Test Diodos
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Test Diodos
CODIGO:14190144
Tema 1. Teora de Semiconductores.
1.- Si en un semiconductor intrnseco se aumenta mucho la temperatura
a) Se puede romper el equilibrio entre electrones y huecos
b) Su resistividad aumenta
c) Puede llegar a comportarse como un buen conductor.
En un semiconductor intrnseco al aumentar la temperatura T aumenta la
conductividad debido a que se liberan ms pares electrn-hueco,
aumentando la concentracin intrnseca de portadores. En la grfica esta
variacin se muestra con la grfica de semiconductor intrnseco o puro.
Dopaje tipo P
15.- Si un semiconductor intrnseco se dopa con impurezas tipo p, el nmero
de
electrones libres:
a) Aumenta por encima del que tena el semiconductor intrnseco
b) Disminuye por debajo del que tena el semiconductor intrnseco
c) No vara
d) Es mayor que el nmero de huecos
Se llama dopaje P al material que tiene tomos de impurezas que
permiten la formacin de huecos sin que aparezcan electrones
asociados a los mismos, por tanto el nmero de electrones libres del
semiconductor disminuye.
16.- En un cristal semiconductor:
a) La polaridad depender de la concentracin de huecos y electrones libres
b) La concentracin de electrones libres es siempre igual al de huecos
c) La concentracin de cargas positivas es igual a la de cargas negativas
d) Ninguna de las anteriores es cierta
Generalmente a estos se le introducen tomos de otros elementos,
denominados impurezas, de forma que la corriente se deba
primordialmente a los electrones o a los huecos, dependiendo de la
impureza introducida. Otra caracterstica que los diferencia se refiere
a su resistividad, estando sta comprendida entre la de los metales y
la de los aislantes. La disposicin esquemtica de los tomos de un
semiconductor de silicio puro: No existen electrones ni huecos libres.
El propsito del dopaje tipo P es el de crear abundancia de huecos. En
el caso del silicio, una impureza trivalente deja un enlace covalente
incompleto, haciendo que, por difusin, uno de los tomos vecinos le
ceda un electrn completando as sus cuatro enlaces. As los
dopantes crean los "huecos". Cada hueco est asociado con un ion
cercano cargado negativamente, por lo que el semiconductor se
mantiene elctricamente neutro en general.
El propsito del dopaje tipo N es el de producir abundancia de
electrones libres en el material. Para ayudar a entender cmo se
produce el dopaje tipo N considrese el caso del silicio (Si). Los
tomos del silicio tienen una valencia atmica de cuatro, por lo que
se forma un enlace covalente con cada uno de los tomos de silicio
adyacentes. Si un tomo con cinco electrones de valencia, tales como
los del grupo VA de la tabla peridica (ej. fsforo (P), arsnico (As) o
antimonio (Sb)), se incorpora a la red cristalina en el lugar de un
tomo de silicio, entonces ese tomo tendr cuatro enlaces
n p=ni2
n: nmero de e- /volumen
p: nmero de h+ /volumen
ni: concentracin intrnseca
Conduccin intrnseca
En un semiconductor perfecto, las concentraciones de electrones y de huecos son
iguales
n=p=ni
ni : Concentracin intrnseca
Solucin:
n p=ni2
2
n
p= i
n
p=
(2 1010 )2
=8 1018 tomos/cm3
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