Recubrimientos Por Conversión

RECUBRIMIENTOS POR CONVERSIÓN
El recubrimiento por conversión son una serie de procesos en los que se forma una película
delgada de óxido, fosfato o cromato sobre una superficie metálica mediante reacción química o
electroquímica, los metales comunes tratados mediante recubrimiento por conversión son el
acero (incluido el acero galvanizado), el zinc y el aluminio, los procesos de recubrimiento por
conversión se dividen en dos categorías; Tratamientos químicos y Anodizado.
Métodos de recubrimiento por conversión
 La inmersión
 La aspersión
Principales razones para usar procesos de recubrimiento por conversión
1. Protección contra la corrosión

2. Preparación para pintura
3. Reducción del desgaste
4. Permitir que la superficie contenga mejores lubricantes para procesos de formado
metálico.
5. Aumentar la resistencia eléctrica de la superficie.
6. Acabado decorativo
7. Identificación de piezas
Recubrimientos por conversión química
Estos procesos operan al exponer el metal base a ciertos productos químicos que forman películas
superficiales delgadas y no metálicas El propósito de estos tratamientos de conversión química es
conseguir este último efecto. Los dos procesos principales son recubrimientos con fosfatos y
cromatos.
Recubrimiento con fosfato: Transforma la superficie del metal base en una película
protectora de fosfato mediante la exposición a soluciones de ciertas sales de fosfatos (Zn, Mg y Ca)
junto con ácido fosfórico diluido (H3PO4)
Recubrimiento con cromato: convierte el metal base en diversas formas de películas de

cromatos, mediante soluciones acuosas de ácido crómico, sales de cromatos y otros productos
químicos. Los metales tratados con este método incluyen el aluminio, el cadmio, el cobre, el
magnesio y el zinc (y sus aleaciones).
Anodizado
El anodizado es un tratamiento electrolítico que produce una capa de óxido estable sobre una
superficie metálica, es comúnmente aplicado en aluminio y magnesio, sin embargo también se usa
en zinc, titanio y otros. Se usa principalmente para propósitos decorativos.
Deposición física de vapor
La deposición física de vapor (PVD) es un grupo de procesos en los cuales se convierte un material
en su fase de vapor en una cámara de vacío y se condensa sobre una superficie de sustrato como
una película muy delgada, tienen una amplia variedad de materiales de recubrimiento (metales,
aleaciones, cerámicos, polímeros) y los sustratos posibles incluyen metales, vidrio y plástico. Los
tres tipos principales de la PVD son la evaporación al vacío, bombardeo con partículas y el
chapeado iónico.
Pasos para procesos de deposición física de vapor
1. síntesis del vapor de recubrimiento

2. transporte del vapor al sustrato
3. condensación de los vapores sobre la superficie del sustrato
Evaporación al vacío
El material que va a depositarse (fuente), se calienta a una temperatura suficientemente alta para
evaporarse (o sublimarse). Dado que el calentamiento se obtiene al vacío, la temperatura
requerida para la evaporización es significativamente menor que la temperatura requerida a
presión atmosférica normal. Asimismo, la ausencia de aire en la cámara evita la oxidación del
material fuente a las temperaturas de calentamiento.
Los métodos de vaporización más importantes son el calentamiento por resistencia y el

bombardeo con haz de electrones, en las dos técnicas de evaporación, los átomos evaporados
dejan la fuente y siguen trayectorias en línea recta hasta que chocan con otras moléculas de gas,
por lo que reduce la probabilidad de choques con átomos del vapor de la fuente.
Bombardeo con partículas
el bombardeo con partículas involucra el bombardeo de material de recubrimiento catódico con

los iones de argón, lo que provoca que los átomos de la superficie escapen y se depositen en un
sustrato, formando una película delgada sobre la superficie. El sustrato debe colocarse cerca del
cátodo y, por lo general, se calienta para mejorar la unión de los átomos del recubrimiento. El
bombardeo con partículas puede aplicarse casi a cualquier material, elementos metálicos y no
metálicos
Chapeado iónico
El chapeado iónico usa una combinación de bombardeo con partículas y evaporación al vacío para
depositar una película delgada sobre un sustrato, funciona así; el sustrato funciona como cátodo
en la pieza superior de la cámara y el material fuente se coloca debajo, se establece un vacío en la
cámara, se inyecta gas argón y se aplica un campo eléctrico para ionizar el gas y establecer un
plasma. Esto produce un bombardeo iónico del sustrato, por lo que su superficie se frota hasta
una condición de limpieza atómica (esto se refiere como “muy limpio”) Enseguida, el material
fuente se calienta lo suficiente para generar vapores de recubrimiento. Las moléculas de vapor
pasan a través del plasma y recubren el sustrato.

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