silica glass substrateとは 意味・読み方・使い方

The method for manufacturing a glass substrate comprises melting and molding a glass raw material prepared to obtain silicate glass, in which silica sand raw material having a Cr content of 2 ppm or less is used as a silica source.例文帳に追加

珪酸塩ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、成形するガラス基板の製造方法であって、シリカ源として、Ｃｒ含有量が２ｐｐｍ以下である珪砂原料を用いることを特徴とする。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SYNTHETIC SILICA GLASS SUBSTRATE FOR PHOTOMASK, SYNTHETIC SILICA GLASS SUBSTRATE FOR PHOTOMASK MANUFACTURED THEREBY, AND ANNEALING FURNACE USED IN THE METHOD例文帳に追加

フォトマスク用合成シリカガラス基板の製造方法、その方法によるフォトマスク用合成シリカガラス基板、及びその方法に用いるアニール炉 - 特許庁

In the lumbered qualtz crystal 206 (207), a UV-setting-type adhesive 208 is applied to a silica glass substrate 205, and the silica glass substrate 205 is mounted to a reference board 228.例文帳に追加

ランバード加工水晶２０６（２０７）は、ＵＶ硬化型接着剤２０８が塗布された石英ガラス基板２０５を基準盤２２８に搭載されている。 - 特許庁

In the silica glass plate for the fluid circulation, a plurality of fluid circulation holes are provided in a flat plate-like silica glass substrate, and both ends of this fluid circulation hole are provided with a large diameter part which expands in diameter as advances outward.例文帳に追加

流体流通用シリカガラス板は、平板状のシリカガラス基板に多数の流体流通孔を有し、この流体流通孔は、その両端に、外方にいくに従って拡径する拡径部が設けられている。 - 特許庁

A main surface of a glass substrate is polished using a polishing liquid containing colloidal silica abrasive grains as polishing abrasive grains and a substrate plate provided with a polishing plate and then the glass substrate is brought into contact with a liquid containing a coagulant to aggregate and remove the colloidal silica abrasive grains.例文帳に追加

研磨砥粒としてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液と、研磨パッドが配備された定盤とを用いて、ガラス基板の主表面を研磨した後、前記ガラス基板を凝集剤を含む液に接触させることによってコロイダルシリカ砥粒を凝集させて除去する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a mask blank which suppresses the generation of a minute convex surface defect on the surface of the substrate even if the mirror polishing of the glass substrate is performed by using silica.例文帳に追加

シリカを用いてガラス基板の鏡面研磨を行っても基板表面に微小な凸状の表面欠陥が発生するのを抑えたマスクブランクス用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The substrate 22 comprises quartz and silica glass, while the III nitride layer 28 comprises GaN and an alloy of it and AlN and InN.例文帳に追加

基板２２は石英やシリカガラス、またIII族窒化物層２８はＧａＮやそれとＡｌＮ、ＩｎＮとの合金を用いて構成することができる。 - 特許庁

To provide a method by which the Tzc of a silica-titania glass EUVL mirror substrate (or an other) can be tuned to within a specific range.例文帳に追加

シリカ−チタニアガラス製のＥＵＶＬ鏡（または、他の）基材のＴｚｃを、所望の特定の範囲に調節できるようにする。 - 特許庁