 pm. Laserleistung fr Fokus im Maximum des (3.50): PL = 8,8 mW. Bei
=

dieser Laserleistung liegt der Fokus der idealen dicken Linse im Maximum y = 0 des

und die Brennweite entspricht w~

100 pm.

Linienbreite aufgrund der Strahldivergenz e (Seite 59 oben): sei 9 = 0,2 mrad. Dann ist: B = 20 nm. Das entspricht einer minimalen Linienbreite aufgrund der angegebenen

Divergenz.
Wechselwirkungszeit tww (3.51): tww = 4r. Der Strahlradius zur Vermeidung diffu siver Aberrationen liegt bei w~ u~,0tww < 26,um. 0,8. Dann ist: Af = 80 jim. Mit (3.53) ergibt

Thermische Ausdehnung Falls das zu strukturierende Substrat im Maximum des GauBProfils angebracht ist, trifft die der StehwellenMode auf das Substrat auf. Zum einen absorbiert das Substrat einen Teil der Strahlung und dehnt sich thermisch aus. Zum anderen kann die Beugung an

(3.52): sei sich:

Wchr
~

170 nm. Eine kleinere Brennweite w~ steigert die hier durch chromatische

Aberrationen begrenzte

o Beugungslimit: mit Adn

10 pm und f

.~

1 jtm ist

lA.

64

LichtkraftAtomlithographie

65

Fr eine Realisierung von Strukturen geringer Linienbreite in einem Experi ment die Brennweite ber der L und der Verstimmung 6 variiert werden, wenn das Substrat an einem festen Ort angebracht ist. Auf diese Weise kann eine optimale Einstellung dieser Parameter ermittelt werden. Bei einer guten Kollimation des Atomstrahls wird sich prinzipiell die Linienbreite bei Verkrzung der verklei nern. Alternativ kann auch das Substrat unter der AtomlinsenKette sukzessive verkippt werden, damit sich der Abstand zwischen und bei fester Ein stellung von L und 6 Eine Optimierung der LichtfeldParameter ist in diesem Fall nicht Um Linienbreiten im Bereich von 10 nm erreichen zu ist eine Unter drckung von Vibrationen und thermischen Effekten am Depositionsort wesentlich.

3.2

Experimentelle Realisierung

Dieser Abschnitt beschreibt die experimentellen Arbeiten, die im Rahmen der Lichtkraft Atomlithographie durchgefhrt wurden. In Abschnitt 3.2.1 wird die komplette Atomstrahlapparatur dargestellt, die im wesentlichen die folgenden Komponenten die effusive Atomstrahlquelle, den Bereich der Strahlkonditionierung durch eindimensionale transversale Laserkhlung uhd den Bereich der atomoptischen Fokussierung mittels eines periodischen optischen Potentials einer LaserStehwelle. In Abschnitt 3.2.2 wird die erreichte der Divergenz des effusiven thermischen Atomstrahls beschrieben und Abschnitt 3.2.3 stellt die in einem Depositionsex periment erreichte Fokussierung des kollimierten Atomstrahls in Linien vor. 3.2.1 Die Atomstrahlapparatur

Der schematische Aufbau der Atomstrahlapparatur ist in Abb. 3.7 dargestellt. Die Abmes sungen liegen bei etwa 1,10 x 0,5 x 0,5 m3. Die Apparatur ist auf einem pneumatisch gefluteten o~tischen Tisch aufgebracht [WEB95j.
Turbopumpe 1 Ofen mit xyzVersobiebeeinheit Turbopumpe 2 Oepositionsbereich

1
T
Khlbereich 1, lOm Frequenz stabilisierung

T
F~uoreszeazdetektion

Abbildung 3.7: Schematischer Aufbau der Atomstrahlapparatur. Die einzelnen Komponen ten werden im Text beschrieben.

Der Atomstrahlofen Die einfachste Methode zur Erzeugung eines Strahls neutraler ChromAtome besteht im Verdampfen aus einer effusiven Quelle. In einem Tiegel wird ChromPulver erhitzt. Die

66 dazu wird mit aus Wolfram erzeugt. Der Tiegel selbst liegt

3.2 Experimentelle Realisierung vom Gesamtsystem

67

Ein genauer Aufbau zum Depositionsexperiment ist in

in einer Tantalhalterung. Durch eine Wolframfolie wird der Tiegel vor dem direkten Kon takt mit der Halterung geschtzt, denn ein Kontakt zwischen Tiegel und Tantal den Tiegel bei Temperaturen oberhalb 1400 1600 und 1800 Wesentlich ist die Auswahl eines geeigne ten~Tiegelmaterials, da zur Erzeugung eines intensiven Atomstrahls Temperaturen zwischen sind. Die Tiegel bestehen aus einer mit Kalziumoxid stabilisier hat einen niedrigen der Teilchen in ter ZirkonoxidKeramik [WEB95]. Das Material ist stabil bis 2200 Dampfdruck und ist gegenber Chrom chemisch stabil. Die freie der Quelle ist so der kollidieren. Daher

Abschnitt 3.2.3 dargestellt. Bei einem Laserkhlexperiment kann das komplette vibrationsi solierende System mitsamt der Grundplatte ohne Aufwand aus der Kammer entfernt werden. Fr das schnellere Erreichen eines niedrigen Druckes wird bei einem Depositionsexperiment die zweite Turbomolekularpumpe an dieser Kammer angefianscht. Bei eingesetztem vibra tionsisolierenden System kann hier ein Vakuum von < 1*106 mbar erreicht werden. Fluoreszenzdetektion In dieser Kammer kann der Atomstrahl durch Aufnahme eines Fluoreszenzsignals ber einen Photomultiplier in zRichtung detektiert werden. Eine Linse mit Brennebene in der Atomstrahlachse fokussiert das Fluoreszenzlicht auf den Photomultiplier. Dadurch wird die Detektion von Streulicht vermieden. Bei einem Laserkhlexperiment wird dabei mit einem beweglichen Spalt das Geschwindigkeitsprofil des Atomstrahls in zRichtung durchgefah ren und computergesteuert ausgewertet [5CH96]. Bei einem Khlexperiment ist die o.g. zweite Turbomolekularpumpe an diese Kammer angefianscht und erzeugt ein Vakuum von <1*106 mbar. In einem Depositionsexperiment wird ber das Signal des Photomultipliers der kollimierte Atomstrahl auf ein 0,5 mm einjustiert. In Abschnitt 3.2.3 wird dies 3.2.2 Loch in der Grundplatte am Substratort beschrieben.

die als Strahl aus der Quelle austretenden Atome nicht miteinan sich die Geschwindigkeitsverteilung im Atomstrahl unmittelbar der Quelle abgeschirmt, eine kleine die

aus der Temperatur bestimmen [WEB95]. Die restliche Atomstrahlapparatur wird durch ein wassergekhltes Schild gegen die Justage der Atomstrahlrichtung. Khlbereich In dieser Kammer wird die Divergenz des effusiven thermischen Atomstrahls durch eindi mensionales transversales Laserkhlen ist in Abschnitt 3.2.2 dargestellt. Ein genauer Aufbau zur Laserkhlung erlaubt das Austreten des Atomstrahls. Eine xyzVerschiebeeinheit

Die erreichte Kollimation des ChromAtomstrahls der atomoptischen

Frequenzstabilisierung In dieser Kammer wird die Frequenz des Ti:SaphirLasers auf einen atomaren gang stabilisiert. Der prinzipielle Aufbau ist in Abb. 2.3 dargestellt. Die Wirkungsweise wird in Abschnitt 2.2.1 An diese Kammer ist die erste magnetgelagerte Turbomo lekularpumpe angeflanscht. Ein Ventil trennt diese Kammer von der Kammer des Deposi tionsbereichs. Die mit einer Vorpumpe gekoppelte Turbopumpe kann in den ersten beiden Kammern ein Vakuum von < 1*106 mbar erzeugen. Depositionsbereich In dieser Kammer wird der ChromAtomstrahl auf ein Silizium oder Quarzsubstrat in Li nien fokussiert. Dazu wird das vibrationsisolierende System (Anhang A) mit der auf der Grundplatte aufgebrachten Optik zur Erzeugung einer Stehwelle in die Kammer einge setzt [WEB95]. Da das Licht ber die EinmodenLichtfaser (Abschnitt 2.4) auf die Grund platte eingekoppelt wird, ist eine mechanische Entkopplung der atomoptischen Linsenkette

Eine hohe Kollimation ist ein wichtiger Faktor zur den umfangreiche Experimente an allen durchgefhrt. Dabei wird die in der J9
=

Linsenkette. Zur eindimensionalen transversalen Laserkhlung des ChromAtomstrahls wur des 52Cr (siehe Anhang B) der transversalen Geschwindigkeitsverteilung und der Verstimmung gemessen. Charakteristische ist hier jeweils als wird die experimentefle

von der 3
Je =

Ergebnisse werden hier dargestellt. Der dann fr die Fokussierung verwendete

~

4 Dipolbergang. Alle

nahezu perfektes ZweiNiveauSystem behandelt werden. Anordnung anhand von Abb. 3.8

Das parallele Licht des Resonators Rl wird ber linear polarisiert und am polarisierenden Strahltei

das Viertel und

lerwrfel PST1 in einen schwachen Zweig zur Frequenzstabilisierung (Abschnitt 2.2.1) und Fluoreszenzdetektion (Abschnitt 3.2.1) und einen starken Zweig zur Laserkhlung aufge spalten. Der Ofen, in dem der mit ChromPulver gefllte Tiegel mit einer von 2,5 min fixiert ist, erzeugt nach dem Hitzeschild mit einer einen divergenten Atomstrahl mit 9 0,08 rad. von 4 mm

68

3.2 Experimentelle Realisierung Der erste Kollimationsspalt 51 hat eine Breite von
1 Q In 14 14

69

100 pm in zRichtung und eine

von 1

min in xRichtung. Er wirkt auf den Atomstrahl wie eine Lochbiende und verbreitert dessen Durchmesser um den Faktor (8/3) auf etwa 11 mm am Kollimationsspalt 52. Das entspricht 2 einer Divergenz 0 von etwa 5 mrad. Der Kollimationsspalt S2 hat dieselben Abmessungen wie S1. Er kann um ca. +3 mm transversal zur Atomstrahlrichtung in zRichtung verscho ben werden. Der dazu feldern im Khlbereich. Vorbereitung des Khlexperiments werden ber den JustierLaser die die Spalte 81 und 82 und die Op Schrittmotor wird ber ein Datenerfassungsprogramm vom Laborrechner aus angesteuerC Die HelmholzSpulen dienen der Kompensation von Magnet
0

tik der FluoreszenzDetektionseinheit auf die Mittelachse der Atomstrahlapparatur justiert. Durch Regulierung des Stromes der HelmholzSpulenpaare mssen Magnetfelder im Bereich
1 0
4 ii)

der Laserkhlung kompensiert werden. Bereits das Erdmagnetfeld von etwa 0,05 mT die bewegungsinduzierte Orientierung beim PolarisationsgradientenKhlen (GI. 3.14), da die magnetis&then energetisch verschoben und ungleich besetzt werden. Zur
.

.0
rdD

Kompensation kann z.B. der J9 = 3

Je

in 52Cr verwendet werden (sie

N 0 0 0 1

he Anhang B). Der Atomstrahl wird durch einen linear polarisierten Teststrahl mit AL 427,5 nm ber die Zylinderlinsen ZL1 und ZL2 von einer Seite zur Fluoreszenz angeregt. 2 2 (n
r4 (1)

Bei entarteten Grundzustandsniveaus kann der Zustand go) wegen verschwindender gangswahrscheinlichkeit nicht an das linear polarisierte Lichtfeld ankoppeln (siehe Tab. B.2). Eine magnetfeldbedingte Verstimmung und Mischung der Ankopplung bewirken. Folglich ist die mit gnetischer Mischung deutlich durch Variation der pensiert werden. kann jedoch eine Auge beobachtbare Fluoreszenz bei ma Magnetfelder durch minimierte Fluoreszenz kom

als bei kompensierten Magnetfeldern. Auf diese Weise

0 ci. N 0 3:

J
0

Das Khlexperiment Der Laserstrahl fr den Khlbereich wird durch einen Chopper in schneller Abfolge an und ausgeschaltet. Die Photodiode PD detektiert diese Abfolge und dient der Triggerung der Messung des transversalen GeschwindigkeitsProfils ber Spalt 52 und der Fluoreszenz Detektionseinheit im Datenerfassungsprogramm. Es wird jeweils ein Ortsprofil des ungekhl

Abbildung 3.8: Anordnung zur Messung und Charakterisierung ein dimensionaler transver sEiler Laserkhlung. Eine wird im Text gegeben.

ten und des gekhlten Atomstrahls bei 82 am Laborrechner ausgegeben. die geome trische Anordnung der Spalte 81 und 82 berechnet sich bei Kenntnis der longitudinalen Atomstrahlgeschwindigkeit die entsprechende Geschwindigkeits bzw. Impulsverteilung. Bei

70

3.2 Experimentelle Realisierung wird als mittlere longitudinale_Atomstrahlgeschwindig die wahre Breite der Verteilung durch
=

71

einer Ofentemperatur von 1600

keit v~ die maximale (wahrscheinlichste) Geschwindigkeit v,, = .J2kBT/m = 771,5 v2 von 0,96
=

ange
p112

setzt. Einer Verschiebung von 52 um 1 mm in zRichtung entspricht dann eine Geschwin

(3.55)

Fr den fr die Lithographie verwendeten J9 = 3

Je

entspricht das einer von 53,3Prec (beachte Anhang B). Die

von 53,3vrec oder einer Im dieser Messung ist durch die

gegeben. c,~ entspricht dabei der mittleren quadratischen Geschwindigkeit reichbare (Khl)Temperatur ist damit durch T = gegeben. Die Divergenz

\/?j5. Die er
(3.56)

Breite der Spalte S1 und 52 und deren Abstand auf 2,4vrec begrenzt. das nach dem Chopper wird ber den polarisierenden Strahltei vor dem

lerwrfel PST2 die Laserleistung im Khlbereich festgelegt. Das weitere chen erzeugt fr x = 2 zusammen mit dem Spiegel eine Lin .L LinStrahlkonflguration und fr x = 4 eine c~ aKonflguration. Das (x, y)

des Atomstrahls ist bestimmt durch: O~.

o.w (3.57)

Teleskop aus den Zylinderlinsen ZL1 und ZL2 weitet den Laserstrahl auf eine Lichtfeld (die Wechselwirkungszeit Winkel und gegangen werden, bei abgedecktem 51,8 ps)

Fr die RabiFrequenz im Laserfeld gilt: fZ~(x,y,z) = F21(z,y,z) 21s

(3.58)

von 2 x 40 mm2 auf. Diese 40 mm lange Wechselwirkungsstrecke zwischen Atomstrahl und ber die beiden Umlenkspiegel in Spiegel die Atome zuerst in positive Justage des die des Hitzeschildes entsprechen. exakt auf den Atomstrahl justiert werden. Dabei kann so vor

Insbesondere wird hier die maximale RabiFrequenz im und Gl. 3.33 mit w~ = w~(z) = 1 mm und w~ = w~(z) = 20 mm:
0, 0)

Strahlprofll mit Gl. 3.30

zRichtung abgelenkt werden und das Signal des Photomultipliers durch Justage des Laser strahls minimiert wird und dann nur noch durch (xRichtung) der Laserstrahlen der der Spiegels die Laserstrahlachsen berlappt und das Khlsignal maximiert wird. Dabei

2I~/ PL y Is1rLJ~0w~0

(359)

Die Verstimmung von der atomaren Resonanz wird durch ein Verkippen des Laserstrahls der FluoreszenzDetektion in +y oder yRichtung eingestellt.
=

In den eindimensionalen transversalen Khlexperimenten wurde die Breite der transversalen atomaren Geschwindigkeitsverteilung in von der RabiFrequenz FZRmGx und der Verstimmung 8 fr alle ergibt sich ein minimaler bei s des 52Chrom untersucht. Selbst fr die .s (Gl. 3.3) von ~ 0,5. Die in Abschnitt 3.1.1 niedrigste in diesem Experiment zur Laserkhlung verwendte Laserleistung von 45 mW diskutierten Laserkhlmechanismen haben ihre Gltigkeit jedoch bei kleinen

die geometrische An

ordnung der Apertur A und des Ablenkspiege1s errechnet sich dann z.B. fr den Jg = 3 4 eine Verstimmung 6 = ~i3~~ von 10,94 MHz entsprechend 0,351 fr eine Umdrehung der Mikrometerschraube an der Apertur A. Eine Umdrehung der Mikro meterschraube bewegt die Apertur um 0,32 mm in yRichtung. Dadurch wird das Signal des Photomultipliers kleiner, weil eine andere Geschwindigkeitsklasse im Atomstrahl detek tiert wird. Durch Verschieben des Arbeitspunktes der Frequenzstabilisierung wird das Signal wieder maximiert und die Frequenz des Ti:SaphirLasers auf die eingestellte Verstimmurg 6 stabilisiert (siehe Abschnitt 2.2.1). Die am Kollimationsspalt S2 gemessene Geschwindigkeitsverteilung ergibt sich aus ciner Faltung der wahren Geschwindigkeitsverteilung und zweier Rechteckfunktionen der Spal te S1 und S2. An die bei fester Geschwindigkeit v~ resultierende Dreiecksfunktion wurde eine
4,32*102

1. Im durchgefhrten Laserkhlexperiment wurde also stets im Bereich hoher gearbeitet, in dem eine Population des angeregten Zustands nicht

werden kann. Die Theorie sagt kleinste Temperaturen fr den Fall niedriger ratur steigt linear mit steigender voraus. Die Tempe an. Bei einer genauen Untersuchung von Khl

ergebnissen an Chrom kann ein leichter linearer Anstieg der Temperatur bei steigender festgestellt werden [SCH94]. Dabei ist die Steigung jedoch deutlich kleiner als die der theoretischen Vorhersagen [BER93J. Im folgenden werden einige charakteristische Ergebnisse der durchgefhrten Laserkhlexpe rimente dargestellt. Fr das LithographieExperiment ist es ein entscheidendes Ziel, einen intensiven und kollimierten ChromAtomstrahl zu erzeugen.

und so der Beitrag der Kollimationsspalte S1 und S2 von := ~s12 zur Breite der Verteilung ermittelt. Wird vorausgesetzt, die ge mit einer Breite von ~M sind, dann ist

messenen Geschwindigkeitsverteilungen

72
Jg =

3.2 Experimentelle Realisierung

73
sich aus der lichtinduzierten

J~

2, 3

tritt hier also Polarisationsgradientenkhlung auf. Dies

=

Energieverschiebung (3.6) der GrundzustandUnterniveaus entsprechend der Quadrate der

Das Khlexperiment am

wurde bei den Laserleistungen von

ClebschGordanKoeffizienten (siehe Anhang B) in der bin 1 LinKonfiguration [8C1196]. Durch die bei positiver Verstimmung wirkende DopplerAufheizung des atomaren Ensembles wird ein sehr gut definierter Atomstrahl ohne Untergrund erzeugt. Atome halb des Einfangbereichs der Polarisationsgradientenkhlung werden aufgeheizt. Aus diesem Grund wird allerdings eine groi3e relative wird nach der theoretischen Vorhersage bei relative Khlung proportional zur werden jedoch bei kleinen wegen Gl. 3.11 die relative nimmt ab. Bei einer negativen Verstimmung kehren sich die o.g. nem um. Der in ei
L

55 mW, 110 mW und 220 mW durchgefhrt. Nach Gl. 3.59 entspricht das maximalen Rabi Frequ~enzen von 6,41, 9,11 und 12,81. Dabei wurde jeweis bei Verstimmungen aus einem Bereich 4, 31 5 5, 61 das transversale Geschwindigkeitsprofil des Atomstrahls aus von 6,5 bei einer maxima zu erkennen. Ein zweites von 3,5 bei einer maximalen
=

gemessen. In Abb. 3.9 sind transversale Impulsprofile des Atomstrahls mit der in dieser Messung maximal erreichten relativen und die Anpassung an eine Profil zeigt die entsprechende relative len Rabifrequenz von 12,81 in der Lin L binKonfiguration dargestellt. Es sind die rau

wie beim J9

J~

= 4

nicht erreicht, denn dort wirken beide Khlmechanismen zusammen. Erwartungs RabiFrequenzen eine erreicht, da der Einfangbereich der Polarisationsgradienten ist (Tab. 3.1). Die niedrigsten Temperaturen ab und die transversale Impulsbreite erreicht. Bei hohen positiven Verstimmungen sinkt

RabiFrequenz von 6,41. Die gemessene RMSImpulsbreite wird hier ber PRMS definiert. Die wahre Impulsbreite ergibt sich aus Gl. 3.55 zu PRMS die Breite der Impulsverteilung auf PRMS auf PRMS
= = 3,9Prec (UM = =

rncM

mc,,,. In Abb. 3.9 ist

~1Rmax

4,6vrec) fr

12,81 und

3,8Prec fr

~Rmax

6,41

Das entspricht jeweils einer Divergenz

e von etwa 0,1 mrad.

7 6
0)
D

Einfangbereich wirkenden Dopplerkhlung ist ein enger Bereich einer

=

PolarisationsgFadientenAufheizung berlagert. In Abb. 3.10 ist eine solche Aufheizung der transversalen Impulsbreite PRMS lO,4p,ee dargestellt.

T1 T2

3O,O~iK 28,51~K

5. 4~

1.

.0
1))

0 0 0~
~

0 000

es

4.
0 ~: ~0

:0

c
0)

6,41

1
100

o
0)

1.0

0~

0 0 0

4
0

0)

0)

100

80

60

40

20

20

40

60

80

0 0

atomarer Impuls IPTeC]

0.0 Abbildung 3.9: Transversale Impulsprofile des .1, = 3 2,31. Die maximalen R.abi Frequenzen sind

J. = 2

!~RI =

Ubergangs. Die Verstimmung 12,81 und ~R2 = 6,41.

100

80

60

40

20

20

40

60

80

100

atomarer Impuls [PreC]

Abbildung 3.10: Transversales Impuisprofil des Jg = mung 4,31. Die maximale RabiFrequenz
3
*

Die erreichten Temperaturen von 30 pK bzw. 28,5 1zK liegen deutlich unter dem Dopplerli mit (3.2) TD
=

J~

= 2

Die Verstim

123,6 pK des J9

J~

Bei einer positiven Verstimmung

12,81.

74

3.2 Experimentelle Realisierung

75

In Abb. 3.11 ist eine Messung der Impulsbreite dargestellt, bei der bei gleichbleibender La serleistung und Verstimmung die LichtfeldKonfiguration gen

In Abb. 3.12 ist das transversale Impulsprofil mit der in dieser Messung maximal erreich
ten relativen von 5,8 bei einer maximalen RabiFrequenz von 12,51 2,61. dargestellt. Die Verstimmung

wurde. Die zur

zur Lin LinKonfiguration und die

rKonfiguration. Die relativen sind 4,6 bzw. 1,7. Gemessen wurd~ bei einer maximalen RabiFrequenz von 12,81 und einer Verstimmung von 1,71.

45,61iK

05...

4
0) c c Lt 1. 0) .0
4 4,

D O

ci,
.0

D3

Co
(0)

Ci)

(0)

4 1
0
~1~
0

c ci) c

100 80 60 40 20 0 20 40 atomarer Impuls [PreJ 60 80 100

80

60

40

20 0 20 40 atomarer Impuls [PreJ

=

60

80

100
Die Verstim

100

Abbildung 3.12: Transversales Impulsprofil des J9 mung 2, 61. Die maximale RabiFrequenz

.J~ = 3 12, 51.

Abbildung 3.11: Transversale Impulsprofile in zwei verschiedenen Lichtfeldkonfigurationen. Die relative ist in der Lin .L LinKonfiguration deutlich als in der cy+ crKonfiguration. Die Verstimmung 1,71. Die maximale R.abi Frequenz 12,81.

Anhand der transversalen Impulsbreite errechnet sich eine Divergenz von 13 des Jg
=

0,11 mrad.
=

Die erreichte Temperatur von 45,6/4K liegt deutlich unter dem Dopplerlimit TD

1 l7pK

J~

Es zeichnet sich wieder ein sehr gut definierter Atomstrahl

ohne Untergrund ab. Aufgrund der transversalen Impulsbreiten ergibt sich fr die Lin LinKonfiguration ei ne Divergenz 13 von 0,14 mrad und fr die c+ 0,32 mrad. Die erreichte Temperatur in der o~ ausgemessene Impulsbreiten waren fr alle trachtet. Die Laserkhlung am
=

cKonfiguration eine Divergenz 13 von Der J9 = 3

*

crKonfiguration von 379,8pK liegt deut in der c~

Je = 4

lich oberhalb des Dopplerlimits TD = 123,6pK.

crKonfiguration als in der Lin

Die Messungen der transversalen Impuisprofile dieses tiven VerstimmungsBereich von 3,31 3

wurden ber einen nega

LinKonfiguration. Im folgenden wird deshalb nur noch die Lin 1 LinKonfiguration be

1,21 bei maximalen RabiFrequenzen von

5,81, 8,21 und 11,61 entsprechend 45 mW, 90 mW und 180 mW Laserleistung durchgefhrt. Die Untersuchung der lichtinduzierten Energieverschiebung der GrundzustandUnterniveaus (3.6) in der Lin LinKonfiguration eine Polarisationsgradientenkhlung fr negative sehr relative Inten

Jg = 3

J~

zeigt dasselbe Verhalten wie am J9

2 5

Die transversalen Impuisprofile wurden ber einen VerstimrnungsBereich

Verstimmungen erwarten. Demnach sind bei diesem

von 5,81

4,71 bei Laserleistungen von 50 mW, 100 mW und 200 mW ausgemessen.

maximalen Rabifrequenzen von 12,51, 8,81 und 6,21.

des Atomstrahls zu beobachten. Die Doppierkhlung mit einem breiten Einfangbereich (Tab. 3.1) khlt das atomare Ensemble vor, welches dann im wesentlich

Das entspricht bei diesem

76
kleineren Einfangbereich der PolarisationsgradientenKhlung weiter in der transversalen Impulsbreite Fr hohe Verstimmungen wird. Dadurch wird im Gegensatz zu den o.g. DopplerUntergrund erzeugt. der Khimechanismen nach erreichten relativen Inten ein sehr intensiver kollimierter Atomstrahl mit

3.2 Experimentelle Realisierung Khlmechanismus arbeitet wiederum bei hohen Verstimmungen Daraus tiven Verstimmung entsprechend etwa einer Linienbreite. Entgegen den theoretischen Vorhersagen ist beim J9 3
Je =

77

1~1

1 am effektivsten.

sich das optimale Zusammenspiel beider Khlmechanismen bei einer nega 4 Ubergang ber einen effektives Sub die experimentellen

~I

nimmt auch hier die

den Gleichungen (3.1) und (3.11) ab. In Abb. 3.13 ist die transversale Impulsverteilung

Bereich negativer Verstimmungen auch bei hohen DopplerKhlen auf kleinste Temperaturen beobachtbar. Das Resultate in [SCH94].

mit der im Experiment in der Lin LinKonfiguration

dieser Stelle sei bemerkt, dem im Khlbereich relative

von 27,7 bei einer maximalen RabiFrequenz von 11,61 dargestellt. An in einer Messung bei Anwesenheit von magnetischen von bis zu 35 erreicht wurden. Die

Abb. 3.14 zeigt die ber 01. 3.11 verknpften erreichten Temperaturen in vom Parameter

des effektiven Magnetfeldes war hier allerdings unbekannt.

~~/I~l

mit den maximalen RabiFrequenzen 5,81, 8,21 und 11,61. Die von 2,9). fr eine Wechselwirkungsstrecke von 40 mm fr einen

tiefste erreichte Temperatur ist 23,4pK (mit einer relativen Es ist deutlich zu erkennen, Bereich negativer Verstimmungen auch bei hohen RabiFrequenzen

30 25
c D c
St

T1 ~ T~

2,53mK 26,O~.tK

0)

Temperaturen deutlich unter dem DopplerLimit erreicht werden. Ein lineares Ansteigen der Temperaturen mit der ist nicht zu beobachten (beachte [SCH94]).

20 15 10

0) .0
CI) 4

120~

DopplerLimit Jg
6
0
D

1
w @ A

1))
4

c 0) c

100 80
4

IM=1,2r
j6~

0;

5
0

__

ct

L.

0)

0.

60~

161 161 0 I~I ~ 161

V

2,3r
=

2,6r 3,3r 213r~<

100

80

60

40

20 0 20 40 atomarer Impuls [p~6J

60

80

100 Die Verstim

0)

4W 20

33r~< I6I=1,2I~k El

Abbildung 3.13: Transversales Impuisprofil des J2 = 3 mung 1,21. Die maximale RabiFiequenz

J~

11,61. stark
=

~~~~~1~~~

Abb. 3.13 zeigt das DopplerUntergrundprofil und das

20

40

60 80 QR/161 [in]

100

120

te transversale Impulsprofil der Polarisationsgradientenkhlung. An beide Profile ist eine Die durch DopplerKhlung erreichte Temperatur ist T1 erniedrigt die Temperatur auf T2 Die optimale Verstimmung fr eine Nach 01. 3.1 ist die Dopplerkhlung bei 8
=

2,53

mK. Das entspricht einer Divergenz 0 von 0,82 mrad. Die Polarisationsgradientenkhlung 261zK entsprechend einer Divergenz 0 von liegt bei 8 11. 0,08 mrad. Die Kollimation wird hier noch um einen Faktor 10 verbessert. relative
=
~

Abbildung 3.14: SubDoppierTemperaturen des J9 = 3 + J~ = 4 Aufgetragen ist die Temperatur gegen den Parameter fz~/l8I bei maximalen Rabi Frequenzen von 5,81, 8,21 und 11,61. Die kennzeichnen verschiedene negative Verstimmungen. Der Index k steht fr eine kurze Wechsel wirkungsstrecke von 10 mm. Bei einer um den Faktor 4 abgeschatteten Wechselwirkungsstrecke ist jedoch ein linearer Anstieg bei verschiedenen Verstimmungen deutlich erkennbar. In diesem Fall scheinen die

am

Der Polarisationsgradienten

78
theoretischen Vorhersagen eher gltig zu sein, denn bei krzerer Wechselwirkungsstrecke treten bei hoher weniger spontane Emissionszyklen des angeregten Zustands auf als bei einer langen Wechselwirkungsstrecke.

3.2 Experimentelle Realisierung Linse L1 (f perfektes erwiesen.

=

79

12 mm) mit hoher numerischer Apertur. Obwohl die Faser als Modenfilter Profil. Das hat sich bei dieser Auskoppelmethode als problematisch

fr die Einkoppelmode aus Resonator R2 wirkt, hat selbst die ausgekoppelte Mode kein

3.2.3

Das Depositionsexperiment
= 3
~

Zur Fokussierung des ChromAtomstrahls in Linien wird der J9 52Chrom im Khlbereich der Atomstrahlapparatur limation des Atomstrahls mit einer Divergenz 0 sehr hen atomaren relative
=

J~

des

Es kann hier eine starke Kol

0,1 mrad erreicht werden. Die bei diesem

liefert im Depositionsbereich einen ho

L3

In einer Schichtdickenmessung mit Hilfe eines RasterKraftmikroskops

wurde die atomare Depositionsrate auf ein in den kollimierten Atomstrahl am Depositionsort eingebrachtes Glassubstrat zu etwa 0,15 nm/s bestimmt. Also sind kurze Depositionszeiten zur Herstellung einer Linienstruktur gewisser experimentelle Parameter wie die Der breite DopplerUntergrund des auf die metern (siehe In diesem Zeitraum hinreichend stabilisiert werden. Atomstrahls hat keinen negativen

Faser

L1

PST l2Omm

L2

der atomoptischen Linsenkette. Bei realistischen experimentellen Para auf Seite 63) kann das optische Potential nach Gl. 3.38 bei einer
OOPrec

>y

transversalen Impulsbreite des Atomstrahls im Bereich dagegen typisch im Bereich 2O~4OPrec.

die Fokussierung der Ato

Abbildung 3.15: Schematischer Aufbau der DepositionsGrundplatte. Die Optik mit den

me bewirken. Die transversale Impulsbreite eines erreichbaren DopplerUntergrunds liegt

~

In diesem Abschnitt wird nun das durchgefhrte Experiment zur Fokussierung von Chrom Atomen in Linien beschrieben. In Abb. 3.15 ist die DepositionsGrundplatte mit der das Stehwellenfeld erzeugenden Optik dargestellt. Fr ein Depositionsexperiment wird die Grundplatte in das vibrationsisolierende System (Anhang A) eingeschraubt. Dieser kom plette Aufbau wird dann in der Atomstrahlapparatur im Depositionsbereich (Abb. 3.7) aufgestellt. Bevor die Grundplatte in das vibrationsisolierende System eingesetzt wird, wird die Optik der Grundplatte folgt vorgegangen. Das Laserlicht fr die Stehwelle wird ber die EinmodenLichtfaser (Abschnitt 2.4) ber eine Vakuumdurchfhrung auf die DepositionsGrundplatte eingekoppelt. Fr einen Faserdurch messer von 190 pm sind derzeit keine kombinierten Stecker die eine Auskopplung des Lichts ber eine Gradientenindexlinse Daher wurde das Faserende in einer Mikropipette mit einem Innendurchmesser von 300 pm mit ZweiKomponentenKlebstoff fi xiert. Die Pipette, die in einem Halteblock eingespannt wird, kann dann in einem optischen Spiegelhalter befestigt werden. Die Auskopplung des Lichts erfolgt ber die achromatische der Atomstrahlapparatur einjustiert. Dazu wurde wie

Linsen L1 (f = 12 mm), L2 (f = 100 mm) und L3 (f = 50 mm) erzeugt am Depositions ort (Substrat) ein geeignetes Stehwellenfeld. Als Reflektor des Laserstrahls dient die mit einer hochreflektierenden Schicht bedampfte Kathete eines gleichschenkligen Prismas. Eine wird im Text gegeben.
Die achromatische Linse L1 wurde so fixiert, parallelisiert. Die sie den aus der Faser austretenden Strahl

des Strahls wurde mit Strahlradiusmessungen mit einem Chop

per nahe bei Ll und weit von L1 entfernt berprft. Die aus der Faser austretende Mode weitet sich in Ausbreitungsrichtung stark auf. Geringste Abweichungen von der exakten Mittelposition der Linse L1 bezglich der optischen Achse hatten in dem parallelisierten Strahl hinter Ll konzentrische Beugungsringe zur Folge. Deshalb ist es hier entscheidend, eine Linse numerischer Apertur zu verwenden. Selbst der Abstand der Lin am Rand se L1 vom Faserende ist sehr kritisch, da der aufgeweitete Strahl unter einer Stehwelle am Depositionsort wesentlich. Bereichs des zu strukturierenden Substrats ist nach Stehwelle ideal (siehe Abb. 3.3). Die Erzeugung

des Linsenhalters gebeugt wird. Die exakte Position der Linse L1 ist also fr die Erzeugung

Zur Ausleuchtung eines Abschnitt 3.1.2 eine elliptische

eines elliptischen Fokus am Depositionsort durch eine geeignete Optik aus Zylinderlinsen

80 war allerdings wegen der hier verwendeten Auskoppelmethode des Faserlichts nicht

3.2 Experimentelle Realisierung der Polarisationskomponente parallel zur Grundplatte durch den PST maximiert. big gedreht werden.

81

das

Das aus der Faser austretende nicht perfekt

also so wenig Linsen wie L2 urfd L3 ein einfacher

Modenprofil wird durch mehrma Stehwelle

im Strahlengang kann die lineare Polarisation am Depositionsort belie den PST kann durch Verstellen der Polarisation des aus der Faser austretenden Laserstrahls die Leistung in der Stehwelle am Depdsitionsort variiert werden. Durch die in den Strahlengang eingebrachte Glasplatte werden die Photodioden PD2, die Gesamtleistung der durch den PST transmittier

lige Linsentransformationen stark deformiert. Zur Erzeugung einer

verwendet werden. Deshalb wurde durch die Linsen Fokus am Depositionsort erzeugt. Aus diesem Grund

wurde auch auf eine Abbildung einer Kante (siehe Abschnitt 3.1.2) zur Vermeidung von Streulicht am Depositionsort und thermischer Ausdehnung des vom Laserstrahl getroffenen Substrats verzichtet. Zur Erzeugung eines Fokus auf der hochrefiektierenden die Positionen der Linsen L2 und L3 unter der Annahme perfekter berechnet. Die
=

PD3 und PD4 mit Laserlicht versorgt. Sie dienen der Kontrolle verschiedener Einstellungen. Die kalibrierte Photodiode PD2 ten Strahlung. Das Signal der Photodiode PD3 wird als Rckkopplung zur Optimierung

des Prismas wurden Strahlung

=

der durch die Faser transmittierten Lichtleistung an den LichtfaserEinkoppler LFE (siehe Abb. 2.1) gegeben. Die Funktionsweise des LFE ist in Abschnitt 2.4 Photodiode PD4 wird das o.g. Abschneiden des PD4 halb so der Mit Hilfe der Profils durch das Substrat im

reagiert sehr empfindlich auf die Position der Linse L3. Durch Fokus mit den Strahltaillen w1~ eingestellt. In Abb. 3.16 ist der Depositionsort er

kleinste Variation ihrer Position wurde ein 82,5 jsm direkt auf der genauer dargestellt. auf der Einstellung dieser der Verstimmung erreicht.

Maximum kontrolliert. Bei richtiger Justage des Laserstrahis ist das Signal der Photodiode wie das der Photodiode PD2. Eine kleine Aperturblende A hilft bei der der optischen Achsen des einlaufenden und des an reflektierten Laserstrahls. Mit einem vakuumtauglichen piezoelektrischen Einstellung der genauen

die Spiegeleinstellungen wurde der Laserstrahl so justiert,

in der Mitte seines Profils in yRichtung abgeschnitten wird (beachte Abschnitt 3.1.2). Eine liegende Brennweite entspricht dann der Strahltaille w~,0. Die wird nach Gl. 3.50 durch Optimierung der Laserleistung oder

Motor (Inchworm) kann das 30 mm lange und 1,5 mm breite polierte SiliziumSubstrat am Depositionsort in positive xRichtung verschoben werden. Nach Beendigung der genauen Justage der Optik wird die Grundplatte in das vibrations isolierende System eingeschraubt und in der Atomstrahlapparatur im Depositionsbereich

P G
EL II II

D~y

Laser 5mm

aufgestellt. Anhand von Abb. 3.17 wird nun die experimentelle Durchfhrung der Fokussie rung von ChromAtomen in periodische Linien Der Depositionsort der in der Atomstrahlapparatur aufgestellten Grundplatte auf die Mittelachse der Apparatur justiert werden. Dazu dient das am Ort des Substrats befindliche 0,5 mm eine 20 mm Loch durch die Glasplatte. Die Unterseite der Glasplatte ist durch in der Grundplatte freigelegt. In einem Justieraufbau werden zwei auf der Mittelachse der Appara

1<

25mm~
=

parallele Laserstrahlen im Abstand von 5 mm mit einem Durchmesser von jeweils 2 mm er zeugt. Der in Abb. 3.17 dargestellte untere Laserstrahl tur direkt zur Apertur des Hitzeschildes des Ofens mit einem Durchmesser von 2 mm. Das vibrationsisolierende System mit eingeschraubter Grundplatte wird auf Durchgang dieses Laserstrahls durch das 0,5 mm Loch am Substratort einjustiert. Als Ausgangspunkt fr das Depositionsexperiment wurde die planparallele Glasplatte der Grundplatte mit Hilfe

Abbildung 3.16: Depositionsbereich. Das gleichsc.benklige Prisma P

10 mm) wird mit Kanadabalsam auf der planparallelen Glasplatte G fixiert. Der Winkelfeh 1er zwischen Prisma und liegt bei mrad. Das Substrat 5 wird durch einen Stahldraht D auf die Glasplatte und gegen die Prisrnakante gedrckt.
Der polarisierende Strahlteilerwrfel (PST) in Abb. 3.15 dient der Einstellung der Pola risation des aus der Faser austretenden Lichts mit Hilfe der Verstellung des Polarisati onsstellers PS (siehe Abb. 2.1). Es war nicht austretenden Lichts die Polarisation des aus der Faser linear einzustellen. Daher wird ber die Einstellung des Po

der Schrittmotoren des vibrationsisolierenden Systems (siehe Anhang A) in der (x, z)Ebene senkrecht zur Ausbreitungsrichtung des Atomstrahls ausgerichtet. Der in Abb. 3.17 darge stellte obere Laserstrahl des Justieraufbaus wird von der yAchse von 0,5 mrad der Glasplatte reflektiert. Wird diese Reflexion in 2 m Entfernung betrachtet, ist ein Kippwinkel der (x, z)Ebene zur

larisationsstellers das Signal der Photodiode PD1 minimiert und somit die Transmission

82

3.2 Experimentelle Realisierung

83

Nach Beendigung der Justierarbeiten wird die Atomstrahlapparatur zur Einstellung der transversalen Laserkhlung abgepumpt. Im Khlbereich der Apparatur hat sich im Vergleich
ct

zum durchgefhrten LaserkhlExperiment nichts

Am polarisierenden Strahltei

lerwrfel PST1 wird wieder die Laserleistung in den Zweig zur Frequenzstabilisierung und Fluoreszenzdetektion und den Zweig zur Laserkhlung aufgeteilt. das chen vor dem polarisierenden Strahlteilerwrfel PST2 wird die Leistung im Khlbereich ein gestellt. Das Lichtfeld im Khlbereich bildet die Lin 1 LinKonfiguration. Die Laserkhlung wurde bei nicht eingespanntem Substrat auf das 0,5 mm
0 0
(1~

Loch in der Glasplatte ju

stiert. Dazu wurde das Signal am Photomultiplier durch Optimierung der Optik zur Khlung des Atomstrahls maximiert. Die Khlung wurde mit einer Leistung von etwa 180 mW ent sprechend einer maximalen RabiFrequenz von 11,61 durchgefhrt. Die negative Verstim mung in der eine relative einer Linienbreite 1 wurde nicht genau bestimmt. Es wurde im Atomstrahl von
=

0 0

I4

12 erreicht.

Der Spalt 5 mit den Abmessungen (x, z)

(2 mm, 20 mm) definiert die Ausdehnung x

deponierter ChromAtome bei Belichtung eines Substrats. Mit Hilfe des piezoelektrischen
4

Motors kann dann nach einer Belichtung das Substrat in positive xRichtung verschoben und
0

wieder belichtet werden. Auf diese Weise experimentellen Parametern stattfinden, ohne ein Substrat gewechselt werden

mehrere Belichtungen unter verschiedenen die Atomstrahlapparatur und

.4

Die Bereiche der Frequenzstabilisierung und der Fluoreszenzdetektion bleiben ebenfalls un zum Laserkhlexperiment. Lediglich die Turbopumpe 2 wurde an der Kammer des Depositionsbereichs angefianscht, damit diese Kammer gefhrt und auf der DepositionsGrundplatte fixiert.
(6)

schnell evakuiert wer

den kann. Die Lichtfaser wird ber eine Vakuumdurchfhrung in die Atomstrahlapparatur

Fr das Depositionsexperiment wird nun die Atomstrahlapparatur

und ein Substrat

mit einem Stahldraht auf die Glasplatte und gegen das Prisma geklemmt (siehe Abb. 3.16).
Dann wird die Apparatur erneut abgepumpt. Mit der kalibrierten Photodiode PD2 wurde eine Gesamtleistung von 25 mW in der Stehwelle gemessen. Das entspricht einer maximalen RabiFrequenz (3.59) von 2321 mit w,,~ 82,5 ~tm. Die Verstimmung in der Stehwelle ist um +160 MHz gegen die in der Strahlung zur Laserkhlung verschoben. Sie liegt also bei etwa +130 MHz entsprechend 41. Im durchgefhrten Experiment wurden die Parameter Laserleistung PL und Verstimmung 8 konstant gehalten. Damit bleibt die entsprechende ebenfalls konstant. Durch sukzessives Verkippen der Grundplatte mit Hilfe des Abbildung 3.17: Anordnung zur Fokussierung von ChromA tarnen in periodische Linien. Eine wird im Text gegeben. Schrittmotors des vibrationsisolierenden Systems um jeweils 0,1 mrad um die xRichtung wurde der Abstand zwischen der und der variiert. Nach jedem Verkippen wurde das Substrat in positive xRichtung verschoben und fr eine Dauer von 20

84 Minuten belichtet. Das Ergebnis einer Belichtung ist in Abb. 3.18 dargestellt

3.2 Experimentelle Realisierung

85

die experimentellen Parameter Laserleistung PL und Verstimmung 6 mssen bestimmt sein. Durch Variation des Kippwinkels der Grundplatte gegen die Atomstrahlrichtung und der Laserleistung in der Stehwelle, also durch Variation des Abstandes der und der timalem Kontrast ermittelt werden. von der selber, kann experimentell eine Belichtung mit op

2nm

lrw*

Abbildung 3.18: Ra.sterKraftmikroskopAufnahme einer periodischen Linienstruktur aus Chrom auf einem SiliziumSubstrat. Bei einer von = 425,4 nm der periodische Linienabstand 212,7 nm. In Abb. 3.19 ist ein Profil der Linienstruktur in Stehwellenrichtung (zRichtung) dargestellt. Die ein liegt zwischen 46 nm. Bei einer Belichtungszeit von 20 Minuten 71,6 nm. hier ChromUntergrund vorhanden sein. Die mittlere Linienbreite (volle Breite

0. Onm

200. Onm

400. Onm

600. Oivii

800. 0~t

1. Op~

Abbildung 3.19: Profil der Linienstruktur in Stehwellenrichtung. Aufgetragen ist die nicht normierte in Nanometern gegen die reRichtung in Nanometern. Die vollen Linienbreiten bei halbem Maximum (FWHM) sind angegeben. Eine Optimierung der ber die Laserleistung und die Verstimmung auf opti

bei halbem Maximum)

Eine Messung der Untergrunddicke ergab 25 nm. Fr eine Belichtungsdauer von 20 Minu ten ist das eine geringe Dicke. Die transversale Laserkhlung also optimiert werden,

mal fD+ ~ w~,0 kann fr realistische Parameter PL und 6 bei kleinerer Strahltaille w~,0 und

86 positiver Verstimmung als der eingestellten erreicht werden (siehe Seite 63). Eine kleinere Strahltaille w~,0 und eine diffusiver Aberrationen (siehe Abschnitt 3.1.2) ter auf

1
Verstimmung 6 sind zur Vermeidung Die optimale Einstellung der Parame die Modulationsfrequenz des in weiteren Experimenten ermittelt werden. Dazu

87

akustooptischen Modulators (siehe Abb. 2.1), die die Verstimmung relativ zur Strahlung fr die Laserkhlung bestimmt, frei einstellbar sein.

Kapitel 4

Zusammenfassng und Ausblick

Die vorliegende Arbeit beschreibt die Voraussetzungen zur Fokussierung

neutraler ChromAtome durch LichtkraftAtomlithographie im Nanometerbereich. Es wur de erfolgreich eine periodische Linienstruktur aus Chrom mit mittleren Linienbreiten von 71,6 nm auf ein SiliziumSubstrat geschrieben. Dabei wird der Atomstrahl in einem defi nierten optischen Wechselwirkungspotential in den Knoten einer LaserStehwelle periodisch und synchron fokussiert. Die LaserkhlMechanismen der zur Fokussierung Kollimation eines im Experiment

verwendeten e~usiven Atomstrahls sowie die Fokussierung eines kollimierten Atomstrahls in einem optischen Potential werden theoretisch behandelt. Zur experimentellen Erzeugung der Linienstruktur wurde eine DepositionsGrundplatte auf gebaut, auf der eine geeignete Optik am Substratort das zur Fokussierung der Atome Stehwellenfeld erzeugt. Das Licht fr diese Stehwelle wird ber eine EinmodenLichtfaser auf die Grundplatte eingekoppelt. Ein FrequenzverdopplungsResonator erzeugt das zur Fokussierung von Chrom Betrieb mit einer Laserlicht der 425,4 nm. Es kann dabei ein von +1 MHz bei einer Lichtleistung von 150 mW ber 30 mW. die Laser

mehrere Stunden aufrecht erhalten werden. Dieses Licht wird in die EinmodenLichtfaser eingekoppelt. Die maximal durch die Lichtfaser transmittierbare Leistung fr eine Fokussierung der Atome mit einer Stehwelle ber dem Substrat isolierende System Abbildung 3.20: RasterKraftmikroskopAufnahme der periodischen Linienstruktur aus Ohrom ber einen Bereich von 4,3 x 4,3 jun2. Die Aufnahme auf Seite 84 stammt aus einem Teilbereich dieser Aufnahme. mit einer Genauigkeit von 102 mrad. Die in dieser Arbeit vorgestellte Linienstruktur wurde bei einer Lichtleistung von 25 mW und einer positiven Verstimmung von etwa 130 MHz erzeugt. Bei fest vorgegebener Lichtleistung und Verstimmung ist auch die entsprechende fest. Die hohe Lichtleistung garantiert eine kungspotential. Zur Variation des Abstandes zwischen der atomoptischen Linsenkette Modulationstiefe im optischen Wechselwir und im Nanometerbereich Die DepositionsGrundplatte ist in einem vibrationsisolierenden System untergebracht, denn der Belichtungsdauer ortsstabil sein. Das vibrations

das Verkippen der Grundplatte gegen die Atomstrahlachse

wurde in diesem Experiment der Kippwinkel zwischen Grundplatte und Atomstrahlachse

88
sukzessive

Zusammenfassung und Ausblick Dadurch kann der Abstand erreicht werden, bei dem bei vorgegebener etwa auf der liegt. Das

89

Laserleistung und Verstimmung die

Substrat wurde nach jedem Verkippen fr zwanzig Minuten belichtet. Das Ergebnis einer Belichtung sind Linienstrukturen einer mittleren Linienbreite von 71,6 nm im Abstand der Stehw~llenperiode von 212,7 nm. Die Die erreichbare der Fokussierung maximal 6 nm. unter anderem von der Diver der Divergenz des Atomstrahls

Anhang A

genz des effusiven Atomstrahls ab. Zur len

Jg =

Das vibrationsisolierende System

Die Unterdrckung von mechanischen Schwingungen ist eine wesentliche Voraussetzung fr die Abbildung von Strukturen im SubMicrometerbereich. So ist die gesamte Atomstrahl apparatur zur Entkopplung von auf einem pneumatisch mechanische Schwingungen vom optischen Tisch angebracht und die Turbopumpen sind ber spezielle

wurden eindimensionale transversale Laserkhlmechanismen eingesetzt. konnte an al des 52Chrom mit den GesamtdrehimpulsQuantenzahlen 3
*

Je =

2, 3, 4 eine

der Divergenz des Atomstrahls auf 0,1 mrad er

=

reicht werden. Fr die Fokussierung der ChromAtome wird der J9 im Khlbereich der Atomstrahlapparatur relative

J~

da hier zur starken Kollimation die

im Atomstrahl von etwa 30 auf der Atomstrahlachse

hinzukommt. Es steht ein stark kollimierter und intensiver Atomstrahl fr die Experimente zur Fokussierung zur Verfgung. Beim genannten Feinstrukturbergang werden hohe rela tive bei gleichzeitig starker Kollimation bei hohen Laserleistungen von 1 MHz bei einer Leistung von erreicht. Letztere werden von einem zweiten FrequenzverdopplungsResonator bereitgestellt. Es kann hier ein Betrieb mit einer 250 mW bei einer werden. In Zukunft sollten die Experimente zur Fokussierung bei Variation der Lichtleistung und der Verstimmung in der LaserStehwelle durchgefhrt werden. Dadurch kann die variiert und auf den Abstand zur optimiert werden. Dabei sind positive und negative Verstimmungen in ihrer Auswirkung auf den Kontrast der Linienstruktur zu untersuchen. Durch Modifikation des optischen Aufbaus der Grundplatte sollte zudem die Wechselwirkungsstrecke zwischen Atomen und Lichtfeld durch Einstellung eines kleineren Fokus verkrzt werden. Dadurch werden diffusive Aberrationen vermieden. Bei Verwendung einer standardisierten Lichtfaser zur Einkopplung des Lichts auf die Grundplatte ber eine Gradientenindexlinse kann ein elliptischer Fokus erzeugt werden. Das hat Vorteile bei der mit Atomen belichtbaren auf die in Angriff genommen werden. Die dazu erwarten, mit den und zur Optimierung der Einstellung der soll durch den Aufbau einer zweiten Grundplat Kollimation des Atomstrahls durch zweidi von 425,4 nm stabil ber mehrere Stunden aufrecht erhalten

mit der Apparatur verbunden. Entscheidend ist jedoch,

optischen Aufbau, der die Laserstehwelle zur Fokussierung erzeugt, abgekoppelt werden. Ursachen dieses mechanischen Rauschens sind die Wasserkhlung fr den Atomstrahlofen, fr die Turbopumpen und das Lasersystem sowie Ventilatorenkhler elektrischer Schallwellen. Bauteile mit Eigenfrequenzen im Rauschspektrum ihrer Eigenschwingung erfahren. Dazu so eine vielfache und

besonders die aus Edelstahl gefertigten Bo

denflansche der einzelnen Kammern der Atomstrahlapparatur und der optische Aufbau zur Stehwellenerzeugung (Spiegel, Linsenhalter usw.) sowie die Grundplatte, auf der diese Op tiken befestigt sind. Aus diesem Grund wird die Grundplatte mit der gesamten Optik in einem vibrationsisolie renden System angebracht. Im Wesentlichen besteht dieses System aus drei Aluminiumrah men, die jeweils bereinander ber acht Federn gleicher Federkonstante (4,8 * i0~ ~) gekop pelt sind. Die einzelnen Federn sind mit Vitonhlsen, die nur eine schwache brationsisolator erzeugen, ummantelt. Die Wirkung der die in erster soll im Vi durch

elastischen Eigenschaften der Federn bestimmt sind.

sein. Viskoelastische Materialien wie Viton zeigen starke gewichts und elastische Eigenschaften, so viele verschiedene Schwingungskopplungen z.B. hier nur zum Einsatz,

te die zweidimensionale Fokussierung von ChromAtomen in gekreuzten Stehwellenfeldern mensionale Laserkhlung ist an der Atomstrahlapparatur schon erprobt worden. Es ist zu zuknftigen Arbeiten die hier erreichte laterale weiter unterschritten werden kann.

eine transversale Schwingung in der

untersten Stufe des Systems z.B. zu einer Rotationsschwingung der obersten Stufe fhren. Die Abmessungen des gesamten Vibrationsisolators sind 21 x 11 x 16cm3

[WEB95I.

Durch Verwendung der Lichtfa.ser zur Einkopplung des Laserlichts (siehe Abschnitt 2.4) ist sichergestellt, die des Lichtweges vom Gesamtsystem abgekoppelt ist verantwortlich sind. und nur noch die optischen Bauteile der Grundplatte fr die

i~1
90 Das vibrationsisolierende System Abb. A.1 zeigt die Wirkung des vibrationsisolierenden Systems. Dabei wurde eine starke Anregung ber einen Frequenzgenerator, dessen Spannungssignal durch ein piezoke ramisches Element in eine mechanische Schwingung bersetzt wird, auf die Anlage gebracht. Ein Beschleunigungssensor, dessen Oszillation der seismischen Masse ber den Piezoeffekt elektri~che Schwingungen als Zeitsignal in seinen Elektroden induziert, liefert ber eine FFTAnalyse ein Frequenzspektrum Usensor(v). die Eichung des Sensors die Spannungswerte in Amplituden umgerechnet werden [WEB95]. Gemessen wurde am Bo denfiansch des Depositionsbereichs (siehe Abschnitt 3.2.1). 1000

Das vibrationsisolierende System

91

sehr niedrigen Frequenzen einen leichten Anstieg: bei 1020 Hz hat das vibrationsisolierende System seine Eigenfrequenz. Fr sehr gute des optischen Aufbaus auf der Grundplatte sollten die Schwingungs

amplituden 10 nm nicht bersteigen. Abb. A.2 zeigt ein Resonanzspektrum der Atomstrahl apparatur im Laborbetrieb, d.h. Erreger sind dabei o.g. Wasserkhlungen, Pumpen und elektrische Es wurde bei der Messung darauf geachtet, Schallwellen zu vermeiden. Frequenzen werden stark

Gemessen wurde im Frequenzbereich bis 700 Hz, denn

(siehe Abb. A.l). Insbesondere sind im Bereich der Eigenschwingungen der opti schen Bauteile bei 1000 Hz die Schwingungsamplituden verschwindend klein. 18

800

16 14

6 c
0) t D 0.

600

12 10

400

0) D D

200

*6 <4
2

0
0

2
200 400
600 800 1000 1200 1400 0 2 0 100 200 300 400 500 600 700

Frequenz [Hzl
Abbildung A.i: Reson anzspekt rum der Anlage bei Anregung. Aufgetragen sind die Schwingungsamplituden gegen die mechanische Oszillationsfreq uenz. Die hervorgehobene Kurve entspricht der Messung mit Vibrationsisolator. Es ist eine um den Faktor 1020 der Anregung im Vergleich zur Messung ohne Vibrationsisolator zu erkennen. Der Frequenzbereich der Messung erstreckt sich von 01250 Hz. Typische Eigenfrequenzen der auf der Grundplatte verwendeten optischen Bauteile liegen im Bereich von 1000 Hz. Die Resonanzen von 0300 Hz sind Vibrationen durch in verschiedenen zuzuschreiben, die starken Resonanzen bei 300400 Hz und die Resonanz bei 610 Hz rhren von den Turbopumpen her. Der Verlauf der Kurve mit Isolator (siehe Abb. A.1) zeigt bei
FFT=schnelle FourierTransformation

Frequenz [Hz]
Abbildung A.2: Resonanzspektrum der Anlage im Laborbetrieb. Aufgetragen sind die Schwingungsamplituden gegen die mechanische Oszillationsfrequenz. Man erkennt die Wir kung des Vibrationsisolators. Allerdings treten bei ca. 12Hz mit Isolator Amplituden auf als ohne Isolator, denn dort hat das vibrationsisolierende System seine Eigen frequenz. In Abb. A.3 ist das vibrationsisolierende System dargestellt. Die drei AluminiumStufen des Isolators sind gut zu erkennen. Die Position der DepositionsGrundplatte ist gestrichelt angedeutet. die beiden Schrittmotoren kann der horizontale und vertikale Winkel, den die Grundplatte mit der Atomstrahlachse

mit einer Genauigkeit von 102 mrad

justiert werden. Zur Vermeidung thermischer Ausdehnung werden fr den optischen Auf

1 1:
1:

92

Das vibrationsisolierende System

93

1~
bau, der zur Erzeugung der Stehwelle auf die Grundplatte aufgebracht wird, nur Mate rialien mit kleinen thermischen Ausdehnungskoeffizienten verwendet. Zudem mssen die Materialien vakuumtauglich sein. Daher kommt vorwiegend Aluminium zum Einsatz. Die des Isolators wurde fr ein vorgegebenes Gewicht der Grundplatte mit Aufbau ausgelegt. Die 160 x 160 mm2 Grundplatte daher aus Invar oder VAStahl bestehen [WEB95j.

Anhang B

Eigenschaften ~von Chrom DepositionsGrundplatte

Das natrlich auftretende Element Chrom besitzt vier Isotope:
1. 50Cr mit einer 2. 52Cr mit einer 3.
53
.. .

ilFilil

Ii:
~ii1~
PF 11
11111
IAi~l

von 4,4% und Kernspin 1 von 83,8% und Kernspin 1

.

0~.
=

FiI~~.

0~.
3+

Cr mit einer Haufigkeit von 9,5% und Kernspin 1 von 2,3% und Kernspin 1
=

4. Cr rAit einer

0~.

Ii~
Schrittmotoren
iifipi.

425,44nm 427,48nm 428,97nm 7P4 t=32ns 7P3

1~
E

[Ar]3d54p

Abbildung A.3: Das vibrationsisolierende System, das von C. Weber im Rahmen seiner Diplomarbeit aufgebaut wurde.

11~
I.~.
ji~

[ArJ3d54s

1 1

7s3

atomarer Grundzustand
in 52Cr.

Abbildung B.1: Termschema der

Die geradzahligen Isotope besitzen wegen Kernspin 1=0 keine Hyperfeinaufspaltung der

~1 lili
ii Iii

I~

elektronischen

was vorteilhaft bei der Wechselwirkung mit Laserlicht ist.

94

Eigenschaften von Chrom

Eigenschaften von Chrom Die folgende Tabelle

95

Fr eine definierte Wechselwirkung mit resonanten Lichtfeldern sind elektronische Di in geschlossenen ZweiNiveauSystemen besonders geeignet. Ein nahezu ge schlossener Dipolbergang existiert im mit relevanter auftretenden 52Cr aus dem Grundzustand 7S3 zum angeregten Zustand 7F4 (J9 = 3 * Je = 4). Es folgt eine stichwortartige von Eigenschaften von 52Cr (siehe Abb. B. 1), die im Rahmen der LichtkraftAtomlithographie von Bedeutung sind. Chemische Eigenschaften: Sehr gute Haftung auf sehr geringe hohe Physikalische Parameter: Sublimationspunkt:
0

die ClebschGordanKoeffizienten der in Abb. B.1 dargestellten

Tabelle B.2: ClebschGordanKoefizienten der J9

Je

2, 3, 4

mj= m~= 3 2 1 0

2 ~J15/21 15/21 .J1/21 0 0 0 0 3 2 ~3/12

1 0 ~10/21 18/21 /3/21 0 0 0 1 0 ~5/12 /1/12 ~/6/12 0 0 0 2 /1/28 ~12/28 115/28 0 0 0 0 1

0 0 0 16/21 J9/21 /6/21 0 0 0 0 0 16/12 0 ~/~7f2 0 0 0 0 0

1 0 0 0

2 0 0 0 0 ~T1/21 \/gj2l ~15/21 1 0 0 0 2 0 0 0 0 3 0 0 0 0 0 /3/12 ~9/12 2 0 0 0 0 J15/28 /12/28 11/28 3 0 0 0 0 0 ~21/28

\/~i7ii
~8/21 ~10/21 0

an Luft.

1 2 3 mj= m~= 3 2 J9
=

8,684*10_2Skg
3
~

19/12 ~/3/12 0 0 0 0 0

~/~7i7~
~fl~/12 0 0 0 0

In der Atomoptik wichtige Parameter der aufgelistet.

2, 3, 4 sind tabellarisch

1 0 1 2

~1/12 ~k/12 0 1 0 0 0 ~i0/28 ~i5/28 /1728 0 13/12

Tabelle B.l: Wichtige Parameter fr die Atomoptik an 52Gr.

Jg=34

Je
~

[nm] Wellenzahl: kL T [~ 2,r 1 Lebensdauer des angeregten Zustands: r [ns] Natrliche Linienbreite: ii = ~y = 2,rr [MHz] L ~rhci I~ = ~ Vrcc = = ~ [kHz] 2r 4~qn v rec = ~ [~] ~ DopplerLimit: TD = ~ [pK] (ld): T rec = = ~ [pK]
~

2 428,97

3 427,48

4 425,44

1,46*107
30,9 5,15

1,47*107
32,7 4,87

1,48*107
31,7 5,02

85,39
20,59
1,77

81,44
20,87 1,78 116,85 2,00

85,16
21,16 1,80 120,5 2,04

m,=ZT 3 m~= 3 117/28 2 0 ~21/28 1 0 1 2 3 0 0 0 0 0 0 0 0 0

0 ~/~728 ~15/28 ~/10/28 0 0 0

0 0 0 0 0 0

J6/28 ~16/28

123,57 1,98

~
0 0

~~fiui8i

zu zwischenliegenden Niveaus sind sehr klein [WE895].

96

97

Literaturverzeichnis
[ADA94] [ASP88] [BAL79] [BAL86] [BAL88] [BER93] [BER94] [BJ078] [BJO8O] [B0Y68] [BUS94] C. S. Adams, M. Sigel, J. Mlynek, Atom Optics, Phys. Rep. 3, 240 (1994) A. Aspect et al., Phys. Rev. Lett. 61, 826 (1988) V. 1. Balykin et al., JETP Lett. 29, 560 (1979) V. 1. Balykin et al., Focusing Atomic Beams by the Dissipative Radiation Pressure Force of Laser Light, JETP Lett. 43, 217 (1986) V. 1. Balykin et al., J. Mod. Opt. 35, 17 (1988) Bergemann, Phys. Rev. A 48, 3425 (1993) K. K. Berggren et al., J. Opt. Soc. Am. B 11, 1166 (1994) J. E. Bjorkholm et al., Phys. Rev. Lett. 41, 1361 (1978) G. C. Bjorklund et ah, Opt. Commun. 5, 16 (1980) G. D. Boyd, D. A. Kleinman, J. Appl. Phys. 39, 3597 (1968) L. E. Busse, L. Goldberg, M. R. Surette, Absorption Losses in MgODoped and Undoped Potassium Niobate, J. Appl. Phys. 75, 1102 (1994)

[CHU87] [C0H92] [CTA77] [CTA89]

[CTA92] [DAL85]

S. Chu et al., Laser Spectroscopy VIII, S. 58, Springer Verlag (1987)

Users Manual fiir den TitanSaphir Laser, Coherent (1992)

C. CohenTannoudji, Met rologia 13, 161 (1977) C. CohenTannoudji, J. DupontRoc, G. Grynberg, Photons and Atoms,
John Wiley & Sons (1989) C. CohenTannoudji, J. DupontRoc, G. Grynberg, AtomPhoton Interacti ons, John Wiley & Sons (1992) J. Dalibard, C. CohenTannoudji, DressedAtom Approach to Atomic Motion in Laser Light: the Dipole Force revisited, J. Opt. Soc. Am. B 2, 1707 (1985)

98 [DAL89]

LITERATURVERZEICHNIS J Dalibard, C CohenTannoudji, ~Laser Cooling below the DopplerLimit by PolansationGradients Simple Theoretical Models, J Opt Soc Am B 6, R W P Dreyer et al, App] Phys B 31, 97 (1983) M Drewsen, R J C Spreeuw, Achromatic Lenses for Atoms using Velocity Dependent LightInduced Potentials, Preprint (1995) F. J. Duarte, L. W. Hillman, Dye Laser Principles, Acadeniic Press (1990) A. Endemann, Aufbau eines Ti:SaphirLasers fr Experimente mit ultrakalten Argonatomen, Diplomarbeit, Univ. Konstanz (Juni 1995) 0. R. Frisch, Experimenteller Nachweis des Einsteinschen Strahlungsrck Zeits. f. Phys. 86, 42 (1933) G. M. Gallatin et al., J. Opt. Soc. Am. B 8, 502 (1991) D. Gloge, The Optical Fiber as an Transmission Medium, Rep. an Progress in Phys. 42, 1779 (1979) J. P. Gordon, A. Ashkin, Motion of Atoms in a Radiation Trap, Phys. Rev. A 21, 1606 (1980) P. Gould et al., Laser Spectroscopy VIII, 5.64, Springer Verlag (1987) R. Gupta, J. J. McClelland, Z. J. Jabbour, R. J. Celotta, Nanofabrication of a twodimensional Array using LaserFocused Atomic Deposition, Preprint (1995) T. W. et al., Opt. Commun. 13, 68 (1975)

LITERATURVERZEICHNIS [LET89] [L1N86] [MAB94J [MAG67]

99

P D Lett et al, Optical Molasses, J Opt Soc Am B 6, 2084 (1989) C Lm, Nonlinear Optics in Fibers for Fiber Measurements and Special Device Functions, J. Lightwave Tech. LT4, 1103 (1986) H Mabuchi, E 5 Polzik, H J Kimble, ~BlueLightInduced lnfrared Absorp tion in KNbO3, J Opt Soc Am B 11, 2023 (1994) D Magde, H Mahr, Phys Rev Lett 18, 905 (1967)
.

[DRE83] [DRE95] [DUA9O] [END95] [FR133] [GAL91J [GL079J [GOR8OJ [G0U87] [GUP95J

11 1
1

[MAR77J [MAU94] [MCC91J

D. Marcuse, Loss Analysis of SingleModeFiber Splices 56, 703 (1977,)

.

Beil Syst. Tech. J.

1 1

C. Maus, Frequenzverdopplung eines TitanSaphirLasers fur die Spektrosko pie an Chromatomen, Diplomarbeit, Univ. Konstanz (1994) J. J. McClelland, M. R. Scheinfein, Laser Focusing of Atoms: a ParticleOptics Approach, J. Opt. Soc. Am. B 8, 1974 (1991) 1 J. McClelland et al., Science 262, 877 (1993) J. J. McClefland, Atom Optical Properties of a Standing Wave Light Field, Preprint, (1995) R. W. McGowan et al., Light Force Cooling, Focusing, and NanometerScale Deposition of Aluminium Atoms, Preprint (1995) H. Metcalf, P. v.d.Straten, Cooling and Trapping of Neutral Atoms, Phys. Rep. 244, 203 (1994) C. Morgan, Physics World, (November 1992) V. Natarajan, R. E. Behringer, G. Timp, High Contrast, High Resolution Focusing of Neutral Atoms using Light Forces, Preprint (1995) E. G. Neumann, Single Mode Fibers, Springer Verlag (1988) M. Okada, 5. Ieiri, TEEF J. Quantum Electron. QE7, 469 (1971) T. Pfau, J. Mlynek, Neue Entwicklungen in der Atomoptik, Phys. Bl. 50, 45 (1994) E. 5. Polzik, H. J. Kimble, Opt. Lett. 16, 1400 (1991) M. Prentiss et al., Using Light as a Stencil, Appl. Phys. Lett. 60, 1027 (1992) lt. J. Reeves et al., Phys. Rev. B 43, 71(1991) J. Sapriel, AcoustoOptics, John Wiley & Sons (1979)

[MCC93] [MCC95J [MCG95] [MET94]

1
1

[HAE75] [J1T84] ~OH87] [KNE91] [LEF8O] [LET68] [LET87]

W. Jitschin, Locking the Laser Frequency to an Atomic Transition, AppL Phys. B 33, 7 (1984) T. F. Johnston, Tunable Dye Lasers, Encyclopedia of Phys. Science and Technology 14, 96 (1987) F. K. Kneubhl, M. W. Sigrist, Laser, Teubner Studienbcher (1991) H. C. Lefevre, SingleMode Fiber Fractional Wave Devices and Polarisation Controllers, Electr. Lett. 16, 778 (1980) V. 5. Letokhoy, Narrowing the DopplerWidth in a Standing Wave, JETP Lett. 7, 272 (1968) V. 5. Letokhoy, Laser Control of Neutral Atomic Beams, Comm. Atom. Mol. Phys. 19, 119 (1987,)

1 11 1 11 1 1
Ii

[M0R92] [NAT95} [NEU88] [OKA71] [PFA94] [POL91] [PRE92} [REE91]

[SAP79]

100 [SCH94] [SCH96J [SLE92] [TIM9~} [WAL86] [WEB95] [W1N75] [W1N78] [W1N79] [YAR85] [YAR89J

LITERATURVERZEICHNIS R E Scholten et al Laser Cooling of a Chromium Beam, Preprint (1994) 0 Schreiber, LichtdruckLithographie mittels ChromAtomen, Diplomar beit, Univ Konstanz (Februar 1996) T Sleator, T Pfau, V Balykin, J Mlynek, ~Imaging and Focusing of an Atomic Beam with a Large Periodic Standing Wave, Appl Phys B 54, 357 (1992) 0 Timp et al, Phys Rev Lett 69, 1636 (1992) 5 5 Walter, Rapid Modeling an Estimation of Total Spectral Loss in Optical Fibers, J. Lightwave Tech. LT4, 1125 (1986) C. Weber, LichtdruckLithographie mit Atomen, Diplomarbeit, Univ. Kon stanz (Juni 1995) D. Wineland et al., Bull. Am. Phys. Soc. 20, 637 (1975) D. Wineland et al., Phys. Rev. Lett. 40, 1639 (1978) D. J. Wineland, W. M. Itano, Laser Cooling of Atoms, Phys. 11ev. A 20, 1521 (1979) A. Yariv, Optical Electronics, The Dryden Press N.Y. (1985) A. Yariv, Quanturn Electronics, John Wiley St Sons (1989)