etch rateとは 意味・読み方・使い方

A cladding 42 is etched by a dry etching method in which an etch rate of the cladding 42 is equal to or higher than an etch rate of the filler 36.例文帳に追加

被覆材４２のエッチングレートが充填材３６のエッチングレートと同じ又はこれよりも高いドライエッチング法により被覆材４２をエッチングする。 - 特許庁

By co-injecting or premixing the deposition or etch precursor gas and film purification compound prior to injection, the deposition or etch process may be optimized with respect to growth/etch rate and achievable material purity.例文帳に追加

付着前駆体ガスまたはエッチング前駆体ガスと膜純化化合物との同時注入または噴射前の予混合によって、成長／エッチング速度および達成可能な材料純度に関して、付着プロセスまたはエッチング・プロセスを最適化する。 - 特許庁

The M plasma parameters are selected from a group including wafer voltage, ion density, etch rate, wafer current, etch selectivity, ion energy, and ion mass.例文帳に追加

Ｍ個のプラズマパラメータはウェハ電圧、イオン密度、エッチング速度、ウェハ電流、エッチング選択性、イオンエネルギー及びイオン質量を含む群から選択される。 - 特許庁

Damaged LiNbO_3 has an etch rate much faster than undamaged LiNbO_3 and an annealing process is not necessary for forming an etch stopping layer.例文帳に追加

損傷を受けたＬｉＮｂＯ_３は未損傷ＬｉＮｂＯ_３よりもはるかに速いエッチングレートを有し、エッチストップ層を形成するためにアニールプロセスは必要ではない。 - 特許庁

Since the etch rate increases in the grain boundaries 211, the nanocrystals 212 can be formed uniformly and at high density.例文帳に追加

この時、グレーン境界211部分での蝕刻比が増加するため、ナノ結晶212が均一で高密度に形成される。 - 特許庁

Continuously, only an aluminum film which is not yet reacted is eliminated by etching by utilizing the difference of etch rate between the alloy film 27 and the aluminum film.例文帳に追加

続いて、合金膜２７とアルミニウム膜のエッチング速度の差を利用して、未反応のアルミニウム膜だけをエッチングにより除去する。 - 特許庁

A high RF frequency source is employed in certain embodiments to achieve a high etch rate with high selectivity to inorganic dielectric layers.例文帳に追加

所定の実施形態において高ＲＦ周波ソースを用いることで高いエッチング速度を無機誘電体層に対しての高い選択性で達成する。 - 特許庁

To etch a silicon-containing film such as a silicon film or a silicon oxide film at a high rate without leaving residues, while suppressing etching of a base film.例文帳に追加

下地膜のエッチングを抑制しつつ、シリコン又は酸化シリコンのシリコン含有膜を残渣無く、かつ高レートでエッチングする。 - 特許庁