Lab 11 PARTE 1
Lab 11 PARTE 1
Lab 11 PARTE 1
Materiales:
Id (sat) Vs VGS
0.01
0.01
0.01
0.01
ID (sat)
0.01
0
0 2 4 6 8 10 12
VGS
2. Con el valor de VT llene los valores de VGS. Busque los pines del 2N7000 para saber cuáles son
las terminales del 2N7000. Adjunte la imagen.
3. Para conectar el multímetro XMM1 al drenaje, meta un cable a la barra de la platilla donde está
la pata del drenaje y con un lagarto conecta el cable al multímetro.
4. Teniendo los valores de VGS , mantenga V1 a 5V y varíe V2. Llené la tabla 1. Su multímetro ya
está conectado de forma fija al circuito asique solo varíe la fuente y anote.
X VGS Id (sat)
VT/5 400mV 0A
2VT/5 800mV 177.636pA
3VT/5 1.2V 88.818pA
4VT/5 1.6V 88.818pA
VT 2V 0A
VT+0.1 2.1V 503.814uA
VT+0.2 2.2V 2.015mA
VT+0.3 2.3V 4.532mA
VT+0.4 2.4V 8.056mA
VT+0.5 2.5V 12.585mA
Preguntas
1. ¿Cómo funciona un capacitor metal oxido semiconductor (Capacitor MOS)? Apoye su
explicación con imágenes.
CANAL N
La estructura NMOS está formada por un sustrato de silicio dopado con huecos. Al aplicar
un potencial de compuerta positivo, los electrones presentes en el sustrato (portadores
minoritarios) son atraídos hacia la capa de óxido de compuerta. Al mismo tiempo, los
huecos son repelidos de la capa de óxido de compuerta debido a que el potencial positivo
los aleja. Esto ocasiona una acumulación de electrones en la cercanía del óxido, en donde
el silicio presenta un exceso de electrones y por lo tanto es de tipo n. La inversión del
dopado en el silicio (que antes era de tipo p) es lo que le da origen al nombre de esta
región. También se produce una región de agotamiento de portadores en las cercanías del
óxido, debido a que los huecos del sustrato se recombinan con los electrones atraídos.
CANAL P
La estructura PMOS está formada por un sustrato de silicio dopado con electrones. Al
aplicar un potencial de compuerta negativo, los huecos presentes en el sustrato
(portadores minoritarios) son atraídos hacia la capa de óxido de compuerta. Los
electrones son repelidos del óxido de compuerta debido a que el potencial negativo los
aleja. Los huecos se acumulan en la cercanía del óxido, en donde el silicio acumula un
exceso de huecos y por lo tanto se comporta como un material de tipo p. La
recombinación de huecos y electrones produce una región de agotamiento.
3. ¿Fluye corriente a través de la compuerta en el MOSFET? ¿Porqué?
No fluye corriente a través de la compuerta, esto se debe a que no esta físicamente conectado
en el circuito y este permanece en circuito abierto.
MOSFET de enriquecimiento