HB1とは 意味・読み方・使い方
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遺伝子名称シソーラスでの「HB1」の意味 |
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HB1
fly | 遺伝子名 | HB1 |
同義語(エイリアス) | FB4/HB1; HB2; HB; HB element | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | --- | |
その他のDBのID | FlyBase:FBgn0001181 |
human | 遺伝子名 | Hb-1 |
同義語(エイリアス) | hard keratin type II 1; MLN137; ghHKb1; hHAKB2-1; KRTHB1; Hair keratin, type II Hb1; KRT81; MLN 137; ghHb1; ghHkb1; keratin 81; Keratin, type II cuticular Hb1 | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q14533 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:3887 | |
その他のDBのID | HGNC:6458 |
human | 遺伝子名 | Hb1 |
同義語(エイリアス) | Hair keratin, type II Hb6; KRTHB6; MNX; HB6; hHb6; KRT86; hard keratin type II 6; KRTHB1; keratin 86; ghHb6; Keratin, type II cuticular Hb6 | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:O43790 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:3892 | |
その他のDBのID | HGNC:6463 |
human | 遺伝子名 | HB-1 |
同義語(エイリアス) | histocompatibility (minor) HB-1; HMHB1; HLA-HB1 | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:57824 | |
その他のDBのID | HGNC:29677 |
human | 遺伝子名 | HB-1 |
同義語(エイリアス) | PEG10; Mart2; KIAA1051; Edr; RGAG3; MEF3L; Mar2; paternally expressed 10 | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:23089 | |
その他のDBのID | HGNC:14005 |
mouse | 遺伝子名 | HB-1 |
同義語(エイリアス) | Mart2; Edr; Peg10; MEF3L; MyEF-3; Mar2; AA407948; paternally expressed 10; MyEF-3 like | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:170676 | |
その他のDBのID | MGI:2157785 |
本文中に表示されているデータベースの説明
- SWISS-PROT
- スイスバイオインフォマティクス研究所と欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発・運営されているタンパク質のアミノ酸配列のデータベース。
- EntrezGene
- NCBIによって運営されている遺伝子データベース。染色体上の位置、配列、発現、構造、機能、ホモロジーデータなどが含まれている。
- FlyBase
- 米英の大学のショウジョウバエの研究者などにより運営される、ショウジョウバエの生態や遺伝子情報に関するデータベース。
- HGNC
- HUGO遺伝子命名法委員会により運営される、ヒト遺伝子に関するデータベース。
- MGI
- 様々なプロジェクトによる、研究用マウスの遺伝的・生物学的なデータを提供するデータベース。
「HB1」を含む例文一覧
該当件数 : 13件
An optimum exposure time is calculated by using the maximum effective values Hr1D, Hg1D and Hb1D of the 1st histograms Hr1, Hg1 and Hb1 and the maximum effective values Hr2D, Hg2D and Hb2D of the 2nd histograms Hr2, Hg2 and Hb2.例文帳に追加
第1のヒストグラムHr1、Hg1、Hb1の最大有効値Hr1D、Hg1D、Hb1Dと、第2のヒストグラムHr2、Hg2、Hb2の最大有効値Hr2D、Hg2D、Hb2Dを用いて最適露光時間を算出する。 - 特許庁
The radiating element 21 has the height of Hb1 and the width of Lb1, and includes a power supply unit 25 at the lower center of it.例文帳に追加
放射素子21は、高さがHb1、横幅がLb1で下側中央に給電部25を備える。 - 特許庁
The conductive holes HB1, HB2 and the conductive holes HC1, HC2 are arrayed along the scanning line 22.例文帳に追加
導通孔HB1と導通孔HB2と導通孔HC1と導通孔HC2とは、走査線22に沿って配列する。 - 特許庁
Here, in formula (1), Hb2=Hb1+ΔLc+α×ΔLc, and in formula (2), Ss2=Ss1+ΔLc+α×ΔLc.例文帳に追加
Hb2=Hb1+ΔLc+α・ΔLc・・・(1) Ss2=Ss1+ΔLc+α・ΔLc・・・(2) - 特許庁
A posture of fuses F are assumed into a regulated inserting order HB1 only one-sidedly by position regulation means (11-16).例文帳に追加
位置規制手段(11〜16)によって、ヒューズFの姿勢を一義的に正規の挿着順序HB1に規定するようにした。 - 特許庁
The rubber hardness HC of the cap rubber layer 20 is 60-80°, the rubber hardness HB1 of the inner base rubber portion 21A is 50-65°, and the rubber hardness HB2 of the outer base rubber portion 21B is 75-95°, where the rubber hardness is HB1<HC<HB2.例文帳に追加
前記キャップゴム層20のゴム硬度HCは60〜80゜、前記内ベースゴム部21Aのゴム硬度HB1は50〜65゜、前記外ベースゴム部21Bのゴム硬度HB2は75〜95゜、しかもゴム硬度をHB1<HC<HB2とした。 - 特許庁
Histograms HR1, HG1, HB1, HR2, HG2 and HB2 showing the appearance frequency of a pixel value constituting the image data are prepared for each color component.例文帳に追加
画像データを構成する画素値の出現頻度を示すヒストグラムHR1、HG1、HB1、HR2、HG2、HB2を各色成分毎に作成する。 - 特許庁
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「HB1」を含む例文一覧
該当件数 : 13件
Widths Ha2, Hb2 in directions of the second convex portion 22 are not more than widths Ha1, Hb1 in directions of the first convex portions 12, 13.例文帳に追加
そして、第2凸状部22のそれぞれの方向の幅Ha2、Hb2は、第1凸状部12、13のそれぞれの方向の幅Ha1、Hb1以下としている。 - 特許庁
The reflective element 22 is designed so that its height Hb2 is about the same as Hb1 which is the height of the radiating element 21, and is designed so that its width Lb2 is wider than Lb1 which is the width of the radiating element 21.例文帳に追加
反射素子22は、放射素子21の高さHb1と略同じ高さHb2に設定し、横幅Lb2を放射素子21の横幅Lb1より広く設定する。 - 特許庁
The first electrode 52 is formed on the surface of the planarization layer 48 and is connected to a drain electrode of the current source transistor TS via the conduction hole Hb1 which is formed in a side in the planarization layer 48 and the second insulating layer 46, wherein the side is opposite to the light emitting element E side across the current source transistor TS.例文帳に追加
第1電極52は、平坦化層48の面上に形成され、平坦化層48および第2絶縁層46のうち電流源トランジスタTSを挟んで発光素子Eとは反対側に形成された導通孔Hb1を介して電流源トランジスタTSのドレイン電極に接続される。 - 特許庁
The first intermediate conductive layer 541 is conducted to the first switching element Q1 through a conductive hole HB1 of a first insulating layer L1, and the second intermediate conductive layer 542 is conducted to the second switching element Q2 through a conductive hole HB2 of the first insulating layer L1.例文帳に追加
第1中間導電層541は、第1絶縁層L1の導通孔HB1を介して第1スイッチング素子Q1に導通し、第2中間導電層542は、第1絶縁層L2の導通孔HB2を介して第2スイッチング素子Q2に導通する。 - 特許庁
A biased magnetic field Hb1 along the magnetization direction J13A of the free layer, when the current magnetic field HmA is zero is applied to the MR element 51A by the magnetic substrate, thereby enhancing the unidirectional anisotropy of the free layer, without using shape anisotropy.例文帳に追加
ここでは、磁性基板によって電流磁界HmAが零のときの自由層の磁化方向J13Aに沿ったバイアス磁界Hb1をMR素子51Aに対して印加するようにしたので、形状異方性を利用しなくとも自由層の一軸異方性を強めることができる。 - 特許庁
In this case, since it is possible to apply bias magnetic fields Hb1 and Hb2 each to the MR elements 3A and 3B by the magnetic substrates 6A and 6B, it is possible to accurately and stably detect a current magnetic field Hm based on the current Im to be detected while sufficiently avoiding the effects of undesired disturbing magnetic fields from the outside.例文帳に追加
磁性基板6A,6BによってMR素子3A,3Bに対してバイアス磁界Hb1,Hb2をそれぞれ印加することができるので、外部からの不要な擾乱磁界の影響を十分に回避しつつ、検出対象電流Imに基づく電流磁界Hmを正確に、かつ安定して検知することができる。 - 特許庁
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