Bestand:Origin of residual stress (cropped).tif

Origin_of_residual_stress_(cropped).tif (263 × 331 pixels, bestandsgrootte: 9 kB, MIME-type: image/tiff)

Beschrijving

Beschrijving
English: Origin of residual stress in thin films: a) Lattice mismatch, b) thermal difference, and c) intrinsic.
Datum
Bron Adapted from: ] M. Birkholz with contributions by Paul F. Fewster and Cristoph Genzel. Thin Film Analysis by X-Ray Scattering. Wiley-VCD Verlag GmbH & Co. (2005).
Auteur Carlos Torres
Andere versies
afbeeldingsextractieproces
Dit bestand is geëxtraheerd uit een ander bestand
: Origin of residual stress.tif
origineel bestand

Licentie

w:nl:Creative Commons
naamsvermelding Gelijk delen
Dit bestand is gelicenseerd onder de Creative Commons Naamsvermelding-GelijkDelen 4.0 Internationaal licentie.
De gebruiker mag:
  • Delen – het werk kopiëren, verspreiden en doorgeven
  • Remixen – afgeleide werken maken
Onder de volgende voorwaarden:
  • naamsvermelding – U moet op een gepaste manier aan naamsvermelding doen, een link naar de licentie geven, en aangeven of er wijzigingen in het werk zijn aangebracht. U mag dit op elke redelijke manier doen, maar niet zodanig dat de indruk wordt gewekt dat de licentiegever instemt met uw werk of uw gebruik van zijn werk.
  • Gelijk delen – Als u het materiaal remixt, transformeert of erop voortbouwt, moet u uw bijdragen verspreiden onder dezelfde licentie als die van het origineel, of een licentie die daarmee verenigbaar is.

Bijschriften

Beschrijf in één regel wat dit bestand voorstelt

Items getoond in dit bestand

beeldt af

Bestandsgeschiedenis

Klik op een datum/tijd om het bestand te zien zoals het destijds was.

Datum/tijdMiniatuurAfmetingenGebruikerOpmerking
huidige versie12 apr 2022 18:07Miniatuurafbeelding voor de versie van 12 apr 2022 18:07263 × 331 (9 kB)EllieBellie25File:Origin of residual stress.tif cropped 60 % horizontally, 51 % vertically using CropTool with precise mode.

Dit bestand wordt op de volgende pagina gebruikt:

Metadata